TH75925A - สารผสมเพื่อทำความสะอาดสำหรับซับสเทรทไมโครอิเล็กทรอนิกส์ - Google Patents

สารผสมเพื่อทำความสะอาดสำหรับซับสเทรทไมโครอิเล็กทรอนิกส์

Info

Publication number
TH75925A
TH75925A TH501003541A TH0501003541A TH75925A TH 75925 A TH75925 A TH 75925A TH 501003541 A TH501003541 A TH 501003541A TH 0501003541 A TH0501003541 A TH 0501003541A TH 75925 A TH75925 A TH 75925A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
approximately
weight
percent
mixture
group
Prior art date
Application number
TH501003541A
Other languages
English (en)
Other versions
TH62677B (th
Inventor
เอ็ม เคน นายฌอน
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายรุทร นพคุณ
นายรุทร นพคุณ
อแวนเทอร์ เพอร์ฟอร์แมนซ์ แมทีเรียลส์
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายรุทร นพคุณ, นายรุทร นพคุณ, อแวนเทอร์ เพอร์ฟอร์แมนซ์ แมทีเรียลส์ filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH75925A publication Critical patent/TH75925A/th
Publication of TH62677B publication Critical patent/TH62677B/th

Links

Abstract

DC60 (02/11/59) สารผสมเพื่อทำความสะอาดและเพื่อการสทริปสำหรับทำความสะอาดซับสเทรทไมโคร อิเล็กทรอนิกส์, สารผสมนี้ประกอบรวมด้วย : ตัวทำละลายเพื่อการสทริปชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิด, นิวคลีโอฟิลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด, กรดอ่อนชนิดไม่มีไนโตรเจนอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดในปริมาณที่มากเพียงพอต่อการทำให้เป็นกลางจากประมาณ 3 เปอร์เซ็นต์ถึงประมาณ 75 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักของนิวคลีโอฟิลิกแอมีน ในลักษณะที่ว่า สารผสมเพื่อการสทริปนี้มีพีเอชของ แอคเควียสจากประมาณ 9.6 ถึงประมาณ 10.9,กรดอ่อนดังกล่าวมีค่าพีเคในสารละลายแอคเควียส เท่ากับ 2.0 หรือมากกว่า และน้ำหนักสมมูลน้อยกว่า 140, สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยไดเอธิลีนไกลคอลและไดเอธิลีนไกลโคลามีนและ น้ำ และวิธีการสำหรับการทำความสะอาดซับสเทรทด้วยสารผสมเหล่านี้

Claims (32)

------05/10/2560------(OCR) หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้า ข้อถือสิทธิ 1. สารผสมเพื่อการทำความสะอาดและเพื่อการสทริป (stripping) สำหรับการทำความ สะอาดซับสเทรทไมโครอิเล็กทรอนิกส์, ซึ่งสารผสมนี้ประกอบด้วย: 20 ถึง 80% โดยน้ำหนักของสารผสมของ N-เมธิลพิร์โรลิโดน, โมโนเอธาโนลามีนใน ปริมาณจาก 10% ถึง 45% ที่มีพื้นฐานบนน้ำหนักของสารผสม, จาก 5% ถึง 15% โดยน้ำหนักของ สารผสมของไดเอธิลลีนไกลคอลเป็นสารประกอบเพื่อการขจัดโลหะ, คาทีคอลในปริมาณเพียงพอ เพื่อการทำให้เป็นกลางจาก 3% ถึง 75% โดยน้ำหนักของโมโนเอธาโนลามีนเพื่อที่ว่าสารผสมเพื่อการ สทริปมีพีเอชของแอคเควียสจาก 9.6 ถึง 10.9 และน้ำ 2. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ซึ่งสารผสมมีจาก 0.5 ถึง 10% โดยน้ำหนักของคาทีคอล และจาก 0.5 ถึง 50% โดยน้ำหนักของน้ำ 3. วิธีการสำหรับการทำความสะอาดซับสเทรทไมโครอิเล็กทรอนิกส์โดยไม่ทำให้เกิด การกัดกร่อนโลหะที่เป็นสำคัญใดๆ ซึ่งซับสเทรทนีมีวัสดุพอลิเมอร์ชนิดโฟโตรีซิสต์, สิ่งตกค้าง จากการกัดขึ้นรอยและสิ่งตกค้างชนิดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด, ซึ่งกรรมวิธีนีประกอบรวมด้วย การให้ซับสเทรทสัมผัสกับสารผสมเพื่อทำความสะอาดเป็นเวลาที่มากเพียงพอที่จะทำความสะอาด ซับสเทรท, ที่ซึ่งสารผสมเพื่อทำความสะอาดนี้ประกอบด้วย: จาก 20 ถึง 80% โดยน้ำหนักของสารผสมของ N-เมธิลพิร์โรลิโคน, โมโนเอธาโนลามีนใน ปริมาณจาก 10% ถึง 45% ที่มีพื้นฐานบนน้ำหนักของสารผสม, จาก 5% ถึง 15% โดยน้ำหนักของ สารผสมของไดเอธิลลีนไกลคอลเป็นสารประกอบเพื่อการขจัดโลหะ, คาทีคอลในปริมาณเพียงพอ เพื่อการทำให้เป็นกลางจาก 3% ถึง 75% โดยน้ำหนักของโมโนเอธาโนลามีนเพื่อที่ว่าสารผสมเพื่อการ สทริปมีพีเอชของแอคเควียสจาก 9.6 ถึง 10.9 และน้ำ 4. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ที่ซึ่งสารผสมมีจาก 0.5 ถึง 10% โดยน้ำหนักของคาทีคอล และจาก 0.5 ถึง 50 % โดยน้ำหนักของน้ำ 5. