TH53669A

TH53669A - กระบวนการสำหรับการผลิตไซโคลเฮกชาโนนออกซีม

Info

Publication number: TH53669A
Application number: TH101002178A
Authority: TH
Inventors: ฟรีดริช มาเรีย รีสธุยส์ นายธีโอโดรัส; บลาเออว์ นายมาร์ค; ปิต นายอเล็กซ์; จาโคบัส ฟรานซิสคุส ไซม่อนส์ นายอันโตเนียส; โอเวอริ่ง นายเฮ็ง
Original assignee: ดีเอสเอ็ม เอ็นวี; นายมนูญ ช่างชำนิ; นายสมพร เหลี่ยมป้อ
Filing date: 2001-06-04
Publication date: 2002-11-05

Abstract

DC60 (24/08/44) ขบวนการสำหรับผลิตไซโคลเฮกซาโนนออกซีมที่ซึ่งตัวกลางของปฏิกิริยาแอคเควียสที่มี ฟอสเฟตอยู่ด้วยถูกหมุนเวียนจากโซน สังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโนเมียมไปยังโซนสังเคราะห์ไซโคล เฮก ซาโนนออกซีมและกลับไปสู่โซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโมเมียม ซึ่งในโซนสังเคราะห์ ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมนั้น ไฮดรอกซิล แอมโมเนียมถูกทำให้เกิดขึ้นโดยการรีดิวซ์ของไนเตรทด้วย ไฮโดรเจนที่มีการเร่งปฏิกิริยา และซึ่งในโซนสังเคราะห์ไซ โคลเฮกซาโนนออกซีมนั้น ไฮดรอกซิล แอมโมเนียมจะถูกทำปฏิกิริยา กับไซโคลเฮกซาโนน เพื่อ ให้เกิดเป็นไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ที่ซึ่ง ความเข้มข้นของฟอสเฟตในตัวกลางของปฏิกิริยาแอคเควียสที่ เข้าสู่ โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนน ออกซีมจะสูงกว่า 3.0 โมล/ล. ขบวนการสำหรับผลิตไซโคลเฮกซาโนนออกซีมที่ซึ่งตัวกลางของปฏิกิริยาแอคเควียสที่มี ฟอสเฟตอยู่ด้วยถูกหมุนเวียนจากโซน สังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโนเมียมไปยังโซนสังเคราะห์ไซโคล เฮก ซาโนนออกซีมและกลับไปสู่โซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโนเมียม ซึ่งในโซนสังเคราะห์ ไฮดรอกซิลแอมโนเนียมนั้น ไฮดรอกซิล แอมโมเนียมถูทำให้เกิดขึ้น โดยการรีดิวซ์ของไนเตรทด้วย ไฮโดรเจนที่มีการเร่งปฏิกิริยา และซึ่งในโซนสังเคราะห์ไซ โคลเฮกซาโนนออกซีมนั้น ไฮดรอกซิล แอมโนเนียมจะถูกทำปฏิกิริย กับไซโคลเฮกซาโนน เพื่อ ให้เกิดเป็นไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ที่ซึ่ง ความเข้มข้นของฟอสเฟตในตัวกลางของปฏิกิริยาแอคเควียสที่ เข้าสู่ โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนน ออกซีมจะสูงกว่า 3.0 โมล/ล.

Claims

1. กระบวนการสำหรับผลิตไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ซึ่งตัวกลางของปฏิกิริยาแอคเควียสที่มีฟอสเฟต ถูกหมุนเวียนจากโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโนเมียมไปยังโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออก ซีมและกลับไปสู่โซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโนเมียม ซึ่งในโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโนเนียม ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมถูกทำปฏิกิริยากับไซโคลเฮกซาโนนในที่มีตัวทำละลายอินทรีย์ เพื่อสร้าง ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม มีลักษณะเฉพาะว่า ความเข้มข้นของฟอสเฟตในตัวกลางของปฏิกิริยา แอคเควียสเข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีที่สูงกว่า 3.0 โมล/ลิตร

