TH36770A - วิธีการผลิตเวเฟอร์หรือแว่นผลึกของสารกึ่งตัวนำ - Google Patents
วิธีการผลิตเวเฟอร์หรือแว่นผลึกของสารกึ่งตัวนำInfo
- Publication number
- TH36770A TH36770A TH9801004436A TH9801004436A TH36770A TH 36770 A TH36770 A TH 36770A TH 9801004436 A TH9801004436 A TH 9801004436A TH 9801004436 A TH9801004436 A TH 9801004436A TH 36770 A TH36770 A TH 36770A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- adhesive tape
- semiconductor wafers
- wafer
- range
- producing semiconductor
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (30/06/42) การประดิษฐ์นี้ ได้เสนอวิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ซึ่งสามารถป้องกันการแตกหัก ของเวเฟอร์ และยังสามารถลดเวลาในการปฏิบัติงานในลักษณะของการปฏิบัติงานที่เรียงลำดับ ต่อเนื่องกันได้ โดยการบดพื้นผิวด้านหลังของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ การประดิษฐ์นี้ ได้เปิดเผยถึงวิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ โดยที่เทปกาวถูกติดอยู่ บนพื้นผิวของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ และภายหลังการบดพื้นผิวด้านหลังของเวเฟอร์ของสารกึ่ง ตัวนำโดยใช้เครื่องบดแล้ว เทปกาวดังกล่าวจะถูกลอกออก กรรมวิธีดังกล่าวประกอบด้วยการใช้ เทปกาวที่สามารถหดตัวได้เมื่อถูกความร้อนเป็นเทปกาว, การบดพื้นผิวด้านหลังของเวเฟอร์ของ สารกึ่งตัวนำ และการให้ความร้อนเทปกาวดังกล่าวในเครื่องบด ซึ่งดังนั้น จะทำให้สามารถลอก เทปกาวออกจากพื้นผิวของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำได้ การประดิษฐ์นี้ ได้เสนอวิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ซึ่งสามารถป้องกันการแตกหัก ของเวเฟอร์ และยังสามารถลดเวลาในการปฏิบัติงานในลักษณะการปฏิบัติงานที่เรียงลำดับ ต่อเนื่องกันได้ ด้วยการบดพื้นผิวด้านหลังของเวเฟอร์สารกึ่งตัวนำ การประดิษฐ์นี้ ได้เปิดเผยถึงการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ โดยที่เทปกาวถูกติดอยู่ บนพื้นผิวของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ และภายหลังการบดพื้นผิวด้านหลังของเวเฟอร์ของสารกึ่ง ตัวนำโดยใช้เครื่องบดแล้ว เทปกาวดังกล่าวจะถูกลอกออก กรรมวิธีดังกล่าวประกอบด้วยการใช้ เทปกาวที่สามารถหดตัวได้เมื่อถูกความร้อนเป็นเทปกาว, การบดพื้นผิวด้านหลังของเวเฟอร์ของ สารกึ่งตัวนำ และการให้ความร้อนเทปกาวดังกล่าวในเครื่องบด ซึ่งดังนั้น จะทำให้สามารถลอก เทปกาวออกจากพื้นผิวของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำได้
Claims (2)
1. วิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิที่ 10 โดยที่ แฟคเตอร์การหดตัว ด้วยความร้อนของเทปกาวมีค่าตั้งแต่ 5 ถึง 50 % ที่อุณหภูมิในช่วง 50 ถึง 80 ํซ. 1
2. วิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ เทปกาวถูกลอกออก จากพื้นผิวของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ และนอกจากนั้น พื้นผิวของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำจะถูก ล้างด้วยของเหลวที่ใช้ล้าง
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TH36770A true TH36770A (th) | 2000-01-14 |
TH20660B TH20660B (th) | 2006-10-06 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW498442B (en) | Method for thinning semiconductor wafer and thin semiconductor wafer | |
EP0951056A3 (en) | Preparation process of semiconductor wafer using a protective adhesive tape | |
CN101124657B (zh) | 贴合晶圆的制造方法及贴合晶圆 | |
EP0981156A3 (en) | Surface protective pressure-sensitive adhesive sheet for use in semiconductor wafer back grinding and method of use thereof | |
US5256599A (en) | Semiconductor wafer wax mounting and thinning process | |
US6743722B2 (en) | Method of spin etching wafers with an alkali solution | |
JP2002510862A5 (th) | ||
CN102061474B (zh) | 一种半导体晶圆的超厚度化学减薄方法 | |
EP0094302A3 (en) | A method of removing impurities from semiconductor wafers | |
CN100400233C (zh) | Ⅱ-ⅵ族半导体材料保护侧边缘的表面抛光方法 | |
TH20660B (th) | วิธีการผลิตเวเฟอร์หรือแว่นผลึกของสารกึ่งตัวนำ | |
TH36770A (th) | วิธีการผลิตเวเฟอร์หรือแว่นผลึกของสารกึ่งตัวนำ | |
JP2007180252A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS5552235A (en) | Fastening of semiconductor wafer on substrate | |
US6864154B2 (en) | Process for lapping wafer and method for processing backside of wafer using the same | |
CN101599452B (zh) | 腐蚀带有绝缘埋层的衬底边缘的方法 | |
JPS61158145A (ja) | 半導体基板の加工方法 | |
JP4450850B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2002141311A (ja) | ウェーハの研磨方法及びウェーハの洗浄方法 | |
JPS5538024A (en) | Manufacturing of semiconductor device | |
JP2001217213A (ja) | 半導体ウェーハの研磨方法 | |
JPS59171137A (ja) | ペレット取り外し方法 | |
JPH04115865A (ja) | 加工物接着方法 | |
CN113964022A (zh) | 硅片背面减薄镀膜工艺 | |
JPH0193126A (ja) | プレートから半導体ウエハの剥がし方法 |