TH66590A - ซับสเทรทที่เคลือบผิวด้วยฟิล์มแบบมีหลายชั้นและกระบวนการสำหรับการผลิตซับสเทรทดังกล่าว - Google Patents

Abstract

DC60 (30/10/56) ซับสเทรทที่เคลือบผิวด้วยฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่ซึ่งความเค้น ได้รับการผ่อนคลายโดยการ พอกพูนฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่ประกอบรวมด้วยฟิล์มออกไซด์ของโลหะและฟิล์มซิลิกอนออกไซด์ลง บนซับสเทรทที่อัตราเร็วสูงโดยวิธีการสำหรับการสปัตเตอริ่งโดยการใช้วัสดุสำหรับการสปัตเตอริ่งที่ นำไฟฟ้าและกระบวนการสำหรับการผลิตซับสเทรทที่เคลือบผิวด้วยฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่มีความเค้น ต่ำดังกล่าว ได้รับการนำเสนอไว้ ซับสเทรทที่เคลือบผิวด้วยฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่ประกอบรวมด้วยซับสเทรทและฟิล์ม ออกไซด์ของโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดและฟิล์มซิลิกอนออกไซด์ที่ได้รับการลามิเนทซ้ำอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งครั้งลงบนซับสเทรท ที่ซึ่งชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นของฟิล์มออกไซด์ของโลหะ ดังกล่าวก็คือฟิล์มออกไซด์ของโลหะที่ได้รับการพอกพูนโดยการสปัตเตอริ่งโดยการใช้ออกไซด์ของ โลหะ MOx เป็นวัสดุเป้าหมาย ซึ่งมีออกซิเจนน้อยกว่าสารผสมตามปริมาณสัมพันธ์เคมี เพื่อทำให้การ ขาดออกซิเจนได้รับการแก้ไข และความเค้นของฟิล์มแบบมีหลายชั้นอยู่ในช่วงจาก - 100 เมกะพาสคัล ถึง + 100 เมกะพาสคัล ซับสเทรทที่เคลือบผิวด้วยฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่ซึ่งความแค้น ได้รับการผ่อนคลายโดยการ พอกพูนฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่ประกอบรวมด้วยฟิล์มออกไซด์ของโลหะและฟิล์มซิลิกอนออกไซด์ลง บนซับสเทรทที่อัตราเร็วสูงโดยวิธีการสำหรับการฉาบโดยการใช้วัสดุสำหรับการฉาบที่ นำไฟฟ้าและกระบวนการสำหรับการผลิตซับสเทเทรทที่เคลือบผิวด้วยฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่มีความเค้น ต่ำดังกล่าวได้รับการนำเสนอไว้ ซับสเทรทที่เคลือบผิวด้วยฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่ประกอบรวมด้วยซับสเทรทและฟิล์ม ออกไซด์ของโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดและฟิล์มซิลิกอนออกไซด์ที่ได้รับการลามิเนทซ้ำอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งครั้งลงบนซับสเทรท ที่ซึ่งชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นของฟิล์มออกไซด์ของโลหะ ดังกล่าวก็คือฟิล์มออกไซด์ของโลหะที่ได้รับการพอกพูนโดยการฉาบโดยการใช้ออกไซด์ของ โลหะ MOx เป็นวัสดุเป้าหมาย ซึ่งมีออกซิเจนน้อยกว่าสารผสมตามปริมาณสัมพันธ์เคมี เพื่อทำให้การ ขาดออกซิเจนได้รับการแก้ไข และความเค้นของฟิล์มแบบมีหลายชั้นอยู่ในช่วงจาก - 100 เมกะพาสคัล ถึง + 100 เมกะพาสคัล

Claims (1)

