TH39106B - บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการซุบคอปเปอร์-ทินอัลลอย - Google Patents

บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการซุบคอปเปอร์-ทินอัลลอย

Info

Publication number
TH39106B
TH39106B TH301002471A TH0301002471A TH39106B TH 39106 B TH39106 B TH 39106B TH 301002471 A TH301002471 A TH 301002471A TH 0301002471 A TH0301002471 A TH 0301002471A TH 39106 B TH39106 B TH 39106B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
copper
plating
bath
cyanogen
glycidyl ether
Prior art date
Application number
TH301002471A
Other languages
English (en)
Other versions
TH63505A (th
Inventor
อูราตะ นายคาซูยะ
ทาชิบานะ นายคูนิโอะ
โอนิวะ นายนาโอยูกิ
ทาจิมะ นายมิกิยะ
โอกาวะ นายยูกิโอะ
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายรุทร นพคุณ
นายรุทร นพคุณ
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายรุทร นพคุณ, นายรุทร นพคุณ filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH63505A publication Critical patent/TH63505A/th
Publication of TH39106B publication Critical patent/TH39106B/th

Links

Abstract

DC60 (19/02/53) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับบาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทิน อัลลอย (copper-tin alloy) ที่ปราศจากไซยาโนเจน ซึ่งมีสารเติมแต่ง (A) ที่ประกอบด้วยด้วยอนุพันธ์ เอมีน, อีพิฮาโลไฮดริน และสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ ที่มีอัตราส่วนของอีพิฮาโลไฮดรินต่อ สารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์เป็น 0.5-2 ถึง 0.1-5 บนพื้นฐานโดยโมล ต่อ 1โมลของอนุพันธ์เอมีน มี pH 3 ถึง 9 และอาจเลือกที่จะมีสารเติมแต่ง (B) ที่ประกอบด้วยกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และ/หรือ เกลือของกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และเกี่ยวข้องกับการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ได้ โดยการใช้บาธ การประดิษฐ์นี้ได้ให้บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ประโยชน์ได้ในการชุบ คอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจากไซยาโนเจนซึ่งสามารถนำไปใช้ในระดับอุตสาหกรรมได้ โดยเฉพาะ อย่างยิ่ง สารนี้สามารถทำได้อย่างสม่ำเสมอซึ่งแสดงถึง อัตราการเกิดผลิตภัณฑ์ที่มีตำหนิต่ำถึงแม้ว่าใช้ กระแสความหนาแน่นที่มีการเปลี่ยนแปลงตลอดระหว่างสถานะสูงกับสถานะต่ำ เช่น ในวิธีการชุบ แบบถังหมุน และการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ได้โดยใช้บาธนี้ การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับบาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทิน อัลลอย (copper-tin alloy) ที่ปราศจากไซยาโนเจน ซึ่งมีสารเติมแต่ง (A) ที่ประกอบด้วยด้วยอนุพันธ์ เอมีน, อีพิฮาโลไฮดริน และสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ ที่มีอัตราส่วนของอีพิฮาโลไฮดรินต่อ สารประกอบไกลวิดิลอีเธอร์เป็น 0.5-2 ถึง 0.1-5 บนพื้นฐานโดยโมล ต่อ 1โมลของอนุพันธ์เอมีน มี pH 3 ถึง 9 และอาจเลือกที่จะมีสารเติมแต่ง (B) ที่ประกอบด้วยกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และ/หรือ เกลือของกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และเกี่ยวข้องกับการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ได้ โดยการใช้บาธ การประดิษฐ์นี้ได้ให้บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ประโยชน์ได้ในการชุบ คอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจากไซยาโนเจนซึ่งสามารถนำไปใช้ในระดับอุตสาหกรรมได้ โดยเฉพาะ อย่างยิ่ง สารนี้สามารถทำได้อย่างสม่ำเสมอซึ่งแสดงถึง อัตราการเกิดผลิตภัณฑ์ที่มีตำหนิต่ำถึงแม้ว่าใช้ กระแสความหนาแน่นที่มีการเปลี่ยนแปลงตลอดระหว่างสถานะสูงกับสถานะต่ำ เช่น ในวิธีการชุบ แบบถังหมุน และการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ได้โดยใช้บาธนี้

Claims (6)

