TH52102B - วิธีควบคุมการเกิดและสะสมตัวของตะกรันในระบบแอคเค?วียส - Google Patents

Abstract

DC60 โพลิเมอร์ที่ละลายน้ำได้ หรือกระจายตัวได้ในน้ำชนิดใหม่ ซึ่งมีประโยชน์สำหรับการยับยั้ง การเกิด และสะสมตัวของส่วนที่ เป็นหมู่ที่ทำให้เกิดตะกรันในระบบแอคเควียส ซึ่งประกอบรวม ด้วย หน่วยย่อยที่ซ้ำกัน ซึ่งมีลักษณะเฉพาะตามสูตรที่ I: (สูตรเคมี) เมื่อ E เป็นหน่วยย่อยที่ซ้ำกันที่เหลือหลังจากการเกิดโพ ลิเมอร์ของสารประกอบชนิดไม่อิ่มตัว แบบเอธิลีน; ที่ควรใช้ คือ กรดคาร์บอกซิลิก กรดซัลโฟนิก กรดฟอสโฟนิก หรือรูปของเอไมด์ของ สารเหล่านี้ หรือของผสมของสารเหล่านี้ R1 คือ H หรือแอลคิลขนาดเล็ก(C1-C4) G คือ -CH2- หรือ -CHCH3-; R2 เป็น -(-CH2-CH2-O-)-n หรือ -(-CH2-CHCH3-O-)-m ซึ่ง n และ m อยู่ในช่วงจากประมาณ 1 ถึง 100, ที่ควรใช้ คือ n มากกว่า 10 และ m อยู่ในช่วงจากประมาณ 1 ถึง 20X เป็นอนุมูล แอนไอออนที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย SO3, PO3 หรือ COO;Z เป็น H หรือไฮโดรเจน หรือส่วนที่ เป็นหมู่แคทไอออนที่ ละลายน้ำใด ๆ ซึ่งถ่วงดุลวาเลนซ์ของอนุมูลแอนไอออน X ซึ่ง รวมถึงแต่ไม่ จำกัดแค่เพียง Na,K,Ca, หรือ NH4 F เมื่อมีอยู่ จะเป็นหน่วยย่อยที่ซ้ำกัน ซึ่งมีโครงสร้างตามสูตรที่ II: (สูตรเคมี) ซึ่ง X และ Z เหมือนกันกับในสูตรที่ I R4 เป็น H หรือแอลคิล ขนาดเล็ก (C1-C4) R5 เป็นแอลคิล หรือ แอลคิลีนที่มีคาร์บอน จากประมาณ 1 ถึง 6 อะตอม ซึ่งถูกแทนที่ด้วยไฮดรอกซี โพลิเมอร์ที่ละลายน้ำได้ หรือกระจายตัวได้ในน้ำชนิดใหม่ ซึ่งมีประโยชน์สำหรับการยับยั้ง การเกิด และสะสมตัวของส่วนที่ เป็นหมู่ที่ทำให้เกิดตะกรันในระบบแอคเควียส ซึ่งประกอบรวม ด้วย หน่วยย่อยที่ซ้ำกัน ซึ่งมีลักษณะเฉพาะตามสูตรที่ I: (สูตรเคมี) เมื่อ E เป็นหน่วยย่อยที่ซ้ำกันที่เหลือหลังจากการเกิดโพ ลิเมอร์ของสารประกอบชนิดไม่อิ่มตัว แบบเอธิลีน; ที่ควรใช้ คือ กรดคาร์บอกซิลิก กรดซัลโฟนิก กรดฟอสโฟนิก หรือรูปของเอไมด์ของ สารเหล่านี้ หรือของผสมของสารเหล่านี้ R1 คือ H หรือแอลคิลขนาดเล็ก (C1-C4) G หรือ -CH2- หรือ -CHCH3-; R2 เป็น -(-CH2-CH2-O-)-n หรือ -(-CH2-CHCH3-O-)-m ซึ่ง n และ m อยู่ในช่วงจากประมาณ 1 ถึง 100, ที่ควรใช้ คือ n มากกว่า 10 และm อยู่ในช่วงจากประมาณ 1 ถึง 20X เป็นอนุมูล แอนไอออนที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย SO3, PO3 หรือ COO;Z เป็น H หรือไฮโดรเจน หรือส่วนที่ เป็นหมู่แคทไอออนที่ ละลายน้ำใด ๆ ซึ่งถ่วงดุลวาเลนซ์ของอนุมูลแอนไอออน X ซึ่ง รวมถึงแต่ไม่ จำกัดแค่เพียง Na,K,Ca, หรือ NH4 F เมื่อมีอยู่ จะเป็นหน่วยย่อยที่ซ้ำกัน ซึ่งมีโครงสร้างตามสูตรที่ II: (สูตรเคมี) ซึ่ง X และ Z เหมือนกันกับในสูตรที่ I R4 เป็น H หรือแอลคิล ขนาดเล็ก (C1-C4)R5 เป็นแอลคิล หรือ แอลคิลีนที่มีคาร์บอน จากประมาณ 1 ถึง 6 อะตอม ซึ่งถูกแทนที่ด้วยไฮดรอกซี

