TH63505A - บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการซุบคอปเปอร์-ทินอัลลอย - Google Patents

บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการซุบคอปเปอร์-ทินอัลลอย

Info

Publication number
TH63505A
TH63505A TH301002471A TH0301002471A TH63505A TH 63505 A TH63505 A TH 63505A TH 301002471 A TH301002471 A TH 301002471A TH 0301002471 A TH0301002471 A TH 0301002471A TH 63505 A TH63505 A TH 63505A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
copper
bath
glycidyl ether
cyanogen
plating
Prior art date
Application number
TH301002471A
Other languages
English (en)
Other versions
TH39106B (th
Inventor
อูราตะ นายคาซูยะ
ทาชิบานะ นายคูนิโอะ
โอนิวะ นายนาโอยูกิ
ทาจิมะ นายมิกิยะ
โอกาวะ นายยูกิโอะ
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายรุทร นพคุณ
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายรุทร นพคุณ filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH63505A publication Critical patent/TH63505A/th
Publication of TH39106B publication Critical patent/TH39106B/th

Links

Abstract

DC60 (19/02/53) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับบาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทิน อัลลอย (copper-tin alloy) ที่ปราศจากไซยาโนเจน ซึ่งมีสารเติมแต่ง (A) ที่ประกอบด้วยด้วยอนุพันธ์ เอมีน, อีพิฮาโลไฮดริน และสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ ที่มีอัตราส่วนของอีพิฮาโลไฮดรินต่อ สารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์เป็น 0.5-2 ถึง 0.1-5 บนพื้นฐานโดยโมล ต่อ 1โมลของอนุพันธ์เอมีน มี pH 3 ถึง 9 และอาจเลือกที่จะมีสารเติมแต่ง (B) ที่ประกอบด้วยกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และ/หรือ เกลือของกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และเกี่ยวข้องกับการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ได้ โดยการใช้บาธ การประดิษฐ์นี้ได้ให้บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ประโยชน์ได้ในการชุบ คอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจากไซยาโนเจนซึ่งสามารถนำไปใช้ในระดับอุตสาหกรรมได้ โดยเฉพาะ อย่างยิ่ง สารนี้สามารถทำได้อย่างสม่ำเสมอซึ่งแสดงถึง อัตราการเกิดผลิตภัณฑ์ที่มีตำหนิต่ำถึงแม้ว่าใช้ กระแสความหนาแน่นที่มีการเปลี่ยนแปลงตลอดระหว่างสถานะสูงกับสถานะต่ำ เช่น ในวิธีการชุบ แบบถังหมุน และการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ได้โดยใช้บาธนี้ การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับบาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทิน อัลลอย (copper-tin alloy) ที่ปราศจากไซยาโนเจน ซึ่งมีสารเติมแต่ง (A) ที่ประกอบด้วยด้วยอนุพันธ์ เอมีน, อีพิฮาโลไฮดริน และสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ ที่มีอัตราส่วนของอีพิฮาโลไฮดรินต่อ สารประกอบไกลวิดิลอีเธอร์เป็น 0.5-2 ถึง 0.1-5 บนพื้นฐานโดยโมล ต่อ 1โมลของอนุพันธ์เอมีน มี pH 3 ถึง 9 และอาจเลือกที่จะมีสารเติมแต่ง (B) ที่ประกอบด้วยกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และ/หรือ เกลือของกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และเกี่ยวข้องกับการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ได้ โดยการใช้บาธ การประดิษฐ์นี้ได้ให้บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ประโยชน์ได้ในการชุบ คอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจากไซยาโนเจนซึ่งสามารถนำไปใช้ในระดับอุตสาหกรรมได้ โดยเฉพาะ อย่างยิ่ง สารนี้สามารถทำได้อย่างสม่ำเสมอซึ่งแสดงถึง อัตราการเกิดผลิตภัณฑ์ที่มีตำหนิต่ำถึงแม้ว่าใช้ กระแสความหนาแน่นที่มีการเปลี่ยนแปลงตลอดระหว่างสถานะสูงกับสถานะต่ำ เช่น ในวิธีการชุบ แบบถังหมุน และการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ได้โดยใช้บาธนี้

Claims (6)

