TH3753A - Coating products - Google Patents

Coating products

Info

Publication number
TH3753A
TH3753A TH8501000419A TH8501000419A TH3753A TH 3753 A TH3753 A TH 3753A TH 8501000419 A TH8501000419 A TH 8501000419A TH 8501000419 A TH8501000419 A TH 8501000419A TH 3753 A TH3753 A TH 3753A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
glass
layer
gas
oxygen
glass surface
Prior art date
Application number
TH8501000419A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH3753EX (en
TH6043B (en
Inventor
แอนโธนี พอร์เตอร์ นายเดวิด
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น, นายวิรัช ศรีเอนกราธา filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH3753EX publication Critical patent/TH3753EX/en
Publication of TH3753A publication Critical patent/TH3753A/en
Publication of TH6043B publication Critical patent/TH6043B/en

Links

Abstract

การประดิษฐ์นี้เกี่ยวกับชั้นเคลือบป้องกันการเคลือบย้ายของไอออนโลหะแอลคาไลจากผิวแก้ว ชั้นเคลือบกั้นจับเกาะโดยไพโรลิซิสของก๊าซซิเลนบนผิวแก้วที่อุณหภูมิสูงกว่า 600 ซํ.เมื่อมีสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซอยู่ด้วย ที่ซึ่งออกซิเจนจากแก้วจะรวมเข้ากับซิลิคอนเพื่อเกิดเป็นชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสที่หนาถึง 50 นาโนเมตรขึ้นบนผิวแก้ว ชั้นเคลือบกั้นนี้ใช้ป้องกันการเคลื่อนย้ายของไอออนโลหะแอลคาไลเข้าสู่ชั้นที่ซ้อนทับอยู่ที่ไวต่อไอออนโลหะแอลคาไล เป็นต้นว่าในแก้วที่เคลือบด้วยชั้นเคลือบสะท้อนแสงอินฟราเรดหรือที่นำไฟฟ้าและในเครื่องแสดงผลที่ใช้ผลึกเหลว The invention deals with a protective coating to prevent the transfer of alkali metal ions from the glass surface. The barrier coating is bindered by pyrolysis of silane gas on the glass surface at temperatures above 600C when a gas-containing electron compound is present. Where oxygen from glass is combined with silicon to form a transparent barrier layer up to 50 nm thick on the glass surface. This barrier layer is used to prevent the movement of alkali metal ions into an overlay that is sensitive to alkali metal ions. For example, in glass coated with an infrared or conductive reflective coating, and in liquid crystal displays.

Claims (9)