2. ขบวนการสำหรับผลิตไซโคลเฮกซาโนนออกซีมที่ซึ่งตัวกลางของ ปฏิกิริยาแอคเควียสที่มี ไฮดรอกซิลแอมโนเมียม ฟอสเฟต และไนเตรทถูกป้อนเข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนน ออกซีม ที่ซึ่งไฮดรอกซิลแอมโมเนียมถูกทำปฏิกิริยากับไซโคลเฮกซาโนน เมื่อมีตัวทำละลายอินทรีย์ อยู่ด้วยเพื่อให้เกิดเป็นไซโคล เฮกซาโนนออกซีม ซึ่งถูกแสดงลักษณะเฉพาะว่า ความเข้มข้นของ ฟอสเฟตในตัวกลางของปฏิกิริยาแอคเควียสที่เข้าสู่โซน สังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจะสูง กว่า 3.0 โมล/ล

3. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 หรือ 2 ที่ถูกแสดงลักษณะเฉพาะ ว่าความเข้มข้นของฟอสเฟต ในตัวกลางของปฏิกิริยาแอคเควียสที่ เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจะสูงกว่า 3.3 โ มล/ล. ที่พอใจมากกว่าแล้วคือสูงกว่า 3.5 โมล/ล. ที่พอใจมาก กว่ายิ่งขึ้นแล้วคือ 3.7 โมล/ล.

4. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ถึง 3 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งถูก แสดงลักษณะเฉพาะว่าความเข้มข้น ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมในตัว กลางของปฏิกิริยาแอคเควียสที่เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮก ซาโนน ออกซีมจะสูงกว่า 0.8 โมล/ล.

5. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 4 ซึ่งถูกแสดงลักษณะเฉพาะว่าความ เข้มข้นไฮดรอกซิล แอมโมเนียมในตัวกลางของปฏิกิริยาแอคเค วียสที่เข้าสู่โซนสังเคราะห์ออกซีมจะสูงกว่า 1.0 โมล/ล.

6. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 5 ซึ่งถูกแสดงลักษณะเฉพาะว่าความ เข้มข้นไฮดรอกซิล แอมโมเนียมในตัวกลางของปฏิกิริยาแอคเควียส ที่เข้าสู่โซนสังเคราะห์ออกซีมจะสูงกว่า 1.2 โมล/ล. ที่พอใจมาก กว่าแล้วคือสูงกว่า 1.4 โมล/ล ที่พอในมากกว่ายิ่งขึ้นแล้ว คือ 1.6 โมล/ล.

7. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ถึง 6 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งถูก แสดงลักษณะเฉพาะว่าในตัวกลาง ของปฏิกิริยาแอคเควียสที่เข้า สู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม อัตราส่วนของ c(ฟอสเฟต) /c(NH3OH+) > 2.0 ที่ซึ่ง c(ฟอสเฟต) จะแทนความเข้ม ข้นของฟอสเฟต (ในหน่วยโมล/ล.) และ c(NH3OH+)จะแทนความเข้น ข้นไฮดรอกซิลแอมโมเนียม (ในหน่วยโมล/ล)

8. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 7 ซึ่งถูกแสดงลักษณะเฉพาะว่าใน ตัวกลางของปฏิกิริยา แอคเควียสที่เข้าสู่โซนสังเคราะห์ออก ซีม อัตราส่วนของ c(ฟอสเฟต)/c(NH3OH+) > 2.1

9. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ถึง 8 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งถูก แสดงลักษณะเฉพาะว่าไซโคล เฮกซาโนน ตัวทำละลายอินทรีย์ และ ตัวกลางของปฏิกิริยาแอคเควียถูกทำให้สัมผัสกันในโซน สังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม และตัวกลางอินทรีย์ซึ่ง ประกอบรวมด้วยตัวทำละลายอินทรีย์ กับไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจะถูกดึงออกจากโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม

10. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 9 ซึ่งถูกแสดงลักษณะเฉพาะว่า ตัวกลางของปฏิกิริยา แอคเควียสและกระแสซึ่งประกอบรวมด้วยไซ โคลเฮกซาโนนและตัวทำละลายอินทรีย์ถูกทำให้สัมผัส กันในกระแส ที่ย้อนทิศทาง

11. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 9 หรือข้อถือสิทธิ 10 ซึ่งถูก แสดงลักษณะเฉพาะว่าความ เข้มข้นของไซโคลเฮกซาโนนออกซีมในตัว กลางอินทรีย์ที่ออกจากโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซา โนนออกซีมจะ สูงกว่า 5% โดยน้ำหนัก

12. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 11 ซึ่งถูกแสดงลักษณะเฉพาะว่า ความเข้มข้นของไซโคลเฮก ซาโนนออกซีมในตัวกลางอินทรีย์ที่ออก จากโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจะสูงกว่า 25% โดยน้ำ หนัก