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :
1. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุดคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจน ซึ่งมีลักษณะเฉพาะโดยมีคอปเปอร์ไอออน, ทินไอออน, โลหะแอลคาไลไพโรฟอสเฟต และสารเติมแต่ง (A) ที่ประกอบด้วยอนุพันธ์เอมีน, อีพิฮาโลไฮดริน และสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์
2. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุดคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุพันธ์เอมีน ประกอบรวมด้วยสมาชิกหนึ่งตัว หรือ สมาชิกสอง ตัว หรือมากกว่า ที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย แอมโมเนีย, เอธิลีนไดเอมีน, ไดเอธิลีนไตรเอมีน, ไพเพอราซีน, n-โพรพิลลามีน, 1,2-โพรเพนไดอามี, 1,3-โพรเพนไดอามีน, 1-(2-อะมิโนเอธิล) ไพเพอราซีน, 3-ไดเอธิลอะมิโนโพรพิลลามีน, ไดเมธิลลามีน, เฮกซะเมธิลีนเททระเอมีน, เททระเอธิลีนเพนตะมีน, ไตรเอธาโนลามีน, เฮกซะเมธิลีนไดเอมีน และไอโซโพรพาโนลามีน
3. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอนุพันธ์เอมีน คือ ไพเพอราซีน หรือ 1-(2-อะมิโนเอธิล) ไพเพอราซีน
4. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งอัตราส่วนของอีพิฮาโลไฮดรินและของสารประกอบไกลซิดิล อีเธอร์ในสารเติมแต่ง (A) คือ 0.5 โมลถึง 2 โมลของอีพิฮาโลไฮดริน และ 0.1 โมลถึง 5 โมล ของ สารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์, ตามลำดับ, ต่อ 1 โมล ของอนุพันธ์เอมีน 5.บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ในสารเติมแต่ง (A) คือ สารประกอบ พอลิฟังก์ชันนอลไกลซิดิลอีเธอร์ที่มีหมู่ฟังก์ชันสองหมู่หรือมากกว่าในโมเลกุล 6. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ในสารเติมแต่ง (A) คือ พอลิไกลซิดิล อีเธอร์ของแอดดัก (adduct) ของเอธิลีนไกลคอลที่เพิ่มเติมด้วยอีพิคลอโรไฮดรีน 0 ถึง 2 โมล ที่แทน ด้วยสูตรทั่วไป (I) (สูตรเคมี) (I) (ซึ่ง R1 และ R2 ซึ่งอาจเหมือนกัน หรือต่างกันก็ได้ ซึ่งแต่ละตัวแทนด้วยหมู่ที่แสดงโดยสูตรดังต่อไปนี้ (สูตรเคมี) และ n คือ 0 หรือ 1) 7. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งประกอบรวมต่อไปด้วยสารเติมแต่ง (B) ที่ประกอบด้วย กรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และ/หรือ เกลือของกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ 8. บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการชุบคอปเปอร์-ทินอัลลอยที่ปราศจาก ไซยาโนเจนตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งบาธสำหรับชุบมี pH 3 ถึง 9 9. การเคลือบที่ได้โดยการใช้บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริค สำหรับใช้ในการชุบ คอปเปอร์-ทินอัลลอย ที่ปราศจากไซยาโนเจน ซึ่งมีลักษณะเฉพาะโดยมีคอปเปอร์ไอออน, ทินไอออน, โลหะแอลคาไลไพโรฟอสเฟตและสารเติมแต่ง (A) ที่ประกอบด้วยอนุพันธ์เอมีน, อีพิฮาโลไฮดริน และ สารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ ; ที่ซึ่งซับสเตรทที่จะถูกเคลือบถูกจุ่มในบาธดังกล่าวและจากนั้นนำไปสู่ กระแสไฟฟ้าเพื่อให้ได้การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอยดังกล่าว 1 0. การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอยตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งอนุพันธ์เอมีนประกอบรวมด้วย สมาชิกหนึ่งตัว หรือสมาชิกสองตัว หรือมากกว่าที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย แอมโมเนีย, เอธิลีน ไดเอมีน, ไดเอธิลีนไตรเอมีน, ไพเพอราซีน, n-โพรพิลลามีน, 1,2-โพรเพนไดอามีน, 1,3-โพรเพน ไดอามีน, 1-(2-อะมิโนเอธิล)ไพเพอราซีน, 3-ไดเอธิลอะมิโนโพรพิลลามีน, ไดเมธิลลามีน, เฮกซะเมธิล ลีนเททระเอมีน, เททระเอธิลีนเพนตะมีน, ไตรเอธาโนลามีน, เฮกซะเมธิลีนไดเอมีน และไอโซโพรพา โนลามีน 1 1.การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอย ตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งอนุพันธ์เอมีน คือ ไพเพอราซีน หรือ 1-(2-อะมิโนเอธิล)ไพเพอราซีน 1 2.การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอย ตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งอัตราส่วนของอีพิฮาโลไฮดรินและ ของสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ในสารเติมแต่ง (A) คือ 0.5 โมลถึง 2 โมลของอีพิฮาโลไฮดริน และ 0.1 โมลถึง 5 โมลของสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์, ตามลำดับ, ต่อ 1 โมลของอนุพันธ์เอมีน 1 3. การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอย ตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ใน สารเติมแต่ง (A) คือสารประกอบพอลิฟังก์ชันนอลไกลซิดิลอีเธอร์ที่มีหมู่ฟังก์ชันสองหมู่หรือมากกว่า ในโมเลกุล 1 4.การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอย ตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งสารประกอบไกลซิดิลอีเธอร์ ในสารเติมแต่ง (A) คือพอลิไกลซิดิลอีเธอร์ของแอดดัก (adduct) ของเอธิลีนไกลคอลที่เติมด้วย อีพิคลอโรไฮดริน 0 ถึง 2 โมล ที่แทนด้วยสูตรทั่วไป (I) (สูตรเคมี) (I) (ซึ่ง R1 และ R2 ซึ่งอาจเหมือนกัน หรือต่างกันก็ได้ ซึ่งแต่ละตัวแทนด้วยหมู่ที่แสดงโดยสูตรดังต่อไปนี้ (สูตรเคมี) และ n คือ 0 หรือ 1) 1
5. การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอยตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งบาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริค ประกอบรวมต่อไปด้วยสารเติมแต่ง (B) ซึ่งประกอบด้วยกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ และ/หรือ เกลือของกรดซัลโฟนิคประเภทอินทรีย์ 1
6. การเคลือบคอปเปอร์-ทินอัลลอยตามข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งบาธสำหรับชุบมี pH 3 ถึง 9
TH301002471A 2003-07-03 บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการซุบคอปเปอร์-ทินอัลลอย TH39106B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH63505A true TH63505A (th) 2004-08-20
TH39106B TH39106B (th) 2014-02-20

