TH73870A - สารผสมสำหรับลอกและทำความสะอาดไมโครอิเล็กทรอนิกส์ - Google Patents

Abstract

DC60 (01/02/48) สารผสมสำหรับทำความสะอาดชนิดแอคเควียส และวิธีการใช้สารผสมสำหรับทำความ สะอาดนี้เพื่อทำความสะอาดไมโครอิเล็กทรอนิกซับสเตรต, ซึ่งสารผสมนี้สามารถที่จะทำความสะอาด ซับสเตรตดังกล่าวได้อย่างเกือบจะสมบูรณ์ และเกื อบจะไม่ทำให้เกิดการกัดกร่อนโลหะของธาตุโลหะ ของซับสเตรตดังกล่า วเลย สารผสมสำหรับทำความสะอาดชนิดแอคเควียสตามการประดิษฐ์นี้มี (a) น้ำ, (b) แอมโมเนียม และควอเทอร์นารี่แอมโมเนียมไอออนอย่าง น้อยหนึ่งชนิด และ (c) ไฮโป ฟอสไฟต์ (H2PO2) และ/หรือ ฟอสไฟต์ (HPO3 2-) ไอออน อย่างน้อยหนึ่งชนิด สารผสมสำหรับทำ ความสะอาดนี้ยังอาจมีฟลูออไร ด์ไอออนอยู่ด้วยเช่นกัน โดยที่อาจเลือกใช้คือ, สารผสมนี้อาจมีส่วน ประกอบอื่นๆ อยู่ เช่น ตัวทำละลายอินทรีย์, สารออกซิไดซ์, สารลดแรงตึงผิว, สารยับยั้งการกัดกร่อน และสารทำให้เกิดเป็นสารเชิงซ้อนกับโลหะ สารผสมสำหรับทำความสะอาดชนิดแอคเควียส และวิธีการใช้สารผสมสำหรับทำความ สะอาดนี้เพื่อทำความสะอาดไมโครอิเล็กทรอนิกซับสเตรต, ซึ่งสารผสมนี้สามารถท ี่จะทำความสะอาด ซับสเตรตดังกล่าวได้อย่างเกือบจะสมบูรณ์ และเกื อบจะไม่ทำให้เกิดการกัดกร่อนโลหะของธาตุโลหะ ของซับสเตรตดังกล่า วเลย สารผสมสำหรับทำความสะอาดชนิดแอคเควียสตามการประดิษฐ์นี้มี (a) น้ำ, (b) แอมโมเนียม และควอเทอร์นารี่แอมโมเนียมไอออนอย่าง น้อยหนึ่งชนิด และ (c) ไฮโป ฟอสไฟต์ (H2PO2) และ/หรือ ฟอสไฟต์ (HPO3 2) ไอออน อย่างน้อยหนึ่งชนิด สารผสมสำหรับทำ ความสะอาดนี้ยังอาจมีฟลูออไร ด์ไอออนอยู่ด้วยเช่นกัน โดยที่อาจเลือกใช้คือ, สารผสมนี้อาจมีส่วน ประกอบอื่นๆ อยู่ เช่น ตัวทำละลายอินทรีย์, สารออกซิไดซ์, สารลดแรงตึงผิว, สารยับยั้งการกัดกร่อน และสารทำให้เกิดเป็นสารเช ิงซ้อนกับโลหะ

Claims (8)

