TH3753A - ผลิตภัณฑ์เคลือบ - Google Patents

ผลิตภัณฑ์เคลือบ

Info

Publication number
TH3753A
TH3753A TH8501000419A TH8501000419A TH3753A TH 3753 A TH3753 A TH 3753A TH 8501000419 A TH8501000419 A TH 8501000419A TH 8501000419 A TH8501000419 A TH 8501000419A TH 3753 A TH3753 A TH 3753A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
glass
layer
gas
oxygen
glass surface
Prior art date
Application number
TH8501000419A
Other languages
English (en)
Other versions
TH6043B (th
TH3753EX (th
Inventor
แอนโธนี พอร์เตอร์ นายเดวิด
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น, นายวิรัช ศรีเอนกราธา filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH3753A publication Critical patent/TH3753A/th
Publication of TH3753EX publication Critical patent/TH3753EX/th
Publication of TH6043B publication Critical patent/TH6043B/th

Links

Abstract

การประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับชั้นเคลือบป้องกันการเคลือบย้ายของไอออนโลหะแอลคาไลจากผิวแก้ว ชั้นเคลือบกั้นจับเกาะโดยไพโรลิซิสของก๊าซซิเลนบนผิวแก้วที่อุณหภูมิสูงกว่า 600 ซํ.เมื่อมีสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซอยู่ด้วย ที่ซึ่งออกซิเจนจากแก้วจะรวมเข้ากับซิลิคอนเพื่อเกิดเป็นชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสที่หนาถึง 50 นาโนเมตรขึ้นบนผิวแก้ว ชั้นเคลือบกั้นนี้ใช้ป้องกันการเคลื่อนย้ายของไอออนโลหะแอลคาไลเข้าสู่ชั้นที่ซ้อนทับอยู่ที่ไวต่อไอออนโลหะแอลคาไล เป็นต้นว่าในแก้วที่เคลือบด้วยชั้นเคลือบสะท้อนแสงอินฟราเรดหรือที่นำไฟฟ้าและในเครื่องแสดงผลที่ใช้ผลึกเหลว

Claims (9)

