TH7668A3 - กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใสและผลิตภัณฑ์ดังกล่าว สำหรับการป้องกันไฟฟ้าสถิต - Google Patents

กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใสและผลิตภัณฑ์ดังกล่าว สำหรับการป้องกันไฟฟ้าสถิต

Info

Publication number
TH7668A3
TH7668A3 TH1003000365U TH1003000365U TH7668A3 TH 7668 A3 TH7668 A3 TH 7668A3 TH 1003000365 U TH1003000365 U TH 1003000365U TH 1003000365 U TH1003000365 U TH 1003000365U TH 7668 A3 TH7668 A3 TH 7668A3
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
electrostatic protection
glass
producing thin
products
metal oxides
Prior art date
Application number
TH1003000365U
Other languages
English (en)
Other versions
TH7668C3 (th
Inventor
อัศวเสถียร นางสาวดรุณี
ตีระวัฒนานนท์ นางสาวจันทร์เพ็ญ
Original Assignee
นางสาวอรุณศรี ศรีธนะอิทธิพล
นายชาญชัย นีรพัฒนกุล
นางสาวอรกนก พรรณรักษา
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวอรุณศรี ศรีธนะอิทธิพล, นายชาญชัย นีรพัฒนกุล, นางสาวอรกนก พรรณรักษา filed Critical นางสาวอรุณศรี ศรีธนะอิทธิพล
Publication of TH7668A3 publication Critical patent/TH7668A3/th
Publication of TH7668C3 publication Critical patent/TH7668C3/th

Links

Abstract

DC60 กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใสและผลิตภัณฑ์ดังกล่าวตามการประดิษฐ์นี้ ที่ซึ่งแผ่นฟิล์ม ดังกล่าวที่มีโครงสร้างเป็นแผ่นฟิล์มชั้นเดียวเคลือบอยู่บนแผ่นแก้ว โดยการใช้โลหะออกไซด์หรือโลหะ ออกไซด์ที่มีการเจือสารตัวนำไฟฟ้าอีกหนึ่งชนิดเคลือบอยู่บนแผ่นแก้ว สำหรับการใช้งานเป็นแผ่นรอง เพื่อการป้องกันไฟฟ้าสถิตในอุตสาหกรรมฮาร์ดดิสก์ไดรฟ์ และอิเล็กทรอนิกส์ กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใสและผลิตภัณฑ์ดังกล่าวตามการประดิษฐ์นี้ ที่ซึ่งแผ่นฟิล์มดังกล่าวที่มีโครงสร้างเป็นแผ่นฟิล์มชั้นเดียวเคลือบอยู่บนแผ่นแก้ว โดยการใช้โลหะออกไซด์หรือโลหะออกไซด์ที่มีการเจือสารตัวนำไฟฟ้าอีกชั้นหนึ่งชนิดเคลือบอยู่บนแผ่นแก้ว สำหรับการใช้งานเป็นแผ่นรอง เพื่อการป้องกันไฟฟ้าสถิตในอุตสาหกรรมฮาร์ดดิสก์ไดรฟ์ และอิเล็กทรอนิกส์

Claims (1)

1.กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใส ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอน คือ - การนำซับสเตรทเข้าเครื่องเคลือบฟิล์มที่มีแท่งโลหะออกไซด์เป็นเป้า - การเคลือบฟิล์มบางของโลหะออกไซด์บนซับสเตรททั้งสองด้านที่มีอัตราการไหลของก๊าซอาร์กอนเท่ากับ 5-8 ลูกบาศก์เซนติเมตร, กำลังไฟ 100-250 วัตต์ อุณหภูมิ 200-250 องศาเซลเซียส เวลา3-6 นาที
TH1003000365U 2010-04-29 กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใสและผลิตภัณฑ์ดังกล่าว สำหรับการป้องกันไฟฟ้าสถิต TH7668C3 (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH7668A3 true TH7668A3 (th) 2012-12-13
TH7668C3 TH7668C3 (th) 2012-12-13

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011205089A5 (ja) 半導体膜の作製方法
WO2011119007A3 (ko) 방열 테이프 및 그 제조 방법
JP2014067701A5 (ja) 導電性酸化物膜、電子機器、及び導電性酸化物膜の作製方法
WO2010126336A3 (ko) 금속산화물 나노입자를 이용한 가스센서 및 그 제조방법
EA033122B1 (ru) Способ получения подложки, покрытой набором, содержащим слой прозрачного проводящего оксида
JP2010262275A5 (ja) 表示装置及び表示装置の作製方法
WO2011056570A3 (en) Conductive metal oxide films and photovoltaic devices
JP2013539502A5 (th)
JP2014503783A5 (th)
WO2014085315A3 (en) Method for forming a barrier layer
IN2015DN01730A (th)
JP2017503880A5 (th)
LT2013053A (lt) Paviršiumi aktyvuotos ramano sklaidos (pars) jutiklis ir jo gamybos būdas
MY200383A (en) Substrate having a stack with thermal properties
JP2016523788A5 (th)
JP2011153373A5 (ja) 薄膜形成装置
JP2011119246A5 (ja) 発光装置の作製方法、および発光装置
MX2017004159A (es) Sustrato provisto con una pila que tiene propiedades termicas y una capa intermedia superestequiometrica.
WO2007022275A3 (en) Siox:si sputtering targets and method of making and using such targets
GB2507896A (en) Electronic device
JP2012049364A5 (th)
TH7668A3 (th) กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใสและผลิตภัณฑ์ดังกล่าว สำหรับการป้องกันไฟฟ้าสถิต
TH7668C3 (th) กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใสและผลิตภัณฑ์ดังกล่าว สำหรับการป้องกันไฟฟ้าสถิต
JP2011207754A5 (th)
JP2007258634A5 (th)