1. วิธีลดการแพร่ของไอออนโลหะแอลคาไลจากแก้วที่มีไอออนโลหะแอลคาไลอยู่ เข้าสู่ชั้นที่ซ้อนทับอยู่ ซึ่งวิธีจะประกอบด้วยการให้มีชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสอยู่ระหว่างแก้วและชั้นที่ซ้อนทับอยู่ ซึ่งชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสประกอบด้วยซิลิคอนและออกซิเจนซึ่งให้เข้าไปโดยไพโรลิซิสของก๊าซซิเลนที่แสดงคุณลักษณะที่ว่าซิเลนถูกไพโรไลซ์บนผิวแก้วที่อุณหภูมิสูงกว่า 600 ซํ. เมื่อมีสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซอยู่ด้วยที่ซึ่งออกซิเจนจากแก้วจะรวมเข้ากับซิลิคอนเพื่อเกิดเป็นชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสหนาถึง 50 นาโนเมตรขึ้นบนผิวแก้ว 2. วิธีเคลือบแก้วที่มีไอออนโลหะปแอลคาไลอยู่ ที่ซึ่งก๊าซซิเลนถูกไพโรไลช์บนผิวแก้วที่อุณหภูมิสูวกว่า 600 ซํ.เมื่อมีสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซอยู่ ที่ซึ่งออก ซิเจนจากแก้วจะรวมกับซิลิคอนเพื่อเกิดเป็นชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสที่หนาถึง 50 นาโนเมตรที่ประกอบด้วยซิลิคอนและออกซิเจนขึ้นบนผิวแก้ว และชั้นที่ไวต่อการแพร่ของไอออนโลหะแอลคาไลจากแก้วจะถูกให้ลงทับบนผิวแก้วที่ได้เคลือบแล้วในลำดับต่อมา 3. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 หรือ 2 ที่ซึ่งก๊าซซิเลนที่ใช้เป็นโมโนซิเลน (SiH4) 4. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่ 1ถึง 3 ที่ซึ่งซิเลนถูกทำให้เจือจางลงด้วยก๊าซเฉื่อย 5. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่ 1ถึง 4 ที่ซึ่งสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่ใช้ไม่มีออกซิเจนอยู่ 6. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อที่ 5 ที่ซึ่งสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซเป็นโอลีฟินที่มีอะตอมคาร์บอน 2 ถึง4 อะตอม 7. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อที่ 6 ที่ซึ่งสารประกอบอิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซเป็นเอธิลีน 8. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่ 1ถึง 7 ที่ซึ่งอัตราส่วนของสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซต่อซิเลนเป็นตั้งแต่ 0.5:1 ถึง 15:1 โดยปริมาตร 9. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ถึง 8 ที่ซึ่งสารเคลือบกั้นโปร่งใสถูกให้ลงบนแก้วที่หนาไม่เกิน 2 มิลลิเมตร 1 0. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่1 ถึง 9 ที่ซึ่งสารเคลือบกั้นถูกให้ลงบนสายแก้วลอยในขณะที่แก้วไหลคืบไปบนอ่างโลหะหลอมเหลวบนที่ซึ่งแก้วเกิดขึ้น 11. Method for reducing the diffusion of alkali metal ions from glass that contains alkali metal ions. Enter the layer that is overlaid. This method consists of having a transparent barrier layer between the glass and the overlapping layer. The transparent barrier coating consists of silicon and oxygen, which is supplied by silane gas pyrolysis, which characterizes that silane is pyrolized on the glass surface at temperatures above 600C. It is a gas present where the oxygen from the glass is combined with silicon to form a transparent barrier coating up to 50 nm thick on the glass surface. 2. Glass coating method containing the alkali metal ions. Where the silane gas is pyrolized on the glass surface at temperatures above 600 c. When the gas-containing electron compound is present, the oxygen from the glass binds with silicon to form a thick transparent barrier coating. Up to 50 nm, containing silicon and oxygen on the glass surface And the layer sensitive to the diffusion of alkali metal ions from the glass is subsequently applied over the coated glass surface. 3. Method according to claim 1 or 2, where the silane gas that is It is used as a monosilane (SiH4). 4. Method according to one of the claims 1 to 3, where silane is diluted with inert gas. Clause 1 to 4 where the compound gives an anaerobic electron 6.Method according to claim 5, where the compound gives the gaseous electron an olefin with 2 to 4 carbon atoms 7. . Method according to claim number 6, where the gas-containing electron compound is ethylene. 8. Method according to one of the claims 1 to 7, where the ratio of the compound gives the electron that is Gases to silane are from 0.5: 1 to 15: 1 by volume 9. Method according to any of the claims 1 to 8, where the transparent barrier coating is applied over the glass up to 2 mm 1 0. One of the Claim Method 1 through 9, where the barrier coating is placed on the float glass string as the glass flows. Creep over the molten metal basin, where glass is formed 1 1. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อที่2 ถึง 10 ที่ซึ่งชั้นที่ไวต่อการแพร่ของไอออนโลหะแอลคาไลจะถูกให้โดยการฉาบ โดยการจับเกาะของไอสารเคมีหรือโดยการพ่นสารปฏิกิริยาในรูปของเหลวหรือของแข็งลงบนผิวแก้วเคลือบ 11. One of the Clause 2 to 10 Claim Method, where a layer sensitive to alkali metal ion diffusion is given by plastering. By binding of chemical vapor or by spraying a reaction substance in liquid or solid form onto the coated glass surface. 2. วิธีตามข้อถือสิทธิข้อที่ 11 ที่ซึ่งชั้นดังกล่าวที่ให้ลงไปเป็นชั้นที่แสงผ่านได้ที่เป็นโลหะ ออกไซด์เจือ 12. Method according to claim 11, where such layer is given down as a light-permeable layer that is doped metal oxide 1. 