1. วิธีลดการแพร่ของไอออนโลหะแอลคาไลจากแก้วที่มีไอออนโลหะแอลคาไลอยู่ เข้าสู่ชั้นที่ซ้อนทับอยู่ ซึ่งวิธีจะประกอบด้วยการให้มีชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสอยู่ระหว่างแก้วและชั้นที่ซ้อนทับอยู่ ซึ่งชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสประกอบด้วยซิลิคอนและออกซิเจนซึ่งให้เข้าไปโดยไพโรลิซิสของก๊าซซิเลนที่แสดงคุณลักษณะที่ว่าซิเลนถูกไพโรไลซ์บนผิวแก้วที่อุณหภูมิสูงกว่า 600 ซํ. เมื่อมีสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซอยู่ด้วยที่ซึ่งออกซิเจนจากแก้วจะรวมเข้ากับซิลิคอนเพื่อเกิดเป็นชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสหนาถึง 50 นาโนเมตรขึ้นบนผิวแก้ว 2. วิธีเคลือบแก้วที่มีไอออนโลหะปแอลคาไลอยู่ ที่ซึ่งก๊าซซิเลนถูกไพโรไลช์บนผิวแก้วที่อุณหภูมิสูวกว่า 600 ซํ.เมื่อมีสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซอยู่ ที่ซึ่งออก ซิเจนจากแก้วจะรวมกับซิลิคอนเพื่อเกิดเป็นชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสที่หนาถึง 50 นาโนเมตรที่ประกอบด้วยซิลิคอนและออกซิเจนขึ้นบนผิวแก้ว และชั้นที่ไวต่อการแพร่ของไอออนโลหะแอลคาไลจากแก้วจะถูกให้ลงทับบนผิวแก้วที่ได้เคลือบแล้วในลำดับต่อมา 3. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 หรือ 2 ที่ซึ่งก๊าซซิเลนที่ใช้เป็นโมโนซิเลน (SiH4) 4. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่ 1ถึง 3 ที่ซึ่งซิเลนถูกทำให้เจือจางลงด้วยก๊าซเฉื่อย 5. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่ 1ถึง 4 ที่ซึ่งสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่ใช้ไม่มีออกซิเจนอยู่ 6. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อที่ 5 ที่ซึ่งสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซเป็นโอลีฟินที่มีอะตอมคาร์บอน 2 ถึง4 อะตอม 7. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อที่ 6 ที่ซึ่งสารประกอบอิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซเป็นเอธิลีน 8. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่ 1ถึง 7 ที่ซึ่งอัตราส่วนของสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซต่อซิเลนเป็นตั้งแต่ 0.5:1 ถึง 15:1 โดยปริมาตร 9. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ถึง 8 ที่ซึ่งสารเคลือบกั้นโปร่งใสถูกให้ลงบนแก้วที่หนาไม่เกิน 2 มิลลิเมตร 1 0. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่1 ถึง 9 ที่ซึ่งสารเคลือบกั้นถูกให้ลงบนสายแก้วลอยในขณะที่แก้วไหลคืบไปบนอ่างโลหะหลอมเหลวบนที่ซึ่งแก้วเกิดขึ้น 1
1. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่2 ถึง 10 ที่ซึ่งชั้นที่ไวต่อการแพร่ของไอออนโลหะแอลคาไลจะถูกให้โดยการฉาบ โดยการจับเกาะของไอสารเคมีหรือโดยการพ่นสารปฏิกิริยาในรูปของเหลวหรือของแข็งลงบนผิวแก้วเคลือบ 1
2. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อที่ 11 ที่ซึ่งชั้นดังกล่าวที่ให้ลงไปเป็นชั้นที่แสงผ่านได้ที่เป็นโลหะ ออกไซด์เจือ 1
3. แก้วแบนราบที่นำไฟฟ้าที่ประกอบด้วยซับสเตรทแก้วที่มีไอออนโลหะแอลคาไลที่ถูกเคลือบด้วยชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสที่หนาถึง 50 นาโนเมตรที่ประกอบด้วยซิลิเจนและออกซิเจนโดยไพโรลิซิสของก๊าซซิเลนบนผิวแก้วที่อุณหภูมิสูงกว่า 600 ซํ. เมื่อมีสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซอยู่ด้วย ที่ซึ่งออกซิเจนจากแก้วจะรวมเข้ากับซิลิคอนเพื่อเกิดเป็นชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสขึ้นบนผิวแก้ว และมีชั้นโลหะออกไซด์นำ ไฟฟ้าที่มีสภาพความต้านทานน้อยกว่า 500 โอห์มต่อตารางพื้นที่ซ้อนทับอยู่บนชั้นกั้น 1
4. แก้วแบนราบที่สะท้อนแสงอินฟราเรด ที่ประกอบด้วยซับสเตรทแก้วที่มีไอออนโลหะแอลคาไลอยู่ ที่ถูกเคลือบด้วยชั้นกั้นโปร่งใสที่หนาถึง 50 นาโนเมตรที่ประกอบด้วยซิลิคอนและออกซิเจนโดยไพโรลิซิสของก๊าซซิเลนบนผิวแก้วที่อุณหภูมิ สูงกว่า 600 ซํ. เมื่อมีสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซอยู่ด้วย ที่ซึ่งออกซิเจนจากแก้วจะรวมเข้ากับซิลิคอนเพื่อเกิดเป็นชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสขึ้นบนผิวแก้ว และชั้นโหละ ออกไซด์เจือที่สะท้อนแสงอินปราเรดและที่ให้แสงผ่านได้ที่ซ้อนทับอยู่บนชั้นเคลือบกั้น 1
5. แก้วที่หนาถึง 2 มม. ที่มีชั้นเคลือบกั้นโปร่งใส่ที่หนาถึง 50 นาโนเมตร ที่ประกอบด้วยซิลิคอนและออกซิเจนที่จับเกาะโดยไพโรลิซิสของก๊าซที่มีซิเลนอยู่บนผิวแก้วที่อุณหภูมิกว่า 600 ซํ. เมื่อมีสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซอยู่ด้วย ที่ซึ่งออกซิเจนจากแก้วจะรวมเข้ากับซิลิคอนเพื่อเกิดเป็นชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสขึ้นบนผิวแก้ว 1
6. แก้วตามข้อถือสิทธิข้อที่ 15 ที่ซึ่งสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซที่ใช้จะไม่มีออกซิเจนอยู่ 1
7. แก้วตามข้อถือสิทธิข้อที่ 15 หรือ 16 ที่ซึ่งสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซ เป็นโอลีฟินที่มีอะตอมคาร์บอน 2ถึง 4 อะตอม 1
8. แก้วตามข้อถือสิทธิข้อที่ 16 ที่ซึ่งสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซเป็นเอธิลีน 1
9. อุปกรณ์แสดงผลที่ใช้ผลึกเหลวที่ประกอบด้วยชั้นนำไฟฟ้า2 ชั้นที่อยู่ตรงข้ามกันที่มีวัสดุผลึกเหลวอยู่ะรหว่างชั้นที่สองนี้และชั้นปรับแนวที่ทับอยู่บนชั้นนำไฟฟ้าดังกล่าวแต่ละชั้นที่สัมผัสวัสดุผลึกเหลว ที่ซึ่งชั้นนำไฟฟ้าดังกล่าวอย่างน้อยหนึ่งชั้นถูกรองรับอยู่บนซับเสตรทแก้วที่หนาถึง 2 มม. ที่มีไอออนโลหะแอลคาไลอยู่ และระหว่างชั้นนำไฟฟ้าดังกล่าวและแก้วจะให้มีชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสที่หนาถึง 50 นาโนเมตรที่ประกอบด้วยซิลิคอนและออกซิเจนที่จับเกาะอยู่บนผิวแก้วที่อุณหภูมิสูงกว่า 600 ซํ. โดยไพโรลิซิสของซิเลนเมื่อมีสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซอยู่ด้วย ที่ซึ่งออกซิเจนจากแก้วจะรวมเข้ากับซิลิคอนเพื่อเกิดเป็นชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสขึ้นบนผิวแก้ว
TH8501000419A 1985-08-09 ผลิตภัณฑ์เคลือบ TH6043B (th)