Claims (66)

1.สารผสม ซึ่งประกอบรวมด้วยโพลิเมอร์ที่ละลายน้ำได้ หรือกระจายตัวได้ในน้ำตามสูตร นี้: (สูตรเคมี) เมื่อ E เป็นหน่วยย่อยที่ซ้ำกันที่เหลือหลังจากการเกิดโพ ลิเมอร์ของสารประกอบชนิดไม่อิ่มตัวแบบ เอธิลีน; R1 คือ H หรือแอลคิลขนาดเล็ก (C1-C4);G หรือ -CH2- หรือ -CHCH3-; R3 เป็น -(-CH2-CH2-O-)-n หรือ -(-CH2-CHCH3-O-)-m ซึ่ง n และ m อยู่ในช่วงจากประมาณ 1 ถึง 100;X เป็น SO3, PO3 หรือ COO;Z เป็น H หรือไฮโดรเจน หรือส่วนที่เป็นหมู่แคทไอออนที่ ละลายน้ำ;F เป็นหน่วยย่อยที่ซ้ำกัน ตามสูตรนี้ (สูตรเคมี) เมื่อ R4 เป็น H หรือแอลคิลขนาดเล็ก (C1-C4),R5 เป็นแอลคิล หรือแอลคิลีนที่มีคาร์บอนจากประมาณ 1 ถึง 6 อะตอม ซึ่งถูก แทนที่ด้วยไฮดรอกซี; c และ d เป็นเลขจำนวนเต็มที่เป็นบวก และ e เป็นเลข จำนวนเต็มที่ไม่เป็นลบ

2.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งสารประกอบชนิดไม่อิ่มตัว แบบเอธิลีนดังกล่าวเป็นสาร หนึ่งชนิด หรือมากกว่าจาก : กรด คาร์บอกซิลิก, กรดซัลโฟนิก, กรดฟอสโฟนิกหรือรูปของเอไมด์ ของ สารเหล่านี้ หรือของผสมของสารเหล่านี้

3.โพลิเมอร์ตามข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งสารประกอบชนิดไม่อิ่ม ตัวแบบเอธิลีนดังกล่าวเป็นสาร หนึ่งชนิด หรือมากกว่าจาก ; กรดอะครีลิก กรดเมธาครีลิก อะครีลาไมด์ เมธาครีลาไมด์ N-เมธิล อะครีลาไมด์ N,N-ไดเมธิลอะครีลาไมด์ N-ไอโซ โพรพิลอะครีลาไมด์ กรดมาเลอิก หรือมาเลอิก แอนไฮไดรด์ กรดฟู มาริก กรดไอทาโคนิก กรดสไตรีนซัลโฟนิก กรดไวนิลซัลโฟนิก กรดไอโซ โพรพีนิลฟอสโฟนิก กรดไวนิลฟอสโฟนิก กรดไวนิลลิ ดีนได-ฟอสโฟนิก กรด2-อะครีลามิโด-2- เมธิลโพรเพนซัลโฟนิก หรือของผสมของสารเหล่านี้

4.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งส่วนที่เป็นหมู่แคทไอออน ที่ละลายน้ำได้ดังกล่าวเลือก มาจากกลุ่มของ Na, K, Ca หรือ NH4

5.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจาก 1,000-1,000,000

6.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 1,000 ถึง ประมาณ 50,000

7.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 1,500 ถึง 25,000

8.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งสัดส่วนของ c:d:e อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 20:10:1 ถึง 1:1:20