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ที่ซึ่งซับสเทรทนี้ประกอบรวมด้วยซับสเทรทที่เมทัลไลซ์ ด้วยอะลมินัมซึ่งมีทางนำและมีสิ่งตกค้างชนิดโลหะ 6. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อที 3 ที่ซึ่งสิงตกค้างชนิดโลหะนี้เป็นชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น ซึ่งถูกคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยชั้นไทเทเนียมและชั้นไทเทเนียมไนไตรด์ ------------ แก้ไข 02/11/2559 1. สารผสมเพื่อการทำความสะอาดและเพื่อการสทริป (stripping) สำหรับการทำความ สะอาดซับสเทรทไมโครอิเล็กทรอนิกส์, สารผสมนี้ประกอบด้วย a) ตัวทำละลายเพื่อการสทริปชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งประกอบรวมด้วย ตัวทำละลายซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย 2-พิร์โรลิดิโนน, 1-เมธิล-2 -พิร์โรลิดิโนน, 1-เอธิล-2- พิร์โรลิดิโนน, 1-โพรพิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1-ไฮดรอกซีเอธิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1-ไฮดรอกซีโพรพิล-2- พิร์โรลิดิโนน, ไดเอธิลีนไกลคอลโมโนแอลคิลอีเธอร์ซึ่งมีสูตร HO-CH2-O-CH2-CH2-O-R โดย R คือ อนุมูลแอลคิลซึ่งมีอะตอมคาร์บอนจาก 1 ถึง 4 อะตอม, ไดแอลคิลซัลโฟนที่มีสูตร R1-S(O)(O)-R2 โดย R1 และ R2 คือแอลคิลที่มีอะตอมคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม, ไดเมธิลซัลฟอกไซด์ (DMSO), ซัลโฟเลน, เมธิลซัลโฟเลน, แอลคิลซัลโฟเลน, ไดเมธิลอะซิทามีด และ,ไดเมธิลฟอร์มามีด; b) นิวคลีโอฟิลิกแอลคาโนลามีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด; c) กรดอ่อนชนิดไม่มีไนโตรเจนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดในปริมาณที่มากเพียงพอต่อ การทำให้เป็นกลางจาก 3 เปอร์เซ็นต์ถึง 75 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักของนิวคลีโอฟิลิกแอลคาโนลามีน ในลักษณะที่ว่า สารผสมเพื่อการสทริปนี้มีพีเอชของแอคเควียสจาก 9.6 ถึง 10.9 กรดอ่อนดังกล่าวนี้ มีค่าพีเคในสารละลายแอคเควียสเท่ากับ 2:0 หรือมากกว่าและน้ำหนักสมมูลน้อยกว่า 140, d) สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่ง ประกอบด้วยไดเอธิลีนไกลคอลและไดเอธิลีนไกลโคลามีน, e) น้ำ, และ อาจเลือกให้มีส่วนประกอบหนึ่งชนิดหรือมากกว่าซึ่งถูกคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย สารประกอบด้านการกัดกร่อน/สารประกอบเพื่อทำสารเชิงซ้อนชนิดโลหะ, สารยับยั้งการกัดกร่อน อื่นๆ และเชอร์แฟกเทนท์ 2. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งตัวทำละลายเพื่อการสทริปชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดนี้ประกอบรวมด้วยตัวทำละลายที่ถูกคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดน, ไดเมธิลอะซีทามีด และไดเมธิลซัลฟอกไซด์ 3. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งแอลคาโนลามีนนี้ถูกคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย โมโนเอธาโนลามีนและ 1-อะมิโน-2-โพรพานอล 4. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งกรดอ่อนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ประกอบรวมด้วย คาทีคอล 5. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 4 ที่ซึ่งตัวทำละลายเพื่อการสทริปชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดน,แอลคาโนลามีนประกอบรวมด้วยโมโนเอธาโนลา มีนและสารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ประกอบรวมด้วยไดเอธิลีนไกลดอล 6. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยส่วนประกอบหนึ่งชนิดหรือ มากกว่าที่ถูกคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย : สารประกอบด้านการกัดกร่อน/สารประกอบเพื่อทำ สารเชิงซ้อนชนิดโลหะ, สารยับยั้งการกัดกร่อนอื่นๆ และเซอร์แฟกเทนท์ 7. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยส่วนประกอบหนึ่งชนิดหรือ มากกว่าซึ่งถูกคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารประกอบด้านการกัดกร่อน/สารประกอบเพื่อทำ สารเชิงซ้อนชนิดโลหะ, สารยับยั้งการกัดกร่อนอื่นๆ และเซอร์แฟกเทนท์ 8. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยตัวทำละลายเพื่อการสทริปอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดจาก 20 ถึง 80 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, นิวคลีโอฟิลิกแอลคาโนลามีนอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจาก 1 ถึง 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดจาก 0.5 ถึง 40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, กรดอ่อนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจาก 0.5 ถึง 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และน้ำจาก 0.5 ถึง 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 9. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนจาก 20 ถึง 80 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, โมโนเอธาโนลามีนจาก 1 ถึง 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, ไดเอธิลลีนไกลคอล จาก 0.5 ถึง 40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, คาทีคอลจาก 0.5 ถึง 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และน้ำจาก 0.5 ถึง 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 10. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยตัวทำละลายเพื่อการสทริปชนิด อินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจาก 40 ถึง 60 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, นิวคลีโอฟิลิกแอลคาโนลามีน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจาก 20 ถึง 30 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดจาก 5 ถึง 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, กรดอ่อนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจาก 2 ถึง 6 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และน้ำอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจาก 5 ถึง 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 11. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนจาก 40 ถึง 60 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, โมโนเอธาโนลามีนจาก 20 ถึง 30 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, ไดเอธิลลีน ไกลคอลจาก 5 ถึง 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, คาทีคอลจาก 2 ถึง 6 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และน้ำจาก 5 ถึง 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 12. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 11 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดน 46 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก, โมโนเอธาโนลามีน 23 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, ไดเอธิลลีนไกลคอลจาก 11 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก, คาทีคอล 5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และน้ำ 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 13. วิธีการสำหรับการทำความสะอาดซับสเทรทไมโครอิเล็กทรอนิกส์โดยไม่ทำให้เกิด การกัดกร่อนโลหะที่เป็นสำคัญใดๆ ซึ่งซับสเทรทนี้มีวัสดุพอลิเมอร์ชนิดโฟโตรีซิสต์; สิ่งตกค้างจาก การกัดขึ้นรอยและสิ่งตกค้างชนิดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด, ซึ่งกรรมวิธีนี้ประกอบรวมด้วย การให้ซับสเทรทสัมผัสกับสารผสมเพื่อทำความสะอาดเป็นเวลาที่มากเพียงพอที่จะทำความสะอาด ซับสเทรท ที่ซึ่งสารผสมเพื่อทำความสะอาดนี้ประกอบด้วย a) ตัวทำละลายเพื่อการสทริปชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งประกอบรวมด้วย ตัวทำละลายซึ่งถูกคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย 2-พิร์โรลิดิโนน,1-เมธิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1-เอธิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1-โพรพิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1-ไฮดรอกชีเอธิล-2-พิร์โรลิดิโนน, 1-ไฮดรอกซี โพรพิล-2-พิร์โรลิดิโนน, ไดเอธิลีนไกลคอลโมโนแอลคิลอีเธอร์ซึ่งมีสูตร HO-CH2-O-CH2-CH2-O-R โดย R คืออนุมูลแอลคิลซึ่งมีอะตอมคาร์บอนจาก 1 ถึง 4 อะตอม, ไดแอลคิลซัลโฟนที่มีสูตร R1-S(O)(O)-R2 โดย R1 และ R2 คือแอลคิลที่มีอะตอมคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม, ไดเมธิลซัลฟอกไซด์ (DMSO), ซัลโฟเลน, เมธิลซัลโฟเลน, แอลคิลซัลโฟเลน, ไดเมธิลอะซิทามีด