Publications (3)

Publication Number Publication Date
TH3753A true TH3753A (th) 1987-01-02
TH3753EX TH3753EX (th) 1987-01-02
TH6043B TH6043B (th) 1996-08-26

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR870002029A (ko) 피복 제품
US5165972A (en) Coated glass
US3511703A (en) Method for depositing mixed oxide films containing aluminum oxide
EP0348185B1 (en) Coatings on glass
Kaneko et al. Physical properties of antimony‐doped tin oxide thick films
RU1830053C (ru) Способ получени покрытий на стекле
US4146657A (en) Method of depositing electrically conductive, infra-red reflective, transparent coatings of stannic oxide
Manifacier et al. In2O3:(Sn) and SnO2:(F) films—Application to solar energy conversion; part 1—Preparation and characterization
JP4322314B2 (ja) 板ガラスにスズ酸化物被膜を形成する方法
US3944684A (en) Process for depositing transparent, electrically conductive tin containing oxide coatings on a substrate
Niskanen et al. Low-temperature deposition of aluminum oxide by radical enhanced atomic layer deposition
USRE31708E (en) Method of depositing electrically conductive, infra-red reflective, transparent coatings of stannic oxide
US4990286A (en) Zinc oxyfluoride transparent conductor
NL7810511A (nl) Werkwijze ter vervaardiging van verbeterde tinoxyde- bekledingen, alsmede de aldus gevormde voortbrengselen.
US5773086A (en) Method of coating flat glass with indium oxide
US5034795A (en) Electrically insulating substrate
Francisco et al. Infrared photochemistry of alkyl-and arylsilanes
US9249504B2 (en) Method of passivating ultra-thin AZO with nano-layer alumina
TH3753A (th) ผลิตภัณฑ์เคลือบ
TH6043B (th) ผลิตภัณฑ์เคลือบ
SE9602268L (sv) Glasningspanel med solfiltrerande egenskaper
JP2001036117A (ja) 光電変換装置用基板
US9214254B2 (en) Ultra-thin AZO with nano-layer alumina passivation
KR830003376A (ko) 전도성 물질의 제조방법
JPH0867980A (ja) 窒化ケイ素膜の製造方法