9.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่ง e เป็นศูนย์และสัดส่วน ของ c:d อยู่ในช่วงจากประมาณ 30:1 ถึงประมาณ 1:20

10.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่ง n มีค่ามากกว่า 10

11.สารผสม ซึ่งประกอบรวมด้วยโพลิเมอร์ที่ละลายน้ำได้ หรือ การกระจายตัวได้ในน้ำตามสูตร นี้; (สูตรเคมี) เมื่อ n อยู่ในช่วงจากประมาณ 1-100,Z เป็นไฮโดรเจน หรือแคท ไอออนที่ละลายน้ำได้

12.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 11 ซึ่งแคทไอออนที่ละลายน้ำได้ ดังกล่าวถูกเลือกมาจากกลุ่ม ที่ประกอบด้วย Na, K, Ca หรือ NH4 หรือของผสมของสารเหล่านี้

13.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 11 ซึ่งสัดส่วนของ c:d อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 30:1 ถึง ประมาณ 1:20

14.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 11 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 1,000 ถึง 1,000,000

15.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 11 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 1,000 ถึง 50,000

16.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 11 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 1,500 ถึง 25,000

17.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 11 ซึ่ง n มีค่ามากกว่า 10

18.สารผสม ซึ่งประกอบรวมด้วยโพลิเมอร์ที่ละลายน้ำได้ หรือกระจายตัวได้ในน้ำตามสูตร นี้; (สูตรเคมี) เมื่อ n อยู่ในช่วงจากประมาณ 1-100 และ Z เป็นไฮโดรเจน หรือแคทไอออนที่ละลายน้ำได้

19.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 18 ซึ่งแคทไอออนที่ละลายน้ำได้ ดังกล่าวถูกเลือกมาจากกลุ่ม ที่ประกอบด้วย Na, K, Ca หรือ NH4 หรือของผสมของสารเหล่านี้

20.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 18 ซึ่งสัดส่วนของ c:d:e อยู่ ในช่วงจากประมาณ 20:10:1 ถึง 1:1:20

21.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 18 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 1,000 ถึง 1,000,000

22.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 18 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 1,000 ถึง 50,000

23.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 18 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 1,000 ถึง 25,000

24.สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 18 ซึ่ง n มีค่ามากกว่า 10

25.วิธีการยับยั้งการเกิด และสะสมตัวของสปีชี่ส์ที่ทำให้ เกิดตะกรันบนพื้นผิวที่สัมผัสกับ ระบบแอคเควียส ซึ่งประกอบ รวมด้วยการเติมโพลิเมอร์ที่ละลายน้ำได้ หรือกระจายตัวได้ใน น้ำตาม สูตรข้างล่างนี้ในปริมาณที่ใช้ได้ผลลงในระบบแอคเค วียสดังกล่าว (สูตรเคมี) เมื่อ E เป็นหน่วยย่อยที่ซ้ำกันที่เหลือหลังจากการเกิดโพ ลิเมอร์ของสารประกอบชนิดไม่อิ่มตัวแบบ เอธิลีน; R1 คือ H หรือแอลคิลขนาดเล็ก (C1-C4);G หรือ -CH2- หรือ -CHCH3-; R2 เป็น -(-CH2-CH2-O-)-n หรือ -(-CH2-CHCH3-O-)-m ซึ่ง n และ m อยู่ในช่วงจากประมาณ 1 ถึง 100;X เป็น SO3, PO3 หรือ COO;Z เป็น H หรือไฮโดรเจน หรือส่วนที่เป็นหมู่แคทไอออนที่ ละลายน้ำ;F เป็นหน่วยย่อยที่ซ้ำกัน ตามสูตรนี้ (สูตรเคมี) เมื่อ R4 เป็น H หรือแอลคิลขนาดเล็ก (C1-C4),R5 เป็นแอลคิล หรือแอลคิลีนที่มีคาร์บอนจากประมาณ 1 ถึง 6 อะตอม ซึ่งถูก แทนที่ด้วยไฮดรอกซี; c และ d เป็นเลขจำนวนเต็มที่เป็นบวก และ e เป็นเลข จำนวนเต็มที่ไม่เป็นลบ