และไดเมธิลฟอร์มามีด; b) นิวคลีโอพีลิกแอลคาโนลามีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด, c) กรดอ่อนชนิดไม่มีไนโตรเจนอย่างห้อยที่สุดหนึ่งชนิดในปริมาณที่มากเพียงพอต่อ การทำให้เป็นกลางจาก 3 เปอร์เซ็นต์ถึง 75 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักของนิวคลีโอฟิลิกแอลคาโนลามีน ในลักษณะที่ว่า สารผสมเพื่อการสทริปนี้มีพีเอชของแอคเควียสจาก 9.6 ถึง 10.9 กรดอ่อนตังกล่าวนี้ มีค่าพีเคในสารละลายแอคเควียสเท่ากับ 2.0 หรือมากกว่า และนำหนักสมมูลน้อยกว่า 140, d) สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งถูกคัดเลือกจากกลุ่มซึ่ง ประกอบด้วยไดเอธิลีนไกลคอล และไดเอธิลีนไกลโคลามีน, e) น้ำ, และ อาจเลือกให้มีส่วนประกอบหนึ่งชนิดหรือมากกว่าซึ่งถูกคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย : สารประกอบต้านการกัดกร่อน/สารประกอบเพื่อทำสารเชิงซ้อนชนิดโลหะ, สารยับยั้งการกัดกร่อน อื่นๆ และเซอร์แฟกเทนท์ 14. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งตัวทำละลายเพื่อการสทริปชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดนี้ประกอบรวมด้วยตัวทำละลายที่ถูกคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดน, ไดเมธิลอะซีทามีด และไดเมธิลซัลฟอกไซด์ 15. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งแอลคาโนลามีนนี้ถูกคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย โมโนเอธาโนลามีน และ 1-อะมิโน-2-โพรพานอล 16. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 15 ซึ่งกรดอ่อนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งนี้ประกอบรวมด้วยคาทีคอล 17. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 16 ที่ซึ่งตัวทำละลายเพื่อการสทริปชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดน,แอลคาโนลามีนประกอบรวมด้วยโมโนเอธาโนลา มีน และสารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ประกอบรวมด้วยไดเอธิลีน ไกลคอล 18. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยส่วนประกอบหนึ่งชนิดหรือ มากกว่าที่ถูกคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยะสารประกอบด้านการคัดกร่อน/สารประกอบเพื่อทำ สารเชิงซ้อนชนิดโลหะ, สารยับยั้งการคัดกร่อนอื่นๆ และเซอร์แฟกเทนท์ 19. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 17 ซึ่งประกอบรวมเพื่มเติมด้วยส่วนประกอบหนึ่งชนิดหรือ มากกว่าที่ถูกคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย : สารประกอบด้านการคัดกร่อน/สารประกอบเพื่อทำ สารเชิงซ้อนชนิดโลหะ, สารยับยั้งการคัดกร่อนอื่นๆ และเซอร์แฟกเทนท์ 20. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ซึ่งประกอบรวมด้วยตัวทำละลายเพื่อการสทริปชนิดอินทรีย์ อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจาก 20 ถึง 80 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, นิวคลีโอทีเลิกแอลคาโนลามีนอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดจาก 1 ถึง 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดจาก 0.5 ถึง 40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, กรดอ่อนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจาก 0.5 ถึง 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และน้ำจาก 0.5 ถึง 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 21. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 17ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนจาก 20 ถึง 80 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, โมโนเอธาโนลามีนจาก 1 ถึง 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, ไดเอธิลลีนไกลคอล จาก 0.5 ถึง 40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, คาทีคอลจาก 0.5 ถึง 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และน้ำจาก 0.5 ถึง 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 22. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ซึ่งประกอบรวมด้วยตัวทำละลายเพื่อการสทริปชนิด อินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจาก 40 ถึง 60 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, นิวคลีโอทีเลิกแอลคาโนลามีน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจาก 20 ถึง 30 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดจาก 5 ถึง 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, กรดอ่อนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจาก 2 ถึง 6 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และน้ำอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจาก 5 ถึง 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 23. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 17 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนจาก 40 ถึง 60 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, โมโนเอธาโนลามีนจาก 20 ถึง 30 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, ไดเอธิลลีน ไกลคอลจาก 5 ถึง 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, คาทีคอลจาก 2 ถึง 6 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และน้ำจาก 5 ถึง 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 24. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 23 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดน 46 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนัก, โมโนเอธาโนลามีน 23 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, ไดเอธิลลีนไกลคอลจาก 11 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนัก, ดาทีคอล 5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และน้ำ 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก 25. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งซับสเทรทนี้ประกอบรวมด้วยซับสเทรทที่เมทัลไลซ์ ด้วยอะลูมินัมซึ่งมีทางนำและมีสิ่งตกค้างชนิดโลหะ 26. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ที่ซึ่งสิ่งตกด้างชนิดโลหะนี้เป็นชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น ซึ่งถูกคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยชั้นไทเทเนียม และชั้นไทเทเนียมไนไตรต์ 27. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 17 ที่ซึ่งซับสเทรทนี้ประกอบรวมด้วยซับสเทรทที่เมทัลไลซ์ ด้วยอะลูมินัมซึ่งมีทางนำและมีสิ่งตกค้างชนิดโลหะ 28. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 27 ที่ซึ่งสิ่งตกค้างชนิดโลหะนี้เป็นชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น ซึ่งถูกคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยชั้นไทเทเนียมและชั้นไทเทเนียมไนไตรต์ ----------------------------------
1. สารผสมเพื่อทำความสะอาดและเพื่อการลอกสำหรับทำความสะอาดซับสเทรท ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ซึ่งประกอบรวมด้วย a) ตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด b) นิวคลีโอฟิลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด c) กรดอ่อนชนิดไม่มีไนโตรเจนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดในปริมาณที่มากเพียงพอต่อการทำ ให้เป็นกลางจากประมาณ 3 เปอร์เซ็นต์ถึงประมาณ 75 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักของนิวคลีโอฟิลิกแอมีน ในลักษณะที่ว่าสารผสมเพื่อการลอกนี้มีพีเอชของแอคเควียสจากประมาณ 9.6 ถึงประมาณ 10.9 กรดอ่อนดังกล่าวนี้มีค่าพีเคในสารละลายแอคเควียสเท่ากับ 2.0 หรือมากกว่าและน้ำหนักสมมูล น้อยกว่า 140 d) สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่ง ประกอบด้วยไดเอธิลีนไกลคอลและไดเอธิลีนไกลโคลามีน และ e) น้ำ
2. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งนิวคลีโอฟิลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ประกอบ รวมด้วยแอลคาโนลามีน
3. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดนี้ประกอบรวมด้วยตัวทำละลายที่คัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดน, ไดเมธิลอะซีทามีด และไดเมธิลซัลโซออกไซด์
4. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ที่ซึ่งนิวคลีโอฟิลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ประกอบ รวมด้วยแอลคาโนลามีน
5. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 4 ที่ซึ่งแอลคาโนลามีนนี้คัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย โมโนเอธาโนลามีนและ 1-อะมิโน-2-โพรพานอล
6. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งกรดอ่อนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งนี้ประกอบรวมด้วยคาทีคอล
7. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 6 ที่ซึ่งตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิดีน,แอลคาโนลามีนประกอบรวมด้วยโมโนเอธาโนลามีนและ สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ประกอบรวมด้วยไดเอธิลีนไกลคอล
8. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยส่วนประกอบหนึ่งชนิดหรือ มากกว่าที่คัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย : สารประกอบต้านการกัดกร่อน/สารประกอบเพื่อทำสาร เชิงซ้อนชนิดโลหะ สารยับยั้งการกัดกร่อนอื่นๆ และเซอร์แฟกเทนท์
9. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยส่วนประกอบหนึ่งชนิดหรือ มากกว่าซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารประกอบต้านการกัดกร่อน/สารประกอบเพื่อทำสาร เชิงซ้อนชนิดโลหะ สารยับยั้งการกัดกร่อนอื่นๆ และเซอร์แฟกเทนท์
10. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยตัวทำละลายเพื่อการลอกอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 80 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก นิวคลีโอฟีลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 1 ถึงประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก กรดอ่อนอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำจากประมาณ 0.5 ถึง ประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
11. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนจากประมาณ 20 ถึง ประมาณ 80 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก โมโนเอธาโนลามีนจากประมาณ 1 ถึงประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก ไดเอธิลลีนไกลคอลจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก คาทีคอล จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
12. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 40 ถึงประมาณ 60 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก นิวคลีโอฟีลิกแอมีนอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 30 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สารประกอบเพื่อการ ขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก กรดอ่อน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 2 ถึงประมาณ 6 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
13. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนจากประมาณ 40 ถึง ประมาณ 60 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก โมโนเอธาโนลามีนจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 30 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก ไดเอธิลลีนไกลคอลจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก คาทีคอล จากประมาณ 2 ถึงประมาณ 6 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
14. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนประมาณ 46 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก โมโนเอธาโนลามีนจากประมาณ 23 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก ไดเอธิลลีนไกลคอลจากประมาณ 11 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก คาทีคอลประมาณ 5 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนักและน้ำประมาณ 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
