TH39106B - บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการซุบคอปเปอร์-ทินอัลลอย - Google Patents
บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการซุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยInfo
- Publication number
- TH39106B TH39106B TH301002471A TH0301002471A TH39106B TH 39106 B TH39106 B TH 39106B TH 301002471 A TH301002471 A TH 301002471A TH 0301002471 A TH0301002471 A TH 0301002471A TH 39106 B TH39106 B TH 39106B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- copper
- plating
- bath
- cyanogen
- glycidyl ether
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (19/02/53) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับบาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทิน อัลลอย (copper-tin alloy) ที่ปราศจากไซยาโนเจน ซึ่งมีสารเติมแต่ง (A) ที่ประกอบด้วยด้วยอนุพันธ์ เอมีน, อีพิฮาโลไฮดริน และสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ ที่มีอัตราส่วนของอีพิฮาโลไฮดรินต่อ สารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์เป็น 0.5-2 ถึง 0.1-5 บนพื้นฐานโดยโมล ต่อ 1โมลของอนุพันธ์เอมีน มี pH 3 ถึง 9 และอาจเลือกที่จะมีสารเติมแต่ง (B) ที่ประกอบด้วยกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และ/หรือ เกลือของกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และเกี่ยวข้องกับการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ได้ โดยการใช้บาธ การประดิษฐ์นี้ได้ให้บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ประโยชน์ได้ในการชุบ คอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจากไซยาโนเจนซึ่งสามารถนำไปใช้ในระดับอุตสาหกรรมได้ โดยเฉพาะ อย่างยิ่ง สารนี้สามารถทำได้อย่างสม่ำเสมอซึ่งแสดงถึง อัตราการเกิดผลิตภัณฑ์ที่มีตำหนิต่ำถึงแม้ว่าใช้ กระแสความหนาแน่นที่มีการเปลี่ยนแปลงตลอดระหว่างสถานะสูงกับสถานะต่ำ เช่น ในวิธีการชุบ แบบถังหมุน และการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ได้โดยใช้บาธนี้ การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับบาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทิน อัลลอย (copper-tin alloy) ที่ปราศจากไซยาโนเจน ซึ่งมีสารเติมแต่ง (A) ที่ประกอบด้วยด้วยอนุพันธ์ เอมีน, อีพิฮาโลไฮดริน และสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ ที่มีอัตราส่วนของอีพิฮาโลไฮดรินต่อ สารประกอบไกลวิดิลอีเธอร์เป็น 0.5-2 ถึง 0.1-5 บนพื้นฐานโดยโมล ต่อ 1โมลของอนุพันธ์เอมีน มี pH 3 ถึง 9 และอาจเลือกที่จะมีสารเติมแต่ง (B) ที่ประกอบด้วยกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และ/หรือ เกลือของกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และเกี่ยวข้องกับการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ได้ โดยการใช้บาธ การประดิษฐ์นี้ได้ให้บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ประโยชน์ได้ในการชุบ คอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจากไซยาโนเจนซึ่งสามารถนำไปใช้ในระดับอุตสาหกรรมได้ โดยเฉพาะ อย่างยิ่ง สารนี้สามารถทำได้อย่างสม่ำเสมอซึ่งแสดงถึง อัตราการเกิดผลิตภัณฑ์ที่มีตำหนิต่ำถึงแม้ว่าใช้ กระแสความหนาแน่นที่มีการเปลี่ยนแปลงตลอดระหว่างสถานะสูงกับสถานะต่ำ เช่น ในวิธีการชุบ แบบถังหมุน และการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ได้โดยใช้บาธนี้
Claims (6)
1. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุดคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจน ซึ่งมีลักษณะเฉพาะโดยมีคอปเปอร์ไอออน, ทินไอออน, โลหะแอลคาไลไพโรฟอสเฟต และสารเติมแต่ง (A) ที่ประกอบด้วยอนุพันธ์เอมีน, อีพิฮาโลไฮดริน และสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์
2. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุดคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุพันธ์เอมีน ประกอบรวมด้วยสมาชิกหนึ่งตัว หรือ สมาชิกสอง ตัว หรือมากกว่า ที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย แอมโมเนีย, เอธิลีนไดเอมีน, ไดเอธิลีนไตรเอมีน, ไพเพอราซีน, n-โพรพิลลามีน, 1,2-โพรเพนไดอามี, 1,3-โพรเพนไดอามีน, 1-(2-อะมิโนเอธิล) ไพเพอราซีน, 3-ไดเอธิลอะมิโนโพรพิลลามีน, ไดเมธิลลามีน, เฮกซะเมธิลีนเททระเอมีน, เททระเอธิลีนเพนตะมีน, ไตรเอธาโนลามีน, เฮกซะเมธิลีนไดเอมีน และไอโซโพรพาโนลามีน
3. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุพันธ์เอมีน คือ ไพเพอราซีน หรือ 1-(2-อะมิโนเอธิล) ไพเพอราซีน
4. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอัตราส่วนของอีพิฮาโลไฮดรินและของสารประกอบไกลซิดิล อีเธอร์ในสารเติมแต่ง (A) คือ 0.5 โมลถึง 2 โมลของอีพิฮาโลไฮดริน และ 0.1 โมลถึง 5 โมล ของ สารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์, ตามลำดับ, ต่อ 1 โมล ของอนุพันธ์เอมีน 5.บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ในสารเติมแต่ง (A) คือ สารประกอบ พอลิฟังก์ชันนอลไกลซิดิลอีเธอร์ที่มีหมู่ฟังก์ชันสองหมู่หรือมากกว่าในโมเลกุล 6. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ในสารเติมแต่ง (A) คือ พอลิไกลซิดิล อีเธอร์ของแอดดัก (adduct) ของเอธิลีนไกลคอลที่เพิ่มเติมด้วยอีพิคลอโรไฮดรีน 0 ถึง 2 โมล ที่แทน ด้วยสูตรทั่วไป (I) (สูตรเคมี) (I) (ซึ่ง R1 และ R2 ซึ่งอาจเหมือนกัน หรือต่างกันก็ได้ ซึ่งแต่ละตัวแทนด้วยหมู่ที่แสดงโดยสูตรดังต่อไปนี้ (สูตรเคมี) และ n คือ 0 หรือ 1) 7. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งประกอบรวมต่อไปด้วยสารเติมแต่ง (B) ที่ประกอบด้วย กรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และ/หรือ เกลือของกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ 8. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งบาธสำหรับชุบมี pH 3 ถึง 9 9. การเคลือบที่ได้โดยการใช้บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริค สำหรับใช้ในการชุบ คอปเปอร์-ทินอัลลอย ที่ปราศจากไซยาโนเจน ซึ่งมีลักษณะเฉพาะโดยมีคอปเปอร์ไอออน, ทินไอออน, โลหะแอลคาไลไพโรฟอสเฟตและสารเติมแต่ง (A) ที่ประกอบด้วยอนุพันธ์เอมีน, อีพิฮาโลไฮดริน และ สารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ ; ที่ซึ่งซับสเตรทที่จะถูกเคลือบถูกจุ่มในบาธดังกล่าวและจากนั้นนำไปสู่ กระแสไฟฟ้าเพื่อให้ได้การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอยดังกล่าว 1 0. การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอยตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งอนุพันธ์เอมีนประกอบรวมด้วย สมาชิกหนึ่งตัว หรือสมาชิกสองตัว หรือมากกว่าที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย แอมโมเนีย, เอธิลีน ไดเอมีน, ไดเอธิลีนไตรเอมีน, ไพเพอราซีน, n-โพรพิลลามีน, 1,2-โพรเพนไดอามีน, 1,3-โพรเพน ไดอามีน, 1-(2-อะมิโนเอธิล)ไพเพอราซีน, 3-ไดเอธิลอะมิโนโพรพิลลามีน, ไดเมธิลลามีน, เฮกซะเมธิล ลีนเททระเอมีน, เททระเอธิลีนเพนตะมีน, ไตรเอธาโนลามีน, เฮกซะเมธิลีนไดเอมีน และไอโซโพรพา โนลามีน 1 1.การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอย ตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งอนุพันธ์เอมีน คือ ไพเพอราซีน หรือ 1-(2-อะมิโนเอธิล)ไพเพอราซีน 1 2.การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอย ตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งอัตราส่วนของอีพิฮาโลไฮดรินและ ของสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ในสารเติมแต่ง (A) คือ 0.5 โมลถึง 2 โมลของอีพิฮาโลไฮดริน และ 0.1 โมลถึง 5 โมลของสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์, ตามลำดับ, ต่อ 1 โมลของอนุพันธ์เอมีน 1 3. การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอย ตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ใน สารเติมแต่ง (A) คือสารประกอบพอลิฟังก์ชันนอลไกลซิดิลอีเธอร์ที่มีหมู่ฟังก์ชันสองหมู่หรือมากกว่า ในโมเลกุล 1 4.การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอย ตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ ในสารเติมแต่ง (A) คือพอลิไกลซิดิลอีเธอร์ของแอดดัก (adduct) ของเอธิลีนไกลคอลที่เติมด้วย อีพิคลอโรไฮดริน 0 ถึง 2 โมล ที่แทนด้วยสูตรทั่วไป (I) (สูตรเคมี) (I) (ซึ่ง R1 และ R2 ซึ่งอาจเหมือนกัน หรือต่างกันก็ได้ ซึ่งแต่ละตัวแทนด้วยหมู่ที่แสดงโดยสูตรดังต่อไปนี้ (สูตรเคมี) และ n คือ 0 หรือ 1) 1
5. การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอยตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งบาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริค ประกอบรวมต่อไปด้วยสารเติมแต่ง (B) ซึ่งประกอบด้วยกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และ/หรือ เกลือของกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ 1
6. การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอยตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งบาธสำหรับชุบมี pH 3 ถึง 9
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TH63505A TH63505A (th) | 2004-08-20 |
TH39106B true TH39106B (th) | 2014-02-20 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
HK1081239A1 (en) | Pyrophosphoric acid bath for use in copper-tin alloy plating | |
US9365943B2 (en) | Method of electroplating uniform copper layers | |
JP2014505167A (ja) | レベリング剤を含有する金属電解めっき組成物 | |
KR102173930B1 (ko) | 은 변색 방지방법 | |
RU2014146285A (ru) | Ванна для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава и способ нанесения гальванического покрытия | |
ES2681836T3 (es) | Composición de baño para chapado de cobre | |
PH12015502422B1 (en) | Zinc alloy plating method | |
ES2263539T3 (es) | Baño electrolitico y procedimiento de electrodeposicion de aleaciones de estaño-cinc. | |
ATE383407T1 (de) | Nicht auf chromat basierende konversionsbeschichtung für metalle | |
JP7218411B2 (ja) | ポリアミドアミンポリマーを用いる薄い腐食保護コーティング | |
JP5731802B2 (ja) | 金めっき液 | |
TWI652378B (zh) | 銅-鎳合金電鍍浴 | |
TWI418668B (zh) | 補充銦電鍍組成物的銦離子之方法 | |
TW200710116A (en) | Method for making amine-modified epoxy resin and cationic electrodeposition coating composition | |
WO2017113439A1 (en) | Plating leveler for electrodeposition of copper pillar | |
TH39106B (th) | บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการซุบคอปเปอร์-ทินอัลลอย | |
TH63505A (th) | บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการซุบคอปเปอร์-ทินอัลลอย | |
US9809892B1 (en) | Indium electroplating compositions containing 1,10-phenanthroline compounds and methods of electroplating indium | |
JP2019002062A (ja) | 外観保護剤及び該外観保護剤を用いて処理された金属体 | |
CN104520471B (zh) | 用于金的浸镀的镀浴组合物 | |
WO2004072320A3 (en) | Use of n-allyl substituted amines and their salts as brightening agents in nickel plating baths | |
CN1150063C (zh) | 利用曼尼期衍生聚醚处理基质的方法 | |
EP3272911B1 (en) | Indium electroplating compositions containing 2-imidazolidinethione compounds and methods for electroplating indium | |
MX2023007327A (es) | Composicion de galvanizacion y metodo para galvanizar un recubrimiento de cromo sobre un sustrato. | |
KR20180009309A (ko) | 아민 화합물을 함유하는 인듐 전기도금 조성물 및 인듐의 전기도금 방법 |