1. : DC60 (30/10/56) ซับสเทรทที่เคลือบผิวด้วยฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่ซึ่งความเค้น ได้รับการผ่อนคลายโดยการ พอกพูนฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่ประกอบรวมด้วยฟิล์มออกไซด์ของโลหะและฟิล์มซิลิกอนออกไซด์ลง บนซับสเทรทที่อัตราเร็วสูงโดยวิธีการสำหรับการสปัตเตอริ่งโดยการใช้วัสดุสำหรับการสปัตเตอริ่งที่ นำไฟฟ้าและกระบวนการสำหรับการผลิตซับสเทรทที่เคลือบผิวด้วยฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่มีความเค้น ต่ำดังกล่าว ได้รับการนำเสนอไว้ ซับสเทรทที่เคลือบผิวด้วยฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่ประกอบรวมด้วยซับสเทรทและฟิล์ม ออกไซด์ของโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดและฟิล์มซิลิกอนออกไซด์ที่ได้รับการลามิเนทซ้ำอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งครั้งลงบนซับสเทรท ที่ซึ่งชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นของฟิล์มออกไซด์ของโลหะ ดังกล่าวก็คือฟิล์มออกไซด์ของโลหะที่ได้รับการพอกพูนโดยการสปัตเตอริ่งโดยการใช้ออกไซด์ของ โลหะ MOx เป็นวัสดุเป้าหมาย ซึ่งมีออกซิเจนน้อยกว่าสารผสมตามปริมาณสัมพันธ์เคมี เพื่อทำให้การ ขาดออกซิเจนได้รับการแก้ไข และความเค้นของฟิล์มแบบมีหลายชั้นอยู่ในช่วงจาก - 100 เมกะพาสคัล ถึง + 100 เมกะพาสคัล ซับสเทรทที่เคลือบผิวด้วยฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่ซึ่งความแค้น ได้รับการผ่อนคลายโดยการ พอกพูนฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่ประกอบรวมด้วยฟิล์มออกไซด์ของโลหะและฟิล์มซิลิกอนออกไซด์ลง บนซับสเทรทที่อัตราเร็วสูงโดยวิธีการสำหรับการฉาบโดยการใช้วัสดุสำหรับการฉาบที่ นำไฟฟ้าและกระบวนการสำหรับการผลิตซับสเทเทรทที่เคลือบผิวด้วยฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่มีความเค้น ต่ำดังกล่าวได้รับการนำเสนอไว้ ซับสเทรทที่เคลือบผิวด้วยฟิล์มแบบมีหลายชั้นที่ประกอบรวมด้วยซับสเทรทและฟิล์ม ออกไซด์ของโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดและฟิล์มซิลิกอนออกไซด์ที่ได้รับการลามิเนทซ้ำอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งครั้งลงบนซับสเทรท ที่ซึ่งชั้นอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้นของฟิล์มออกไซด์ของโลหะ ดังกล่าวก็คือฟิล์มออกไซด์ของโลหะที่ได้รับการพอกพูนโดยการฉาบโดยการใช้ออกไซด์ของ โลหะ MOx เป็นวัสดุเป้าหมาย ซึ่งมีออกซิเจนน้อยกว่าสารผสมตามปริมาณสัมพันธ์เคมี เพื่อทำให้การ ขาดออกซิเจนได้รับการแก้ไข และความเค้นของฟิล์มแบบมีหลายชั้นอยู่ในช่วงจาก - 100 เมกะพาสคัล ถึง + 100 เมกะพาสคัลข้อถือสิทธิ์ (ข้อที่หนึ่ง) ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา : 1.ซับสเทรทที่เคลือบผิวด้วยฟิล์มแบบมีหลายชั้นประกอบรวมด้วย: ซับสเทรท;และฟิล์มออกไซด์จำนวนหนึ่ง,โดยฟิล์มออกไซด์ของโลหะและฟิล์มวิลิกอน ออกไซด์ที่ลามิเนทอย่างสลับกันและก่อรูปเป็นชั้นๆ อย่างน้อยยี่สิบชั้น, ที่ซึ่งโลหะที่ได้รับการพอกพูนลงไปโดยการสปัตเตอริ่งด้วยวัสดุเป้าที่หนึ่งชั้นของฟิล์ม ออกไซด์ของโลหะ MOxซึ่งโลหะ M คือโลหะอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบ ด้วย Ti,Nb,Ta,Mo,W,Zr และ Hf โดยออกไซด์โลหะ Moxแท็ก :