26.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งสารประกอบชนิดไม่อิ่ม ตัวแบบเอธิลีนดังกล่าวเป็นสารหนึ่ง ชนิด หรือมากกว่าจาก : กรดคาร์บอกซิลิก, กรดซัลโฟนิก, กรดฟอสโฟนิก หรือรูปของ เอไมด์ของสาร เหล่านี้ หรือของผสมของสารเหล่านี้

27.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 26 ซึ่งสารประกอบชนิดไม่อิ่มตัว แบบเอธิลีนดังกล่าวเป็นสารหนึ่ง ชนิดหรือมากกว่าจาก ; กรดอะครีลิก กรดเมธาครีลิก อะครีลาไมด์ เมธาครีลาไมด์ N-เมธิล อะครีลาไมด์ N,N-ไดเมธิลอะครีลาไมด์ N-ไอโซ โพรพิลอะครีลาไมด์ กรดมาเลอิก หรือมาเลอิก แอนไฮไดรด์ กรดฟู มาริก กรดไอทาโคนิก กรดสไตรีนซัลโฟนิก กรดไวนิลซัลโฟนิก กรดไอโซ โพรพีนิลฟอสโฟนิก กรดไวนิลฟอสโฟนิก กรดไวนิลลิ ดีนได-ฟอสโฟนิก กรด2-อะครีลามิโด-2- เมธิลโพรเพนซัลโฟนิก หรือของผสมของสารเหล่านี้

28.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งส่วนที่เป็นหมู่แคทไอออน ที่ละลายน้ำได้ดังกล่าวเลือกมาจาก กลุ่มของ Na, K, Ca หรือ NH4

29.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งมีมวลโมเกกุล Mw อยู่ใน ช่วงจาก 1,000-1,000,000

30.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 1,000 ถึง ประมาณ 50,000

31.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 1,500 ถึง 25,000

32.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งสัดส่วนของ c:d:e อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 20:10:1 ถึง 1:1:20

33.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่ง e เป็นศูนย์และสัดส่วน ของ c:d อยู่ในช่วงจากประมาณ 30:1 ถึงประมาณ 1:20

34.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่ง n มีค่ามากกว่า 10

35.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งมีการเติมโพลิเมอร์ดัง กล่าวลงในระบบแอคเควียสดังกล่าวใน ปริมาณจากประมาณ 0.1ส่วน ในล้านส่วนถึงประมาณ 500 ส่วนในล้านส่วน

36.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งมีการเติมโพลิเมอร์ดัง กล่าวลงในระบบแอคเควียสดังกล่าวใน ปริมาณจากประมาณ 1 ส่วนใน ล้านส่วนถึงประมาณ 100 ส่วนในล้านส่วน

37.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งระบบแอคเควียสดังกล่าว คือ ระบบผลิตไอน้ำ

38.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งระบบแอคเควียสดังกล่าว คือ ระบบน้ำหล่อเย็น

39.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งระบบแอคเควียสดังกล่าว คือ ระบบฟอกล้างก๊าซ

40.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ซึ่งการเติมโพลิเมอร์ที่ละลาย น้ำได้ หรือกระจายตัวได้ในน้ำ ดังกล่าวร่วมกับสารท้อปปิ้ง อย่างน้อยหนึ่งชนิด หรือมากกว่า

41.วิธีการยับยั้งการเกิด และสะสมตัวของสปีชี่ส์ที่ทำให้ เกิดตะกรันบนพื้นผิวที่สัมผัสกับ ระบบแอคเควียส ซึ่งประกอบ รวมด้วยการเติมโพลิเมอร์ที่ละลายน้ำได้ หรือกระจายตัวได้ใน น้ำตาม สูตรข้างล่างนี้ในปริมาณที่ใช้ได้ผลลงในระบบแอคเค วียสดังกล่าว (สูตรเคมี) เมื่อ n อยู่ในช่วงจากประมาณ 1-100,Z เป็นไฮโดรเจน หรือแคท ไอออนที่ละลายน้ำได้

42.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 41 ซึ่งแคทไอออนที่ละลายน้ำได้ดัง กล่าวเลือกมาจากกลุ่ม ซึ่ง ประกอบด้วย Na, K, Ca หรือ NH4 หรือของผสมของสารเหล่านี้