15. วิธีการสำหรับการทำความสะอาดซับสเทรทไมโครอิเล็กทรอนิกส์โดยไม่ทำให้เกิดการกัด กร่อนโลหะที่เป็นสำคัญใดๆ ซับสเทรทนี้มีวัสดุพอลิเมอร์ชนิดโฟโตรีซิสต์; สิ่งตกค้างจากการ กัดขึ้นรอยและสิ่งตกค้างชนิดโลหะ, กรรมวิธีนี้ประกอบรวมด้วยการให้ซับสเทรทสัมผัสกับสารผสม เพื่อทำความสะอาดเป็นเวลาที่มากเพียงพอที่จะทำความสะอาดซับสเทรท โดยที่สารผสมเพื่อทำความ สะอาดนี้ประกอบรวมด้วย a) ตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด b) นิวคลีโอฟิลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด c) กรดอ่อนชนิดไม่มีไนโตรเจนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดในปริมาณที่มากเพียงพอต่อการทำ ให้เป็นกลางจากประมาณ 3 เปอร์เซ็นต์ถึงประมาณ 75 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักของนิวคลีโอฟิลิกแอมีน ในลักษณะที่ว่าสารผสมเพื่อการลอกนี้มีพีเอชของแอคเควียสจากประมาณ 9.6 ถึงประมาณ 10.9 กรดอ่อนดังกล่าวนี้มีค่าพีเคในสารละลายแอคเควียสเท่ากับ 2.0 หรือมากกว่าและน้ำหนักสมมูล น้อยกว่า 140 d) สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่ง ประกอบด้วยไดเอธิลีนไกลคอลและไดเอธิลีนไกลโคลามีน และ e) น้ำ
16. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 15 ที่ซึ่งนิวคลีโอฟิลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ประกอบรวม ด้วยแอลคาโนลามีน
17. วิธีการตามข้อถือสิทธิ 15 ที่ซึ่งตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดนี้ประกอบรวมด้วยตัวทำละลายที่คัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดน, ไดเมธิลอะซีทามีด และไดเมธิลซัลโซออกไซด์
18. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 17 ที่ซึ่งนิวคลีโอฟิลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ประกอบรวม ด้วยแอลคาโนลามีน
19. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 18 ที่ซึ่งแอลคาโนลามีนนี้คัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย โมโนเอธาโนลามีนและ 1-อะมิโน-2-โพรพานอล
20. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 19 ซึ่งกรดอ่อนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งนี้ประกอบรวมด้วยคาทีคอล
21. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 20 ที่ซึ่งตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิดีน, แอลคาโนลามีนประกอบรวมด้วยโมโนเอธาโนลามีนและ สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ประกอบรวมด้วยไดเอธิลีนไกลคอล
22. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 15 ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยส่วนประกอบหนึ่งชนิดหรือ มากกว่าที่คัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย : สารประกอบต้านการกัดกร่อน/สารประกอบเพื่อทำ สารเชิงซ้อนชนิดโลหะ สารยับยั้งการกัดกร่อนอื่นๆ และเซอร์แฟกเทนท์
23. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 21 ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยส่วนประกอบหนึ่งชนิดหรือ มากกว่าซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารประกอบต้านการกัดกร่อน/สารประกอบเพื่อทำ สารเชิงซ้อนชนิดโลหะ สารยับยั้งการกัดกร่อนอื่นๆ และเซอร์แฟกเทนท์
24. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 15 ซึ่งประกอบรวมด้วยตัวทำละลายเพื่อการลอกอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 80 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก นิวคลีโอฟีลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 1 ถึงประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก กรดอ่อนอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำจากประมาณ 0.5 ถึง ประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
25. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 21 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนจากประมาณ 20 ถึง ประมาณ 80 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก โมโนเอธาโนลามีนจากประมาณ 1 ถึงประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก ไดเอธิลลีนไกลคอลจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก คาทีคอล จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
26. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 15 ซึ่งประกอบรวมด้วยตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 40 ถึงประมาณ 60 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก นิวคลีโอฟีลิกแอมีนอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 30 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สารประกอบเพื่อการ ขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก กรดอ่อน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 2 ถึงประมาณ 6 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