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :
1. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุดคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจน ซึ่งมีลักษณะเฉพาะโดยมีคอปเปอร์ไอออน, ทินไอออน, โลหะแอลคาไลไพโรฟอสเฟต และสารเติมแต่ง (A) ที่ประกอบด้วยอนุพันธ์เอมีน, อีพิฮาโลไฮดริน และสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์
2. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุดคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุพันธ์เอมีน ประกอบรวมด้วยสมาชิกหนึ่งตัว หรือ สมาชิกสอง ตัว หรือมากกว่า ที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย แอมโมเนีย, เอธิลีนไดเอมีน, ไดเอธิลีนไตรเอมีน, ไพเพอราซีน, n-โพรพิลลามีน, 1,2-โพรเพนไดอามี, 1,3-โพรเพนไดอามีน, 1-(2-อะมิโนเอธิล) ไพเพอราซีน, 3-ไดเอธิลอะมิโนโพรพิลลามีน, ไดเมธิลลามีน, เฮกซะเมธิลีนเททระเอมีน, เททระเอธิลีนเพนตะมีน, ไตรเอธาโนลามีน, เฮกซะเมธิลีนไดเอมีน และไอโซโพรพาโนลามีน
3. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุพันธ์เอมีน คือ ไพเพอราซีน หรือ 1-(2-อะมิโนเอธิล) ไพเพอราซีน
4. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอัตราส่วนของอีพิฮาโลไฮดรินและของสารประกอบไกลซิดิล อีเธอร์ในสารเติมแต่ง (A) คือ 0.5 โมลถึง 2 โมลของอีพิฮาโลไฮดริน และ 0.1 โมลถึง 5 โมล ของ สารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์, ตามลำดับ, ต่อ 1 โมล ของอนุพันธ์เอมีน 5.บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ในสารเติมแต่ง (A) คือ สารประกอบ พอลิฟังก์ชันนอลไกลซิดิลอีเธอร์ที่มีหมู่ฟังก์ชันสองหมู่หรือมากกว่าในโมเลกุล 6. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ในสารเติมแต่ง (A) คือ พอลิไกลซิดิล อีเธอร์ของแอดดัก (adduct) ของเอธิลีนไกลคอลที่เพิ่มเติมด้วยอีพิคลอโรไฮดรีน 0 ถึง 2 โมล ที่แทน ด้วยสูตรทั่วไป (I) (สูตรเคมี) (I) (ซึ่ง R1 และ R2 ซึ่งอาจเหมือนกัน หรือต่างกันก็ได้ ซึ่งแต่ละตัวแทนด้วยหมู่ที่แสดงโดยสูตรดังต่อไปนี้ (สูตรเคมี) และ n คือ 0 หรือ 1) 7. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งประกอบรวมต่อไปด้วยสารเติมแต่ง (B) ที่ประกอบด้วย กรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และ/หรือ เกลือของกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ 8. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งบาธสำหรับชุบมี pH 3 ถึง 9 9. การเคลือบที่ได้โดยการใช้บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริค สำหรับใช้ในการชุบ คอปเปอร์-ทินอัลลอย ที่ปราศจากไซยาโนเจน ซึ่งมีลักษณะเฉพาะโดยมีคอปเปอร์ไอออน, ทินไอออน, โลหะแอลคาไลไพโรฟอสเฟตและสารเติมแต่ง (A) ที่ประกอบด้วยอนุพันธ์เอมีน, อีพิฮาโลไฮดริน และ สารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ ; ที่ซึ่งซับสเตรทที่จะถูกเคลือบถูกจุ่มในบาธดังกล่าวและจากนั้นนำไปสู่ กระแสไฟฟ้าเพื่อให้ได้การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอยดังกล่าว 1 0. การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอยตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งอนุพันธ์เอมีนประกอบรวมด้วย สมาชิกหนึ่งตัว หรือสมาชิกสองตัว หรือมากกว่าที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย แอมโมเนีย, เอธิลีน ไดเอมีน, ไดเอธิลีนไตรเอมีน, ไพเพอราซีน, n-โพรพิลลามีน, 1,2-โพรเพนไดอามีน, 1,3-โพรเพน ไดอามีน, 1-(2-อะมิโนเอธิล)ไพเพอราซีน, 3-ไดเอธิลอะมิโนโพรพิลลามีน, ไดเมธิลลามีน, เฮกซะเมธิล ลีนเททระเอมีน, เททระเอธิลีนเพนตะมีน, ไตรเอธาโนลามีน, เฮกซะเมธิลีนไดเอมีน และไอโซโพรพา โนลามีน 1 1.การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอย ตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งอนุพันธ์เอมีน คือ ไพเพอราซีน หรือ 1-(2-อะมิโนเอธิล)ไพเพอราซีน 1 2.การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอย ตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งอัตราส่วนของอีพิฮาโลไฮดรินและ ของสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ในสารเติมแต่ง (A) คือ 0.5 โมลถึง 2 โมลของอีพิฮาโลไฮดริน และ 0.1 โมลถึง 5 โมลของสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์, ตามลำดับ, ต่อ 1 โมลของอนุพันธ์เอมีน 1 3. การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอย ตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ใน สารเติมแต่ง (A) คือสารประกอบพอลิฟังก์ชันนอลไกลซิดิลอีเธอร์ที่มีหมู่ฟังก์ชันสองหมู่หรือมากกว่า ในโมเลกุล 1 4.การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอย ตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ ในสารเติมแต่ง (A) คือพอลิไกลซิดิลอีเธอร์ของแอดดัก (adduct) ของเอธิลีนไกลคอลที่เติมด้วย อีพิคลอโรไฮดริน 0 ถึง 2 โมล ที่แทนด้วยสูตรทั่วไป (I) (สูตรเคมี) (I) (ซึ่ง R1 และ R2 ซึ่งอาจเหมือนกัน หรือต่างกันก็ได้ ซึ่งแต่ละตัวแทนด้วยหมู่ที่แสดงโดยสูตรดังต่อไปนี้ (สูตรเคมี) และ n คือ 0 หรือ 1) 1
5. การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอยตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งบาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริค ประกอบรวมต่อไปด้วยสารเติมแต่ง (B) ซึ่งประกอบด้วยกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และ/หรือ เกลือของกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ 1
6. การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอยตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งบาธสำหรับชุบมี pH 3 ถึง 9
TH301002471A 2003-07-03 บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการซุบคอปเปอร์-ทินอัลลอย TH39106B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH63505A TH63505A (th) 2004-08-20
TH39106B true TH39106B (th) 2014-02-20