43.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 41 ซึ่งสัดส่วนของ c:d อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 30:1 ถึงประมาณ 1:20

44.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 41 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ในช่วงจากประมาณ 1,000 ถึง 1,000,000

45.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 41 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 1,000 ถึง 50,000

46.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 41 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 1,000 ถึง 25,000

47.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 41 ซึ่ง n มีค่ามากกว่า 10

48.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 41 ซึ่งมีการเติมโพลิเมอร์ดัง กล่าวลงในระบบแอคเควียสดังกล่าวใน ปริมาณจากประมาณ 0.1 ส่วน ในล้านส่วนถึงประมาณ 500 ส่วนในล้านส่วน

49.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 41 ซึ่งมีการเติมโพลิเมอร์ดัง กล่าวลงในระบบแอคเควียสดังกล่าวใน ปริมาณจากประมาณ 1 ส่วนใน ล้านส่วนถึงประมาณ 100 ส่วนในล้านส่วน

50.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 41 ซึ่งระบบแอคเควียสดังกล่าว คือ ระบบผลิตไอน้ำ

51.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 41 ซึ่งระบบแอคเควียสดังกล่าว คือ ระบบน้ำหล่อเย็น

52.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 41 ซึ่งระบบแอคเควียสดังกล่าว คือ ระบบฟอกล้างก๊าซ

53.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 41 ซึ่งการเติมโพลิเมอร์ที่ละลาย น้ำได้ หรือกระจายตัวได้ในน้ำ ดังกล่าวร่วมกับสารท้อปปิ้ง อย่างน้อยหนึ่งชนิด หรือมากกว่า

54.วิธีการยับยั้งการเกิด และสะสมตัวของสปีชี่ส์ที่ทำให้ เกิดตะกรันบนพื้นผิวที่สัมผัสกับ ระบบแอคเควียส ซึ่งประกอบ รวมด้วยการเติมโพลิเมอร์ที่ละลายน้ำได้ หรือกระจายตัวได้ใน น้ำตาม สูตรข้างล่างนี้ในปริมาณที่ใช้ได้ผลลงในระบบแอคเค วียสดังกล่าว (สูตรเคมี) เมื่อ n อยู่ในช่วงจากประมาณ 1-100 และ Z เป็นไฮโดรเจน หรือแคทไอออนที่ละลายน้ำได้

55.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 54 ซึ่งแคทไอออนที่ละลายน้ำได้ ดังกล่าวถูกเลือกมาจากกลุ่ม ซึ่ง ประกอบด้วย Na, K, Ca หรือ NH4 หรือของผสมของสารเหล่านี้

56.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 54 ซึ่งสัดส่วนของ c:d:e อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 20:10:1 ถึง 1:1:20

57.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 54 ซึ่งมีการเติมโพลิเมอร์ดัง กล่าวลงในระบบแอคเควียสดังกล่าวใน ปริมาณจากประมาณ 0.1 ส่วน ในล้านส่วนถึงประมาณ 500 ส่วนในล้านส่วน

58.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 54 ซึ่งมีการเติมโพลิเมอร์ดัง กล่าวลงในระบบแอคเควียสดังกล่าวใน ปริมาณจากประมาณ 1ส่วนใน ล้านส่วนถึงประมาณ 100 ส่วนในล้านส่วน

59.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 54 ซึ่งระบบแอคเควียสดังกล่าว คือ ระบบผลิตไอน้ำ

60.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 54 ซึ่งระบบแอคเควียสดังกล่าว คือ ระบบน้ำหล่อเย็น

61.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 54 ซึ่งระบบแอคเควียสดังกล่าว คือ ระบบฟอกล้างก๊าซ

62.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 54 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 1,000 ถึง 1,000,000

63.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 54 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 1,000 ถึง 50,000

64.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 54 ซึ่งมีมวลโมเลกุล Mw อยู่ใน ช่วงจากประมาณ 1,000 ถึง 25,000

65.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 54 ซึ่ง n มีค่ามากกว่า 10

66.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 54 ซึ่งมีการเติมโพลิเมอร์ที่ ละลายน้ำได้ หรือกระจายตัวได้ในน้ำ ดังกล่าวร่วมกับสารท้อป ปิ้งอย่างน้อยหนึ่งชนิด หรือมากกว่า