TH75925A - สารผสมเพื่อทำความสะอาดสำหรับซับสเทรทไมโครอิเล็กทรอนิกส์ - Google Patents
สารผสมเพื่อทำความสะอาดสำหรับซับสเทรทไมโครอิเล็กทรอนิกส์Info
- Publication number
- TH75925A TH75925A TH501003541A TH0501003541A TH75925A TH 75925 A TH75925 A TH 75925A TH 501003541 A TH501003541 A TH 501003541A TH 0501003541 A TH0501003541 A TH 0501003541A TH 75925 A TH75925 A TH 75925A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- approximately
- weight
- percent
- mixture
- group
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (02/11/59) สารผสมเพื่อทำความสะอาดและเพื่อการสทริปสำหรับทำความสะอาดซับสเทรทไมโคร อิเล็กทรอนิกส์, สารผสมนี้ประกอบรวมด้วย : ตัวทำละลายเพื่อการสทริปชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิด, นิวคลีโอฟิลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด, กรดอ่อนชนิดไม่มีไนโตรเจนอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดในปริมาณที่มากเพียงพอต่อการทำให้เป็นกลางจากประมาณ 3 เปอร์เซ็นต์ถึงประมาณ 75 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักของนิวคลีโอฟิลิกแอมีน ในลักษณะที่ว่า สารผสมเพื่อการสทริปนี้มีพีเอชของ แอคเควียสจากประมาณ 9.6 ถึงประมาณ 10.9,กรดอ่อนดังกล่าวมีค่าพีเคในสารละลายแอคเควียส เท่ากับ 2.0 หรือมากกว่า และน้ำหนักสมมูลน้อยกว่า 140, สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยไดเอธิลีนไกลคอลและไดเอธิลีนไกลโคลามีนและ น้ำ และวิธีการสำหรับการทำความสะอาดซับสเทรทด้วยสารผสมเหล่านี้
Claims (32)
1. สารผสมเพื่อทำความสะอาดและเพื่อการลอกสำหรับทำความสะอาดซับสเทรท ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ซึ่งประกอบรวมด้วย a) ตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด b) นิวคลีโอฟิลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด c) กรดอ่อนชนิดไม่มีไนโตรเจนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดในปริมาณที่มากเพียงพอต่อการทำ ให้เป็นกลางจากประมาณ 3 เปอร์เซ็นต์ถึงประมาณ 75 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักของนิวคลีโอฟิลิกแอมีน ในลักษณะที่ว่าสารผสมเพื่อการลอกนี้มีพีเอชของแอคเควียสจากประมาณ 9.6 ถึงประมาณ 10.9 กรดอ่อนดังกล่าวนี้มีค่าพีเคในสารละลายแอคเควียสเท่ากับ 2.0 หรือมากกว่าและน้ำหนักสมมูล น้อยกว่า 140 d) สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่ง ประกอบด้วยไดเอธิลีนไกลคอลและไดเอธิลีนไกลโคลามีน และ e) น้ำ
2. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งนิวคลีโอฟิลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ประกอบ รวมด้วยแอลคาโนลามีน
3. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดนี้ประกอบรวมด้วยตัวทำละลายที่คัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดน, ไดเมธิลอะซีทามีด และไดเมธิลซัลโซออกไซด์
4. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ที่ซึ่งนิวคลีโอฟิลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ประกอบ รวมด้วยแอลคาโนลามีน
5. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 4 ที่ซึ่งแอลคาโนลามีนนี้คัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย โมโนเอธาโนลามีนและ 1-อะมิโน-2-โพรพานอล
6. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งกรดอ่อนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งนี้ประกอบรวมด้วยคาทีคอล
7. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 6 ที่ซึ่งตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิดีน,แอลคาโนลามีนประกอบรวมด้วยโมโนเอธาโนลามีนและ สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ประกอบรวมด้วยไดเอธิลีนไกลคอล
8. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยส่วนประกอบหนึ่งชนิดหรือ มากกว่าที่คัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย : สารประกอบต้านการกัดกร่อน/สารประกอบเพื่อทำสาร เชิงซ้อนชนิดโลหะ สารยับยั้งการกัดกร่อนอื่นๆ และเซอร์แฟกเทนท์
9. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยส่วนประกอบหนึ่งชนิดหรือ มากกว่าซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารประกอบต้านการกัดกร่อน/สารประกอบเพื่อทำสาร เชิงซ้อนชนิดโลหะ สารยับยั้งการกัดกร่อนอื่นๆ และเซอร์แฟกเทนท์
10. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยตัวทำละลายเพื่อการลอกอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 80 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก นิวคลีโอฟีลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 1 ถึงประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก กรดอ่อนอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำจากประมาณ 0.5 ถึง ประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
11. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนจากประมาณ 20 ถึง ประมาณ 80 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก โมโนเอธาโนลามีนจากประมาณ 1 ถึงประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก ไดเอธิลลีนไกลคอลจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก คาทีคอล จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
12. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 40 ถึงประมาณ 60 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก นิวคลีโอฟีลิกแอมีนอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 30 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สารประกอบเพื่อการ ขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก กรดอ่อน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 2 ถึงประมาณ 6 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
13. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนจากประมาณ 40 ถึง ประมาณ 60 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก โมโนเอธาโนลามีนจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 30 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก ไดเอธิลลีนไกลคอลจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก คาทีคอล จากประมาณ 2 ถึงประมาณ 6 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
14. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนประมาณ 46 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก โมโนเอธาโนลามีนจากประมาณ 23 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก ไดเอธิลลีนไกลคอลจากประมาณ 11 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก คาทีคอลประมาณ 5 เปอร์เซ็นต์โดย น้ำหนักและน้ำประมาณ 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
15. วิธีการสำหรับการทำความสะอาดซับสเทรทไมโครอิเล็กทรอนิกส์โดยไม่ทำให้เกิดการกัด กร่อนโลหะที่เป็นสำคัญใดๆ ซับสเทรทนี้มีวัสดุพอลิเมอร์ชนิดโฟโตรีซิสต์; สิ่งตกค้างจากการ กัดขึ้นรอยและสิ่งตกค้างชนิดโลหะ, กรรมวิธีนี้ประกอบรวมด้วยการให้ซับสเทรทสัมผัสกับสารผสม เพื่อทำความสะอาดเป็นเวลาที่มากเพียงพอที่จะทำความสะอาดซับสเทรท โดยที่สารผสมเพื่อทำความ สะอาดนี้ประกอบรวมด้วย a) ตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด b) นิวคลีโอฟิลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด c) กรดอ่อนชนิดไม่มีไนโตรเจนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดในปริมาณที่มากเพียงพอต่อการทำ ให้เป็นกลางจากประมาณ 3 เปอร์เซ็นต์ถึงประมาณ 75 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักของนิวคลีโอฟิลิกแอมีน ในลักษณะที่ว่าสารผสมเพื่อการลอกนี้มีพีเอชของแอคเควียสจากประมาณ 9.6 ถึงประมาณ 10.9 กรดอ่อนดังกล่าวนี้มีค่าพีเคในสารละลายแอคเควียสเท่ากับ 2.0 หรือมากกว่าและน้ำหนักสมมูล น้อยกว่า 140 d) สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่ง ประกอบด้วยไดเอธิลีนไกลคอลและไดเอธิลีนไกลโคลามีน และ e) น้ำ
16. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 15 ที่ซึ่งนิวคลีโอฟิลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ประกอบรวม ด้วยแอลคาโนลามีน
17. วิธีการตามข้อถือสิทธิ 15 ที่ซึ่งตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดนี้ประกอบรวมด้วยตัวทำละลายที่คัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดน, ไดเมธิลอะซีทามีด และไดเมธิลซัลโซออกไซด์
18. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 17 ที่ซึ่งนิวคลีโอฟิลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ประกอบรวม ด้วยแอลคาโนลามีน
19. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 18 ที่ซึ่งแอลคาโนลามีนนี้คัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย โมโนเอธาโนลามีนและ 1-อะมิโน-2-โพรพานอล
20. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 19 ซึ่งกรดอ่อนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งนี้ประกอบรวมด้วยคาทีคอล
21. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 20 ที่ซึ่งตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิดีน, แอลคาโนลามีนประกอบรวมด้วยโมโนเอธาโนลามีนและ สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ประกอบรวมด้วยไดเอธิลีนไกลคอล
22. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 15 ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยส่วนประกอบหนึ่งชนิดหรือ มากกว่าที่คัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย : สารประกอบต้านการกัดกร่อน/สารประกอบเพื่อทำ สารเชิงซ้อนชนิดโลหะ สารยับยั้งการกัดกร่อนอื่นๆ และเซอร์แฟกเทนท์
23. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 21 ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยส่วนประกอบหนึ่งชนิดหรือ มากกว่าซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารประกอบต้านการกัดกร่อน/สารประกอบเพื่อทำ สารเชิงซ้อนชนิดโลหะ สารยับยั้งการกัดกร่อนอื่นๆ และเซอร์แฟกเทนท์
24. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 15 ซึ่งประกอบรวมด้วยตัวทำละลายเพื่อการลอกอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 80 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก นิวคลีโอฟีลิกแอมีนอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 1 ถึงประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สารประกอบเพื่อการขจัดโลหะอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก กรดอ่อนอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำจากประมาณ 0.5 ถึง ประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
25. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 21 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนจากประมาณ 20 ถึง ประมาณ 80 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก โมโนเอธาโนลามีนจากประมาณ 1 ถึงประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก ไดเอธิลลีนไกลคอลจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก คาทีคอล จากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 50 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
26. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 15 ซึ่งประกอบรวมด้วยตัวทำละลายเพื่อการลอกชนิดอินทรีย์อย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 40 ถึงประมาณ 60 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก นิวคลีโอฟีลิกแอมีนอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 30 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก สารประกอบเพื่อการ ขจัดโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก กรดอ่อน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดจากประมาณ 2 ถึงประมาณ 6 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
27. วิธิการตามข้อถือสิทธิข้อ 21 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนจากประมาณ 40 ถึง ประมาณ 60 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก โมโนเอธาโนลามีนจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 30 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก ไดเอธิลลีนไกลคอลจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก คาทีคอล จากประมาณ 2 ถึงประมาณ 6 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำจากประมาณ 5 ถึงประมาณ 20 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
28. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 27 ซึ่งประกอบรวมด้วย N-เมธิลพิร์โรลิโดนประมาณ 46 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก โมโนเอธาโนลามีนจากประมาณ 23 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก ไดเอธิลลีนไกลคอลจาก ประมาณ 11 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก คาทีคอลประมาณ 5 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักและน้ำประมาณ 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
29. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 15 ที่ซึ่งซับสเทรทนี้ประกอบรวมด้วยซับสเทรทที่ผ่านการเคลือบ โลหะอะลูมินัมซึ่งมีทางนำและมีสิ่งตกค้างชนิดโลหะ
30. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 29 ที่ซึ่งสิ่งตกค้างชนิดโลหะนี้เป็นชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น ซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยชั้นไทเทเนียมและชั้นไทเทเนียมไนไตรด์
31. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 21 ที่ซึ่งซับสเทรทนี้ประกอบรวมด้วยซับสเทรทที่ผ่านการเคลือบ โลหะอะลูมินัมซึ่งมีทางนำและมีสิ่งตกค้างชนิดโลหะ
32. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 31 ที่ซึ่งสิ่งตกค้างชนิดโลหะนี้เป็นชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น ซึ่งคัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยชั้นไทเทเนียมและชั้นไทเทเนียมไนไตรด์
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH75925A true TH75925A (th) | 2006-02-23 |
| TH62677B TH62677B (th) | 2018-05-25 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100950779B1 (ko) | Tft―lcd 통합공정용 포토레지스트 박리제 조성물 | |
| JP4625842B2 (ja) | マイクロエレクトロニクスの基板用の洗浄組成物 | |
| KR101668126B1 (ko) | 포토레지스트 박리제 조성물 및 포토레지스트 박리 방법 | |
| KR101999641B1 (ko) | 구리/아졸 중합체 억제를 갖는 마이크로일렉트로닉 기판 세정 조성물 | |
| JP2001183850A (ja) | 剥離剤組成物 | |
| CN102472984B (zh) | 剥除铜或铜合金光阻的组成物 | |
| ES2330805T3 (es) | Composiciones estabilizadas limpiadoras, no acuosas, para sustratos microelectronicos. | |
| ES2345616T3 (es) | Composiciones de limpieza no acuosas para microelectronica que contienen fructosa. | |
| KR20090106992A (ko) | 포토레지스트 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 박리방법 | |
| KR102228536B1 (ko) | 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법 | |
| KR20110083689A (ko) | 다중-금속 소자 처리를 위한 글루콘산 함유 포토레지스트 세정 조성물 | |
| KR20110028109A (ko) | 세정액 조성물 | |
| WO2009073589A1 (en) | Fluoride-free photoresist stripper or residue removing cleaning compositions containing conjugate oligomeric or polymeric material of alpha-hydroxycarbonyl compound/amine or ammonia reaction | |
| KR20130019729A (ko) | 평판표시장치용 세정액 조성물 및 평판표시장치의 세정 방법 | |
| TH62677B (th) | สารผสมเพื่อทำความสะอาดสำหรับซับสเทรทไมโครอิเล็กทรอนิกส์ | |
| WO2024250131A1 (en) | Compositions containing n-substituted piperazines for electronic manufacturing applications | |
| JP4165209B2 (ja) | レジスト剥離剤 | |
| JP4470328B2 (ja) | レジスト剥離剤 | |
| KR20080054714A (ko) | 레지스트 박리용 알칼리 조성물 | |
| KR100544888B1 (ko) | 구리 배선용 포토레지스트 스트리퍼 조성물 | |
| KR20170002933A (ko) | 스트리퍼 조성액 | |
| JP2006178347A (ja) | レジスト剥離剤 | |
| KR20100125109A (ko) | 구리용 레지스트 제거용 조성물 | |
| JP5321389B2 (ja) | レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法 | |
| JP2013504782A (ja) | 銅系配線の形成のためのレジスト除去用組成物 |