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :แก้ไข 10/05/2562 หน้า 1 ของจำนวน 3 หน้า ข้อถือสิทธิ 1. สารผสมชนิดแอคเควียสสำหรับทำความสะอาดไมโครอิเล็กทรอนิกซับสเตรตและลด การกัดกร่อนอลูมิเนียม ซึ่งสารผสมประกอบรวมด้วย (1) น้ำ และ (2) อย่างน้อยหนึ่งชนิด ของ (a) แอมโมเนีย ไฮโปฟอสไฟต์ (b) แอมโมเนียม ฟอสไฟต์ หรือ (c) กรดไฮโปฟอสฟอรัส หรือกรดฟอสฟอรัสและเกลือแอมโมเนียม ---------------------------------------------------------------------------------------------------- แก้ไข 30/10/2561 หน้า 1 ของจำนวน 3 หน้า ข้อถือสิทธิ 1. สารผสมชนิดแอคเควียสสำหรับทำความสะอาดไมโครอิเล็กทรอนิกซับสเตรตและลด การกัดกร่อนอลูมินัม ซึ่งสารผสมประกอบรวมด้วย (1) น้ำ และ (2) อย่างน้อย 1 ชนิด ของ (a) แอมโมเนีย ไฮโปฟอสไฟต์ (b) แอมโมเนียม ฟอสไฟต์ หรือ (c) กรดไฮโปฟอสไฟต์ หรือกรดฟอสฟอรัสและเกลือแอมโมเนียม ---------------------------------------------------------------------------------------------------- 1. สารผสมชนิดแอคเควียสสำหรับทำความสะอาดไมโครอิเล็กทรอนิกซับสเตรตและลด การกัดกร่อนอลูมินัม ซึ่งสารผสมประกอบรวมด้วย(1)น้ำ และ(2)อย่างน้อย 1 ชนิด ของ (a)แอมโมเนีย ไฮโปฟอสไฟต์ (b)แอมโมเนียม ฟอสไฟต์ หรือ (c)กรดไฮโปฟอสไฟต์ หรือกรดฟอสฟอรัสและเกลือแอมโมเนียม 2. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยน้ำกับ แอมโมเนียนไฮโปฟอสไฟต์ และแอมโมเนียนฟอสไฟต์อย่างน้อยหนึ่ งชนิด 3. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมเพิ่ม เติมด้วยฟลูออไรด์ ไอออน 4. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งประกอบรวมเพิ่ม เติมด้วยฟลูออไรด์ ไอออน 5. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งประกอบรวมเพิ่ม เติมด้วยไฮโดรเจน ฟลูออไรด์ 6. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมเพิ่ม เติมด้วยส่วน ประกอบเพิ่มเติมอีกอย่างน้อยหนึ่งชนิดที่เลือกมาจา กกลุ่มซึ่งประกอบด้วยตัวทำละลายอินทรีย์และ สารออกซิไดซ์ 7. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งประกอบรวมเพิ่ม เติมด้วยส่วน ประกอบเพิ่มเติมอีกอย่างน้อยหนึ่งชนิดที่เลือกมาจา กกลุ่มซึ่งประกอบด้วยตัวทำละลายอินทรีย์และ สารออกซิไดซ์ 8. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งประกอบรวมเพิ่ม เติมด้วยส่วน ประกอบเพิ่มเติมอีกอย่างน้อยหนึ่งชนิดที่เลือกมาจา กกลุ่มซึ่งประกด้วยตัวทำละลายอินทรีย์และ สารออกซิไดซ์ 9. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ซึ่งตัวทำละลายอินท รีย์นี้เลือกมาจาก กลุ่มซึ่งประกอบด้วยกลีเซอรอล, 2-ไพโรลิดิโนน, 1-เมธิล-2-ไพโรลิดิโนน, 1-เอธิล-2-ไพโรลิดิโนน, 1-โพรพิล-2-ไพโรลิดิโนน, 1-ไฮดรอกซีเอธิล-2-ไพโรลิดิโนน, ไดแอลคิลซัลโฟน, ไดเมธิล ซัลฟอกไซด์, เตตระไฮโดรไธโอฟีน-1,1-ไดออกไซด์, ไดเมธิลอะเซตาไมด์ และไดเมธิลฟอร์มาไมด์ และสารออกซิไดซ์ที่เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจนเพอร์ออกไซด์, เพอร์ซัลเฟต, เพอร์ฟอสเฟต, ไฮโปซัลไฟต์, ไฮโปคลอไรด์ 1 0. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 9 ซึ่งประกอบรวมด้วย ทั้งตัว ทำลายอินทรีย์และสารออกซิไดซ์ 1 1. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 10 ซึ่งตัวทำละลายอิ นทรีย์นี้ คือ กลีเซอรอล และสารออกซิไดซ์นี้ คือ ไฮโดรเจนเพอร์ ออกไซด์ 1 2. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ซึ่งตัวทำละลายอิน ทรีย์นี้ประกอบรวม ด้วยกลีเซอรอล 1 3. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ซึ่งสารออกซิไดซ์น ี้ประกอบรวม ด้วยไฮโดรเจนเพอร์ออกไซด์ 1 4. สารผสมชนิดแอคเควียสตา มข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยส่วน ประกอบเพิ่มเ ติมอีกอย่างน้อยหนึ่งชนิดที่เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารล ดแรงตึงผิวและสาร ยับยั้งการกัดกร่อน 1 5. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 14 ซึ่งสารยับยั้งกา รกัดกร่อนนี้ประกอบ รวมด้วยแคทีคอล 1 6. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งประกอบรวมเพิ่ มเติมด้วยส่วน ประกอบเพิ่มเติมอีกอย่างน้อยหนึ่งชนิดที่เลือกมาจ ากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารลดแรงตึงผิวและสาร ยับยั้งการกัดกร่อน 1 7. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 11 ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยส่วน ประกอบเพิ่มเติมอีกอย่างน้อยหนึ่งชนิดที่เลือกมา จากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารดแรงตึงผิว, และสารยับยั้ง การกัดกร่อน และสารทำให้เกิดเป็นสารเชิงซ้อนกับโลหะ 1 8. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งประกอบรวมแอมโม เนียม ไฮโปฟอสไฟต์, แอมโมเนียมฟอสไฟต์, หรือของผสมของทั้งสองอย่างจากประมาณ 1.8 ถึงประมาณ 6.0% นน., และน้ำจากประมาณ 89 ถึงประมาณ 98 % นน. เทียบกับน้ำหนักของสารผสม 1 9. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 18 ซึ่งประกอบรวมเพิ ่มเติมด้วย ฟลูออไรด์ไอออนประมาณ 100 ppm 2 0. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 19 ซึ่งประกอบรวมเพิ ่มเติมด้วย กลีเซอรอล 2 1. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 20 ซึ่งประกอบรวมเพิ่ม เติมด้วย ไฮโดรเจนเพอร์ออกไซด์ 2 2. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 21 ซึ่งมีกลีเซอรอลอ ยู่ในสารผสมนี้ใน ปริมาณประมาณ 10% นน. ของสารผสม และไฮโดรเจนเพ อร์ออกไซด์อยู่ในสารผสมนี้ในปริมาณ ประมาณ 0.6% นน. ของสารผสม 2 3. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งสารผสมนี้ประก อบรวมด้วยกรด ฟอสฟอรัส และ ไฮโปฟอสฟอรัส และแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์ 2 4. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยกร ดฟอสฟอรัส และแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์ 2 5. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 24 ซึ่งประกอบรวมเพิ ่มเติมด้วยส่วน ประกอบเพิ่มเติมอีกอย่างน้อยหนึ่งชนิดที่เลือกมา จากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารลดแรงตึงผิว และสาร ยับยั้งการกัดกร่อน 2 6. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งสารยับยั้งกา รกัดกร่อนนี้ประกอบ รวมด้วยแคทีคอล 2 7. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งสารผสมนี้ประก อบรวมด้วย ควอเทอร์นารี่แอมโมเนียมไอออน 2 8. สารผสมชนิดแอคเควียสตามข้อถือสิทธิข้อ 27 ซึ่งสารผสมนี้ประ กอบรวมด้วยเตตระ แอลคลิแอมโมเนียมไอออน 2 9. สารผสมชนิดแอคเควียส ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยกรดฟอสฟอรัส และสารประกอบที่เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยเตตระเมธิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, เตตระ เอธิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, เตตระโพรพิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, เตตระบิวทิลแอมโมเนียม ไฮดรกไซด์, ซีทิลไตรเมธิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, และเตตระเอธานอลแอมโมเนียม ไฮดรอกไซด์ 3 0. กรรมวิธีสำหรับทำความสะอาดไมโครอีเล็กทรอนิคซับสเตรตโดยไม่ทำให้เกิดการ กัดกร่อนของโลหะที่สำคัญแต่อย่างใด, ซับสเตรทนี้มีวัสดุโพลิเมอร์โฟโต้รีซิสต์ และ/หรือ สารตก ค้าง และโลหะ, กรรมวิธีนี้ประกอบรวมด้วยการสัมผัสซับสเตรทกับสารผสมสำหรับทำความสะอาด เป็นระยะเพียงพอที่จะทำความสะอาดซับสเตรตนี้, โดยที่สารผสมสำหรับทำความสะอาดนี้ ประกอบรวมด้วย : (a) น้ำ, (b) แอมโมเนเนียม และควอเทอร์นารี่แอมโมเนี่ยมไอออนอย่างน้อยหนึ่งชนิด, และ (c) ไฮโปฟอสไฟต์ (H2PO2) และ/หรือ ฟอสไฟต์ (HPO32) ไอออนอย่างน้อยหนึ่งชนิด 3 1. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 30 ซึ่งสารผสมสำหรับทำความสะอาดนี้ปร ะกอบรวมด้วยน้ำ กับแอมโมเนียม ไฮโปฟอสไฟต์ และแอมโมเนียมฟอสไฟต์ อย่างน้อยหนึ่งชนิด 3 2. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 30 ซึ่งสารผสมสำหรับทำความสะอาดนี้ป ระกอบรวมเพิ่มเติม ด้วยฟลูออไรด์ไอออน 3 3. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 31 ซึ่งสารผสมสำหรับทำความสะอาดนี้ป ระกอบรวมเพิ่มเติม ด้วยฟลูออไรด์ไอออน 3 4. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 31 ซึ่งสารผสมสำหรับทำความสะอาดนี้ป ระกอบรวมเพิ่มเติม ด้วยไฮโดรเจนฟลูออไรด์ 3 5. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 30 ซึ่งสารผสมสำหรับทำความสะอาดนี้ป ระกอบรวมเพิ่มเติม ด้วยส่วนประกอบเพิ่มเติมอีกอย่างน้อยหนึ่งชนิ ดที่เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยตัวทำละลาย อินทรีย์และสารออก ซิไดซ์ 3 6. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 32 ซึ่งสารผสมสำหรับทำความสะอาดนี้ป ระกอบรวมเพิ่มเติม ด้วยส่วนประกอบเพิ่มเติมอีกอย่างน้อยหนึ่งชนิ ดที่เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยตัวทำละลาย อินทรีย์และสารออก ซิไดซ์ 3 7. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 34 ซึ่งสารผสมสำหรับทำความสะอาดนี้ปร ะกอบรวมเพิ่มเติม ด้วยส่วนประกอบเพิ่มเติมอีกอย่างน้อยหนึ่งชนิด ที่เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยตัวทำละลาย อินทรีย์และสารออกซ ิไดซ์ 3 8. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 37 ซึ่งตัวทำละลายอินทรีย์นี้เลือกม าจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย กลีเซอรอล, 2-ไพโรลิดิโนน, 1-เมธิล-2-ไพโรลิดิโนน, 1-เอธิล-2-ไพโรลิดิโนน, 1-โพรพิล-2- ไพโรลิดิโนน, 1-ไฮดรอกซีเอธิล-2-ไพโรลิดิโนน, ไดแอลคิลซัลโฟน, ไดเมธิลซัลฟอกไซด์, เตตระ ไฮโดรไธโอฟีน-1,1-ไดออกไซด์, ไดเมธิลอะเซตาไมด์ และ ไดเมธิลฟอร์มาไมด์ และสารออกซิไดซ์ที่ เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยไฮโดรเจนเพอร์ออกไซด์, เพอร์ซัลเฟต, เพอร์ฟอสเฟต, ไฮโป ซัลไฟต์, ไฮโปคลอไรด์, 3 9. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 38 ซึ่งสารผสมนี้ประกอบรวมด้วยทั้งต ัวทำละลายอินทรีย์ และ สารออกซิไดซ์ 4 0. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 39 ซึ่งตัวทำละลายอินทรีย์นี้ คือ ก ลีเซอรอล และสาร ออกซิไดซ์นี้ คือ ไฮโดรเจนเพอร์ออกไซด์ 4 1. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 37 ซึ่งตัวทำละลายอินทรีย์นี้ประกอ ยรวมด้วยกลีเซอรอล 4 2. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 37 ซึ่งสารออกซิไดซ์นี้ประกอยรวม ด้วยไฮโดรเจน เพอร์ออกไซด์ 4 3. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 30 ซึ่งสารผสมสำหรับทำความสะอาดนี้ป ระกอบรวมเพิ่มเติม ด้วยส่วนประกอบเพิ่มเติมอีกอย่างน้อยหนึ่งชนิ ดที่เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารลดแรงตึงผิว และสารยับยั้ง การกัดกร่อน 4 4. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 43 ซึ่งสารยับยั้งการกัดกร่อนนี้ประ กอบรวมด้วยแคทีคอล 4 5. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 32 ซึ่งสารผสมสำหรับทำความสะอาดนี้ป ระกอบรวมเพิ่มเติม ด้วยส่วนประกอบเพิ่มเติมอีกอย่างน้อยหนึ่งชนิ ดที่เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารลดแรงตึงผิว และสารยับยั้ง การกัดกร่อน 4 6. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 40 ซึ่งสารผสมสำหรับทำความสะอาดนี้ปร ะกอบรวมเพิ่มเติม ด้วยส่วนประกอบเพิ่มเติมอีกอย่างน้อยหนึ่งชนิด ที่เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยสารลดแรงตึงผิว, สารยับยั้งการ กัดกร่อน และสารทำให้เกิดเป็นสารเชิงซ้อนกับโลหะ 4 7. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 31 ซึ่งสารผสมสำหรับทำความสะอาดนี้ป ระกอบรวมด้วย แอมโมเนียมไฮโปฟอสไฟต์, แอมโมเนียมฟอสไฟต์, หรือของผสมของทั้งสองอย่างประมาณ 1.8 ถึง ประมาณ 6 % นน., และน้ำประมาณ 89 ถึงประมาณ 98 % นน. เทียบกับน้ำหนักของสารผสม 4 8. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 47 ซึ่งสารผสมสำหรับทำความสะอาดนี้ป ระกอบรวมเพิ่มเติม ด้วยฟลูออไรด์ไอออนประมาณ 100 ppm 4 9. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 48 ซึ่งสารผสมสำหรับทำความสะอาดนี้ป ระกอบรวมเพิ่มเติม ด้วยกลีเซอรอล 5 0. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 49 ซึ่งสารผสมสำหรับทำความสะอาดนี้ป ระกอบรวมเพิ่มเติม ด้วยไฮโดรเจนเพอร์ออกไซด์ 5

1. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 50 ซึ่งมีกลีเซอรอลอยู่ในสารผสมนี้ใ นปริมาณประมาณ 10% นน. ของสารผสม และมีไฮโดรเจนเพอร์ออกไซด์อยู ่ในสารผสมนี้ในปริมาณประมาณ 0.6% นน. ของสารผสม 5

2. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 30 ซึ่งสารผสมนี้ประกอบรวมด้วยกรดฟอสฟอรัส และไฮโป ฟอสฟอรัส และแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์ 5

3. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 30 ซึ่งสารผสมนี้ประกอบรวมด้วยกรดฟอ สฟอรัส และแอมโมเนียม ไฮดรอกไซด์ 5

4. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 53 ซึ่งประกอบรวมเพิ่มเติมด้วยส่วนป ระกอบเพิ่มเติมอีกอย่าง น้อยหนึ่งชนิดที่เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประ กอบด้วยสารลดแรงตึงผิวและสารยับยั้งการกัดกร่อน 5

5. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 54 ซึ่งสารยับยั้งการกัดกร่อนนี้ประ กอบรวมด้วยแคทีคอล 5

6. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 30 ซึ่งสารผสมนี้ประกอบรวมด้วยควอเท อร์นารี่แอมโมเนียม ไอออน 5

7. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 56 ซึ่งสารผสมนี้ประกอบรวมด้วยเตตระ แอลคลิแอมโมเนียม ไอออน 5

8. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 57 ซึ่งสารผสมนี้ประกอบรวมด้วยกรดฟอ สฟอรัส และสารประกอบที่ เลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วยเตตระโพรพิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, เตตระบิวทิลแอมโมเนียม ไฮดรอกไซด์, เตตระโพรพิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, เตตระบิวทิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, ซีทิล ไตรเมธิลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์, และเตตระเอธานอลแอมโมเนียมไฮดรอกไซด์