27. วิธิการตามข้อถือสิทธิข้อ 21 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนจากประมาณ 40 ถึง ประมาณ 60 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก โมโนเอธาโนลามีนจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 30 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก ไดเอธิลลีนไกลคอลจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก คาทีคอล จากประมาณ 2 ถึงประมาณ 6 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
28. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 27 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนประมาณ 46 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก โมโนเอธาโนลามีนจากประมาณ 23 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก ไดเอธิลลีนไกลคอลจาก ประมาณ 11 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก คาทีคอลประมาณ 5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำประมาณ 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
29. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 15 ที่ซึ่งซับสเทรทนี้ประกอบรวมด้วยซับสเทรทที่ผ่านการเคลือบ โลหะอะลูมินัมซึ่งมีทางนำและมีสิ่งตกค้างชนิดโลหะ
30. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 29 ที่ซึ่งสิ่งตกค้างชนิดโลหะนี้เป็นชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น ซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยชั้นไทเทเนียมและชั้นไทเทเนียมไนไตรด์
31. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 21 ที่ซึ่งซับสเทรทนี้ประกอบรวมด้วยซับสเทรทที่ผ่านการเคลือบ โลหะอะลูมินัมซึ่งมีทางนำและมีสิ่งตกค้างชนิดโลหะ
32. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 31 ที่ซึ่งสิ่งตกค้างชนิดโลหะนี้เป็นชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น ซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยชั้นไทเทเนียมและชั้นไทเทเนียมไนไตรด์
TH501003541A 2005-08-01 สารผสมเพื่อทำความสะอาดสำหรับซับสเทรทไมโครอิเล็กทรอนิกส์ TH62677B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH75925A true TH75925A (th) 2006-02-23
TH62677B TH62677B (th) 2018-05-25

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100950779B1 (ko) Tft―lcd 통합공정용 포토레지스트 박리제 조성물
JP4625842B2 (ja) マイクロエレクトロニクスの基板用の洗浄組成物
KR101668126B1 (ko) 포토레지스트 박리제 조성물 및 포토레지스트 박리 방법
KR101999641B1 (ko) 구리/아졸 중합체 억제를 갖는 마이크로일렉트로닉 기판 세정 조성물
JP2001183850A (ja) 剥離剤組成物
CN102472984B (zh) 剥除铜或铜合金光阻的组成物
ES2330805T3 (es) Composiciones estabilizadas limpiadoras, no acuosas, para sustratos microelectronicos.
ES2345616T3 (es) Composiciones de limpieza no acuosas para microelectronica que contienen fructosa.
KR20090106992A (ko) 포토레지스트 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 박리방법
KR102228536B1 (ko) 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법
KR20110083689A (ko) 다중-금속 소자 처리를 위한 글루콘산 함유 포토레지스트 세정 조성물
KR20110028109A (ko) 세정액 조성물
WO2009073589A1 (en) Fluoride-free photoresist stripper or residue removing cleaning compositions containing conjugate oligomeric or polymeric material of alpha-hydroxycarbonyl compound/amine or ammonia reaction
KR20130019729A (ko) 평판표시장치용 세정액 조성물 및 평판표시장치의 세정 방법
TH62677B (th) สารผสมเพื่อทำความสะอาดสำหรับซับสเทรทไมโครอิเล็กทรอนิกส์
WO2024250131A1 (en) Compositions containing n-substituted piperazines for electronic manufacturing applications
JP4165209B2 (ja) レジスト剥離剤
JP4470328B2 (ja) レジスト剥離剤
KR20080054714A (ko) 레지스트 박리용 알칼리 조성물
KR100544888B1 (ko) 구리 배선용 포토레지스트 스트리퍼 조성물
KR20170002933A (ko) 스트리퍼 조성액
JP2006178347A (ja) レジスト剥離剤
KR20100125109A (ko) 구리용 레지스트 제거용 조성물
JP5321389B2 (ja) レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法
JP2013504782A (ja) 銅系配線の形成のためのレジスト除去用組成物