TH53589A

TH53589A - ขบวนการสำหรับการผลิตไซโคลเฮกซาโนนออกซึม

Info

Publication number: TH53589A
Application number: TH101002179A
Authority: TH
Inventors: โยฮันเนส จาโคบัส ปีเตอร์ส นายพอลลัส; ปิต นายอเล็กซ์; เบนเนเคอร์ นายอาร์โน; โอเวอริ่ง นายเฮ็ง
Original assignee: นางสาวชลิตา ชมะโชติ; นายสมพร เหลี่ยมป้อ
Filing date: 2001-06-04
Publication date: 2002-10-29

Abstract

DC60 (07/04/52) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับขบวนการสำหรับการผลิตไซโคลเฮกซาโนนอกซีม ที่ซึ่ง ตัวกลางปฏิกิริยาแอคเควียสที่มีฟอสเฟตจะถูกหมุนเวียนจากโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโนเมียม ไปสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซึมและกลับไปยังโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโนเมียม ซึ่งในโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโนเนียมนั้น ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมถูกทำให้เกิดขึ้นโดยการ รีดิวซ์ไนเตรทด้วยไฮโดรเจนแบบมีการเร่งปฏิกิริยา และซึ่งในโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนน ออกซีมนั้น ไฮดรอกซิลแอมโนเนียมถูกทำปฏิกิริยากับไซโคลเฮกซาโนน เพื่อให้เกิดเป็น ไซโคลเฮกซาโนนออกซึมขึ้น เมื่อความเข้มข้นไฮดรอกซิลแอมโมเนียมในตัวกลางปฏิกิริยา แอคเควียสที่เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจะสูงกว่า 1.0 โมล/ล. การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับขบวนการสำหรับการผลิตไซโคลเฮกซาโนนอกซีม ที่ซึ่งตัวกลางปฏิกิริยาแอคเควียสที่มีฟอสเฟตอยู่ด้วยถูกหมุนเวียนจากโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโนเมียมไปสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนอกซึมและกลับไปยังสู่โซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโนเมียม ซึ่งในโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโนเนียมนั้น ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมถูทำให้เกิดขึ้นโดยการรีดิวซ์ของไนเตรทด้วยไฮโดรเจนแบบมีการเร่งปฏิกิริยา และซึ่งในโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมนั้น ไฮดรอกซิลแอมโนเนียมจะถูกทำปฏิกิริยกับไซโคลเฮกซาโนน เพื่อให้เกิดเป็นไซโคลเฮกซาโนนออกซึม เมื่อความเข้มข้นไฮดรอกซิลแอมโมเนียมในตัวกลางปฏิกิริยาแอคเควียสที่เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีกจะสูงกว่า 1.0 โมล/ล.

Claims

1. ขบวนการสำหรับผลิตไซโคลเฮกซาโนนอกซีม ที่ซึ่งตัวกลางปฏิกิริยาแอคเควียสที่มีฟอสเฟตจะถูกหมุนเวียนจากโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโนเมียมไปสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซึมและกลับไปสู่โซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโนเมียม ซึ่งในโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโนเนียมนั้น ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมถูกทำให้เกิดขึ้น โดยการรีดิวซ์ไนเตรทด้วยไฮโดรเจนที่มีการเร่งปฏิกิริยา และซึ่งไนโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนอกซีมนั้น ไฮดรอกซิลแอมโนเนียมจะถูกทำปฏิกิริยกับไซโคลเฮกซาโนนโดยมีตัวทำละลายอินทรีย์อยู่ด้วยเพื่อให้เกิดเป็นไซโคลเฮกซาโนนออกซึมขึ้น ซึ่งถูกแสดงลักษณะเฉพาะว่า ความเข้มข้นไฮดรอกซิลแอมโมเนียน (concentration hydroxylammonium) ในตัวกลางปฏิกิริยาแอคเควียสที่เข้าสู่ โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจะสูงกว่า 1.0 โมล/ล.

2. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งความเข้มข้นไฮดรอกซิลแอมโมเนียมในตัวกลางปฏิกริยาแอคเควียสที่เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจะสูงกว่า 1.2 โมล/ล.

3. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งความเข้มข้นไฮดรอกซิลแอมโมเนียมในตัวกลางปฏิกริยาแอคเควียสที่เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจะสูงกว่า 1.4 โมล/ล.

4. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งความเข้มข้นไฮดรอกซิลแอมโมเนียมในตัวกลางปฏิกริยาแอคเควียสที่เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจะสูงกว่า 1.6 โมล/ล.

5.ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งตัวกลางปฏิกิริยาแอคเควียสและกระแสที่ประกอบรวมด้วยไซโคลเฮกซาโนน และตัวทำละลายอินทรีย์ถูกทำให้สัมผัสกันในกระแสที่ย้อนทิศทาง

6. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งตัวทำละลายอินทรีย์ และไซโคลเฮกซาโนนถูกป้อนเข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม และตัวกลางอินทรีย์ที่ประกอบรวมด้วยตัวทำละลายอินทรีย์ และไซโคลเฮกซาโนนออกซีมถูกเอาออกจากโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนน ออกซีม ซึ่งความเข้มข้นของไซโคลเฮกซาโนนออกซีมในตัวกลางอินทรีย์จะสูงกว่า 5% โดยน้ำหนัก

7. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งความเข้มข้นของไซโคลเฮกซาโนนออกซีมในตัวกลางอินทรีย์ที่ออกจากโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจะสูงกว่า 25% โดยน้ำหนัก

8. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งตัวทำละลายอินทรีย์จะถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย เบนซีน,โทลูอีน,ไซลีน,ไซโคลเฮกเซน และของผสมของพวกมัน

9. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ซึ่งความเข้มข้นไฮดรอกซิลแอมโมเนียมในตัวกลางปฏิกิริยาแอคเควียสที่ออกจากโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจะน้อยกว่า 0.1 โมล/ล.

10. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 9 ซึ่งความเข้มข้นไฮดรอกซิลแอมโมเนียมในตัวกลางปฏิกิริยาแอคเควียสที่ออกจากโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจะอยู่ระหว่าง 0.01 และ 0.05โมล/ล.