3. แก้วแบนราบที่นำไฟฟ้าที่ประกอบด้วยซับสเตรทแก้วที่มีไอออนโลหะแอลคาไลที่ถูกเคลือบด้วยชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสที่หนาถึง 50 นาโนเมตรที่ประกอบด้วยซิลิเจนและออกซิเจนโดยไพโรลิซิสของก๊าซซิเลนบนผิวแก้วที่อุณหภูมิสูงกว่า 600 ซํ. เมื่อมีสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซอยู่ด้วย ที่ซึ่งออกซิเจนจากแก้วจะรวมเข้ากับซิลิคอนเพื่อเกิดเป็นชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสขึ้นบนผิวแก้ว และมีชั้นโลหะออกไซด์นำ ไฟฟ้าที่มีสภาพความต้านทานน้อยกว่า 500 โอห์มต่อตารางพื้นที่ซ้อนทับอยู่บนชั้นกั้น 13.Conductive flat glass consisting of a glass substrate containing alkali metal ions coated with a transparent barrier layer up to 50 nm thick, composed of silicones and oxygen by pyrolysis. Of silane gas on the glass surface at temperatures above 600C when a compound containing gas electrons Where oxygen from glass binds with silicon to form a transparent barrier layer on the glass surface. And has a leading metal oxide layer Electrical impedance less than 500 ohms per square area is overlaid on barrier 1. 4. แก้วแบนราบที่สะท้อนแสงอินฟราเรด ที่ประกอบด้วยซับสเตรทแก้วที่มีไอออนโลหะแอลคาไลอยู่ ที่ถูกเคลือบด้วยชั้นกั้นโปร่งใสที่หนาถึง 50 นาโนเมตรที่ประกอบด้วยซิลิคอนและออกซิเจนโดยไพโรลิซิสของก๊าซซิเลนบนผิวแก้วที่อุณหภูมิ สูงกว่า 600 ซํ. เมื่อมีสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซอยู่ด้วย ที่ซึ่งออกซิเจนจากแก้วจะรวมเข้ากับซิลิคอนเพื่อเกิดเป็นชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสขึ้นบนผิวแก้ว และชั้นโหละ ออกไซด์เจือที่สะท้อนแสงอินปราเรดและที่ให้แสงผ่านได้ที่ซ้อนทับอยู่บนชั้นเคลือบกั้น 14.Flat glass that reflects infrared light Containing a glass substrate containing alkali metal ions It was coated with a transparent barrier layer up to 50 nm thick containing silicon and oxygen by pyrolysis of silane gas on the glass surface at temperatures above 600 c. When a gas-containing electron compound was present. Where the oxygen from the glass binds with silicon to form a transparent barrier coating on the glass surface, and the diluted basal oxide layer that reflects infra-red and light-transmissivity overlaid on the barrier 1. 5. แก้วที่หนาถึง 2 มม. ที่มีชั้นเคลือบกั้นโปร่งใส่ที่หนาถึง 50 นาโนเมตร ที่ประกอบด้วยซิลิคอนและออกซิเจนที่จับเกาะโดยไพโรลิซิสของก๊าซที่มีซิเลนอยู่บนผิวแก้วที่อุณหภูมิกว่า 600 ซํ. เมื่อมีสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซอยู่ด้วย ที่ซึ่งออกซิเจนจากแก้วจะรวมเข้ากับซิลิคอนเพื่อเกิดเป็นชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสขึ้นบนผิวแก้ว 15. Glass up to 2 mm thick with a transparent barrier layer up to 50 nm thick containing silicon and oxygen binder by pyrolysis of silane gas on the glass surface at a higher temperature. 600 c. When a compound has a gas electron. Where oxygen from glass binds with silicon to form a transparent barrier layer on the glass surface. 6. แก้วตามข้อถือสิทธิข้อที่ 15 ที่ซึ่งสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซที่ใช้จะไม่มีออกซิเจนอยู่ 16. Glass according to claim 15, where the compound gives an electron that is the gas used, there is no oxygen. 7. แก้วตามข้อถือสิทธิข้อที่ 15 หรือ 16 ที่ซึ่งสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซ เป็นโอลีฟินที่มีอะตอมคาร์บอน 2ถึง 4 อะตอม 17. Glass according to claim 15 or 16, where the compound gives gas electrons It is an olefin with 2 to 4 carbon atoms 1. 8. แก้วตามข้อถือสิทธิข้อที่ 16 ที่ซึ่งสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซเป็นเอธิลีน 18. Glass according to claim 16, where the compound gives the gas electron as ethylene 1. 9. อุปกรณ์แสดงผลที่ใช้ผลึกเหลวที่ประกอบด้วยชั้นนำไฟฟ้า2 ชั้นที่อยู่ตรงข้ามกันที่มีวัสดุผลึกเหลวอยู่ะรหว่างชั้นที่สองนี้และชั้นปรับแนวที่ทับอยู่บนชั้นนำไฟฟ้าดังกล่าวแต่ละชั้นที่สัมผัสวัสดุผลึกเหลว ที่ซึ่งชั้นนำไฟฟ้าดังกล่าวอย่างน้อยหนึ่งชั้นถูกรองรับอยู่บนซับเสตรทแก้วที่หนาถึง 2 มม. ที่มีไอออนโลหะแอลคาไลอยู่ และระหว่างชั้นนำไฟฟ้าดังกล่าวและแก้วจะให้มีชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสที่หนาถึง 50 นาโนเมตรที่ประกอบด้วยซิลิคอนและออกซิเจนที่จับเกาะอยู่บนผิวแก้วที่อุณหภูมิสูงกว่า 600 ซํ. โดยไพโรลิซิสของซิเลนเมื่อมีสารประกอบให้อิเล็กตรอนที่เป็นก๊าซอยู่ด้วย ที่ซึ่งออกซิเจนจากแก้วจะรวมเข้ากับซิลิคอนเพื่อเกิดเป็นชั้นเคลือบกั้นโปร่งใสขึ้นบนผิวแก้ว9. A display device that uses a liquid crystal composed of two conductors. The opposing layer containing the liquid crystal material crosses this second layer and the alignment layer over each such conductive layer in contact with the liquid crystal material. Where at least one such conductive layer is supported on a glass substrate up to 2 mm thick containing alkali metal ions. And between the conductive layer and the glass there is a transparent barrier layer up to 50 nm, containing silicon and oxygen binded to the glass surface at temperatures above 600C. When a compound has a gas electron Where oxygen from glass binds with silicon to form a transparent barrier layer on the glass surface.
TH8501000419A 1985-08-09 Coating products TH6043B (en)

