TH38471A - กระบวนการสำหรับการเชื่อมต่อวงจรรวม - Google Patents

กระบวนการสำหรับการเชื่อมต่อวงจรรวม

Info

Publication number
TH38471A
TH38471A TH9801003538A TH9801003538A TH38471A TH 38471 A TH38471 A TH 38471A TH 9801003538 A TH9801003538 A TH 9801003538A TH 9801003538 A TH9801003538 A TH 9801003538A TH 38471 A TH38471 A TH 38471A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
photoresist
copper
copper crystal
rates
electricity
Prior art date
Application number
TH9801003538A
Other languages
English (en)
Inventor
อิมิกา ยูสอช นายไซพริน
Original Assignee
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า
นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์
นางสาวสนธยา สังขพงศ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า, นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์, นางสาวสนธยา สังขพงศ์ filed Critical นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Publication of TH38471A publication Critical patent/TH38471A/th

Links

Abstract

DC60 (22/09/42) สายลวดโลหะจะถูกจัดให้มีขึ้นในวงจรรวม โดยการเคลือบโดยการพ่นฉาบชั้น ที่เป็นผลึกทองแดงเริ่มต้นลงบนสับสเตรตที่เป็น สารกึ่งตัวนำ, การเกาะสะสม และการ สร้างแพทเทิร์นแก่โฟโต้รี ซิสต์, การชุบโลหะด้วยกระบวนการเคมีไฟฟ้า หรือโดยไม่ใช้ ไฟฟ้าภายในช่องเปิดของโฟโต้รีซิสต์ การลอกโฟโต้รีซิสต์ที่ เหลือออก และการกัดชั้นที่ เป็นผลึกทองแดงเริ่มต้นด้วยสาร กัดขึ้นรูป ซึ่งจะกัดขึ้นรูปชั้นที่เป็นผลึกทองแดงเริ่มต้น ในลักษณะที่พึงต้องการด้วยอัตราที่สูงกว่าอัตราสำหรับโลหะ ที่ถูกชุบด้วยกระบวนการ เคมีไฟฟ้า หรือที่ถูกชุบโดยไม่ใช้ ไฟฟ้า สายลวดโลหะจะถูกจัดให้มีขึ้นในวงจรรวม โดยการเคลือบโดยการพ่นฉาบชั้นที่เป็นผลึกทองแดงเริ่มต้นลงบนสับเสตรดที่เป็น สารกึ่งตัวนำ, การเกาะสะสม และการสร้างแพทเทิร์นแก่โฟโตรี ซิสต์ การชุบโลหะด้วยกระบวนการเคมีไฟฟ้า หรือโดยไม่ใช้ ไฟฟ้าภายในช่องเปิดของโฟโต้รีซิสต์ การลอกโฟโต้รีซิสต์ที่ เหลือออก และการกัดชั้นที่เป็นผลึกทองแดงเริ่มต้นด้วยสาร กัดขึ้นรูป ซึ่งจะกัดขึ้นรูปชั้นที่เป็นผลึกทองแดงเริ่มต้น ในลักษณะที่พึงต้องการด้วยอัตราที่สูงกว่าอัตราสำหรับโลหะ ที่ถูกชุบด้วยกระบวนการเคมีไฟฟ้า หรือที่ถูกชุบโดยไม่ใช้ ไฟฟ้า

Claims (1)

1. วิธีการสำหรับจัดให้มีลวดโลหะในวงจรรวม ซึ่งจะประกอบไปด้วยการเคลือบโดยการพ่นฉาบทองแดงบนสับสเตรตที่เป็นสารกึ่ง ตัวนำ เพื่อจัดให้มีชั้นที่เป็นผลึกทองแดงเริ่มต้นหนา ประมาณ 20 ถึงประมาณ 100 nm การเกาะสะสมของโฟโต้รีซิสต์บน ขั้นที่เป็นผลึกทองแดงเริ่มต้นดังกล่าว และการสร้าง แพทเทิร์นแก่โฟโต้รีซิสต์ดังกล่าว การชุบโลหะด้วยกระบวนการ เคมีไฟฟ้า หรือโดยไม่ใช้ไฟฟ้าภายในช่องเปิดของโฟโต้รีซิสต์ ที่ถูกสร้างแพทเทิร์นลงบนชั้นที่เป็นผลึกทองแดงเริ่มต้นที่ ถูกเผยออกการลอกโฟโต้รีซิสต์ที่เหลืออยู่ออก และการกัดชั้น ที่แท็ก :
TH9801003538A 1998-09-09 กระบวนการสำหรับการเชื่อมต่อวงจรรวม TH38471A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH38471A true TH38471A (th) 2000-05-31

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6162365A (en) Pd etch mask for copper circuitization
KR100240915B1 (ko) 회로 기판 및 그의 제조 방법
JP2004510061A (ja) 誘電体を選択的に金属化する方法
US6048445A (en) Method of forming a metal line utilizing electroplating
RU2543518C1 (ru) Способ изготовления двусторонней печатной платы
US6020261A (en) Process for forming high aspect ratio circuit features
JPH04283992A (ja) プリント回路基板の製造方法
US20040040148A1 (en) Manufacture of flexible printed circuit boards
CA2387012A1 (en) Method of manufacturing printed wiring board
US5208656A (en) Multilayer wiring substrate and production thereof
US6254758B1 (en) Method of forming conductor pattern on wiring board
TW200407057A (en) Method for the manufacture of printed circuit boards with integral plated resistors
KR100674458B1 (ko) 프린트 기판 제조 방법 및 프린트 기판
US6998339B2 (en) Method of forming conductor wiring pattern
TH38471A (th) กระบวนการสำหรับการเชื่อมต่อวงจรรวม
EP0402811A2 (en) Method of manufacturing printed circuit boards
US6808641B2 (en) Method of wiring formation and method for manufacturing electronic components
US5246732A (en) Method of providing a copper pattern on a dielectric substrate
US7306962B2 (en) Electroformed metallization
JP2004095983A (ja) プリント配線板の製造方法
JP3714812B2 (ja) 配線基板の導体パターン形成方法
JPH0823166A (ja) 多層配線基板の製造方法
CN111491456A (zh) 一种含有隐埋线路的印制电路板的制作方法
JPH10135604A (ja) 105乃至400ミクロン膜厚並びに17乃至105ミクロン膜厚のハイブリットプリント回路の製造方法
JP2004103784A (ja) 半導体ウェハのめっき方法