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
HK1081239A1 (en) Pyrophosphoric acid bath for use in copper-tin alloy plating
US9365943B2 (en) Method of electroplating uniform copper layers
JP2014505167A (ja) レベリング剤を含有する金属電解めっき組成物
KR102173930B1 (ko) 은 변색 방지방법
RU2014146285A (ru) Ванна для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава и способ нанесения гальванического покрытия
ES2681836T3 (es) Composición de baño para chapado de cobre
PH12015502422B1 (en) Zinc alloy plating method
ES2263539T3 (es) Baño electrolitico y procedimiento de electrodeposicion de aleaciones de estaño-cinc.
ATE383407T1 (de) Nicht auf chromat basierende konversionsbeschichtung für metalle
JP7218411B2 (ja) ポリアミドアミンポリマーを用いる薄い腐食保護コーティング
JP5731802B2 (ja) 金めっき液
TWI652378B (zh) 銅-鎳合金電鍍浴
TWI418668B (zh) 補充銦電鍍組成物的銦離子之方法
TW200710116A (en) Method for making amine-modified epoxy resin and cationic electrodeposition coating composition
WO2017113439A1 (en) Plating leveler for electrodeposition of copper pillar
TH39106B (th) บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการซุบคอปเปอร์-ทินอัลลอย
TH63505A (th) บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการซุบคอปเปอร์-ทินอัลลอย
US9809892B1 (en) Indium electroplating compositions containing 1,10-phenanthroline compounds and methods of electroplating indium
JP2019002062A (ja) 外観保護剤及び該外観保護剤を用いて処理された金属体
CN104520471B (zh) 用于金的浸镀的镀浴组合物
WO2004072320A3 (en) Use of n-allyl substituted amines and their salts as brightening agents in nickel plating baths
CN1150063C (zh) 利用曼尼期衍生聚醚处理基质的方法
EP3272911B1 (en) Indium electroplating compositions containing 2-imidazolidinethione compounds and methods for electroplating indium
MX2023007327A (es) Composicion de galvanizacion y metodo para galvanizar un recubrimiento de cromo sobre un sustrato.
KR20180009309A (ko) 아민 화합물을 함유하는 인듐 전기도금 조성물 및 인듐의 전기도금 방법