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BR0312416B1 (pt) banho de ácido pirofosfórico, livre de cianogênio, para revestimento de liga de cobre-estanho.
RU2482148C2 (ru) Грунтовочные композиции для адгезивных связывающих систем и покрытий
JP3455712B2 (ja) 銅−スズ合金めっき用ピロリン酸浴
US9365943B2 (en) Method of electroplating uniform copper layers
RU2014146285A (ru) Ванна для нанесения гальванического покрытия из медно-никелевого сплава и способ нанесения гальванического покрытия
JP2014505167A (ja) レベリング剤を含有する金属電解めっき組成物
US9783905B2 (en) Reaction products of amino acids and epoxies
PH12015502422B1 (en) Zinc alloy plating method
EP3129526B1 (en) Plating bath composition and method for electroless plating of palladium
ES2681836T3 (es) Composición de baño para chapado de cobre
CN105316712B (zh) 电镀法
ATE383407T1 (de) Nicht auf chromat basierende konversionsbeschichtung für metalle
JP2019199611A (ja) 速硬化性エポキシ系
JP5731802B2 (ja) 金めっき液
ES2263539T3 (es) Baño electrolitico y procedimiento de electrodeposicion de aleaciones de estaño-cinc.
TW200710116A (en) Method for making amine-modified epoxy resin and cationic electrodeposition coating composition
US20210388231A1 (en) Thin corrosion protective coatings incorporating polyamidoamine polymers
CN107208296B (zh) 用于电沉积铜柱的电镀整平剂
TH63505A (th) บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการซุบคอปเปอร์-ทินอัลลอย
TH39106B (th) บาธที่มีกรดไพโรฟอสฟอริคสำหรับใช้ในการซุบคอปเปอร์-ทินอัลลอย
CN102666919A (zh) 非电解镀金液和非电解镀金方法
EP3272911B1 (en) Indium electroplating compositions containing 2-imidazolidinethione compounds and methods for electroplating indium
JP2013151729A (ja) 亜鉛−ニッケル合金めっき液並びにニッケル供給方法
JP2017082034A (ja) カチオン電着塗料組成物
JPS63241188A (ja) 化学銅めっき液