Publications (3)

Publication Number Publication Date
TH3753EX TH3753EX (en) 1987-01-02
TH3753A true TH3753A (en) 1987-01-02
TH6043B TH6043B (en) 1996-08-26

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR870002029A (en) Cloth products
US5165972A (en) Coated glass
US3511703A (en) Method for depositing mixed oxide films containing aluminum oxide
CN1122115C (en) Method for forming tin oxide coating on glass
EP0348185B1 (en) Coatings on glass
Kaneko et al. Physical properties of antimony‐doped tin oxide thick films
RU1830053C (en) Method for producing coatings on glass
US4146657A (en) Method of depositing electrically conductive, infra-red reflective, transparent coatings of stannic oxide
Manifacier et al. In2O3:(Sn) and SnO2:(F) films—Application to solar energy conversion; part 1—Preparation and characterization
US4371740A (en) Conductive elements for photovoltaic cells
Niskanen et al. Low-temperature deposition of aluminum oxide by radical enhanced atomic layer deposition
US4990286A (en) Zinc oxyfluoride transparent conductor
US4500567A (en) Method for forming tin oxide coating
NL7810511A (en) METHOD FOR MANUFACTURING IMPROVED TINOXIDE COATINGS, AND PRODUCTS FORMED THEREFORE
US5034795A (en) Electrically insulating substrate
Francisco et al. Infrared photochemistry of alkyl-and arylsilanes
TH3753A (en) Coating products
TH6043B (en) Coating products
SE9602268L (en) Glazing panel with sun-filtering properties
JP2001036117A (en) Photoelectric conversion device board
US9214254B2 (en) Ultra-thin AZO with nano-layer alumina passivation
JP2568079B2 (en) Method for forming tin oxide transparent conductive film
KR830003376A (en) Manufacturing method of conductive material
JPH0867980A (en) Production of silicon nitride film
KR920010068B1 (en) Silicon and oxygen coating on glass