TH36770A - วิธีการผลิตเวเฟอร์หรือแว่นผลึกของสารกึ่งตัวนำ - Google Patents

วิธีการผลิตเวเฟอร์หรือแว่นผลึกของสารกึ่งตัวนำ

Info

Publication number
TH36770A
TH36770A TH9801004436A TH9801004436A TH36770A TH 36770 A TH36770 A TH 36770A TH 9801004436 A TH9801004436 A TH 9801004436A TH 9801004436 A TH9801004436 A TH 9801004436A TH 36770 A TH36770 A TH 36770A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
adhesive tape
semiconductor wafers
wafer
range
producing semiconductor
Prior art date
Application number
TH9801004436A
Other languages
English (en)
Other versions
TH20660B (th
Inventor
กาตาโอกา นายมาโกโต
ฟูจิอิ นายยาซูฮิซา
ฮิราอิ นายเคนทาโร
ฟุกุโมโต นายฮิเดกิ
Original Assignee
นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์
นางสาวสนธยา สังขพงศ์
นายณัฐพล อร่ามเมือง
Filing date
Publication date
Application filed by นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์, นางสาวสนธยา สังขพงศ์, นายณัฐพล อร่ามเมือง filed Critical นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์
Publication of TH36770A publication Critical patent/TH36770A/th
Publication of TH20660B publication Critical patent/TH20660B/th

Links

Abstract

DC60 (30/06/42) การประดิษฐ์นี้ ได้เสนอวิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ซึ่งสามารถป้องกันการแตกหัก ของเวเฟอร์ และยังสามารถลดเวลาในการปฏิบัติงานในลักษณะของการปฏิบัติงานที่เรียงลำดับ ต่อเนื่องกันได้ โดยการบดพื้นผิวด้านหลังของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ การประดิษฐ์นี้ ได้เปิดเผยถึงวิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ โดยที่เทปกาวถูกติดอยู่ บนพื้นผิวของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ และภายหลังการบดพื้นผิวด้านหลังของเวเฟอร์ของสารกึ่ง ตัวนำโดยใช้เครื่องบดแล้ว เทปกาวดังกล่าวจะถูกลอกออก กรรมวิธีดังกล่าวประกอบด้วยการใช้ เทปกาวที่สามารถหดตัวได้เมื่อถูกความร้อนเป็นเทปกาว, การบดพื้นผิวด้านหลังของเวเฟอร์ของ สารกึ่งตัวนำ และการให้ความร้อนเทปกาวดังกล่าวในเครื่องบด ซึ่งดังนั้น จะทำให้สามารถลอก เทปกาวออกจากพื้นผิวของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำได้ การประดิษฐ์นี้ ได้เสนอวิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ซึ่งสามารถป้องกันการแตกหัก ของเวเฟอร์ และยังสามารถลดเวลาในการปฏิบัติงานในลักษณะการปฏิบัติงานที่เรียงลำดับ ต่อเนื่องกันได้ ด้วยการบดพื้นผิวด้านหลังของเวเฟอร์สารกึ่งตัวนำ การประดิษฐ์นี้ ได้เปิดเผยถึงการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ โดยที่เทปกาวถูกติดอยู่ บนพื้นผิวของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ และภายหลังการบดพื้นผิวด้านหลังของเวเฟอร์ของสารกึ่ง ตัวนำโดยใช้เครื่องบดแล้ว เทปกาวดังกล่าวจะถูกลอกออก กรรมวิธีดังกล่าวประกอบด้วยการใช้ เทปกาวที่สามารถหดตัวได้เมื่อถูกความร้อนเป็นเทปกาว, การบดพื้นผิวด้านหลังของเวเฟอร์ของ สารกึ่งตัวนำ และการให้ความร้อนเทปกาวดังกล่าวในเครื่องบด ซึ่งดังนั้น จะทำให้สามารถลอก เทปกาวออกจากพื้นผิวของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำได้

Claims (2)

1. วิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ โดยใช้เทปกาวสำหรับป้องกันที่มีความสามารถใน การหดตัวได้เมื่อถูกความร้อน ซึ่งประกอบด้วย (a) การติดเทปกาวกับพื้นผิวของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ซึ่งวงจรรวมถูกติดตั้งอยู่บนนั้น (b) การบดพื้นผิวด้านหลังของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำโดยใช้เครื่องบด, และ (c) การให้ความร้อนอย่างต่อเนื่อง และการลอดออกของเทปกาวจากพื้นผิวของเวเฟอร์ของ สารกึ่งตัวนำในเครื่องบด 2. วิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ พื้นผิวด้านหลังของเว เฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ซึ่งมีเส้นผ่าศูนย์กลางในช่วง 6 ถึง 16 นิ้ว ถูกบด ซึ่งดังนั้น จะลดความ หนาของเวเฟอร์ให้อยู่ในช่วง 80 ถึง 400 ไมครอน (มิวm) 3. วิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิที่ 2 โดยที่ พื้นผิวด้านหลังของเว เฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ซึ่งมีเส้นผ่านศูนย์กลางในช่วง 6 ถึง 16 นิ้ว ถูกบด ซึ่งดังนั้น จะลดความ หนาของเวเฟอร์อยู่ในช่วง 80-200 ไมครอน 4. วิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิที่ 3 โดยที่ พื้นผิวด้านหลังของเว เฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ซึ่งมีเส้นผ่าศูนกลางในช่วง 6 ถึง 12 นิ้ว ถูกบด ซึ่งดังนั้น จะลดความ หนาของเวเฟอร์ให้อยู่ในช่วง 80 ถึง 200 ไมครอน 5. วิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ เทปกาวถูกทำให้ร้อน จนมีอุณหภูมิอยู่ในช่วง 50 ถึง 99 ํซ. โดยใช้ตัวกลางให้ความร้อนตัวใดตัวหนึ่งเป็นอย่างน้อย ซึ่ง ถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยน้ำอุ่นและอากาศอุ่น 6. วิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิที่ 5 โดยที่ อุณหภูมิของตัวกลาง ให้ความร้อนมีค่าตั้งแต่ 50 ถึง 80 ํซ. 7. วิธีการผลิตของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิที่ 5 โดยที่ เทปกาวถูกทำให้ร้อน จนมีอุณหภูมิอยู่ในช่วงตั้งแต่ 50 ถึง 99 ํซ. โดยใช้น้ำอุ่น 8. วิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิที่ 7 โดยที่ เทปกาวถูกทำให้ร้อน จนมีอุณหภุมิอยู่ในช่วงตั้งแต่ 50 ถึง 80 ํซ. โดยใช้น้ำอุ่น 9. วิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ เวเฟอร์ของสารกึ่งตัว นำถูกทำให้ร้อน ด้วยการทำให้หมุนด้วยความเร็๋วรอบหมุนในช่วง 5 ถึง 500 รอบต่อนาที 1 0. วิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ แฟคเตอร์การหดตัว ด้วยความร้อนของเทปกาวมีค่าตั้งแต่ 5 ถึง 50 % ในช่วงอุณหภูมิ 50 ถึง 99 ํซ. 1
1. วิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิที่ 10 โดยที่ แฟคเตอร์การหดตัว ด้วยความร้อนของเทปกาวมีค่าตั้งแต่ 5 ถึง 50 % ที่อุณหภูมิในช่วง 50 ถึง 80 ํซ. 1
2. วิธีการผลิตเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ เทปกาวถูกลอกออก จากพื้นผิวของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำ และนอกจากนั้น พื้นผิวของเวเฟอร์ของสารกึ่งตัวนำจะถูก ล้างด้วยของเหลวที่ใช้ล้าง
TH9801004436A 1998-11-17 วิธีการผลิตเวเฟอร์หรือแว่นผลึกของสารกึ่งตัวนำ TH20660B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH36770A true TH36770A (th) 2000-01-14
TH20660B TH20660B (th) 2006-10-06

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW498442B (en) Method for thinning semiconductor wafer and thin semiconductor wafer
EP0951056A3 (en) Preparation process of semiconductor wafer using a protective adhesive tape
CN101124657B (zh) 贴合晶圆的制造方法及贴合晶圆
EP0981156A3 (en) Surface protective pressure-sensitive adhesive sheet for use in semiconductor wafer back grinding and method of use thereof
US5256599A (en) Semiconductor wafer wax mounting and thinning process
US6743722B2 (en) Method of spin etching wafers with an alkali solution
JP2002510862A5 (th)
CN102061474B (zh) 一种半导体晶圆的超厚度化学减薄方法
EP0094302A3 (en) A method of removing impurities from semiconductor wafers
CN100400233C (zh) Ⅱ-ⅵ族半导体材料保护侧边缘的表面抛光方法
TH20660B (th) วิธีการผลิตเวเฟอร์หรือแว่นผลึกของสารกึ่งตัวนำ
TH36770A (th) วิธีการผลิตเวเฟอร์หรือแว่นผลึกของสารกึ่งตัวนำ
JP2007180252A (ja) 半導体装置の製造方法
JPS5552235A (en) Fastening of semiconductor wafer on substrate
US6864154B2 (en) Process for lapping wafer and method for processing backside of wafer using the same
CN101599452B (zh) 腐蚀带有绝缘埋层的衬底边缘的方法
JPS61158145A (ja) 半導体基板の加工方法
JP4450850B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2002141311A (ja) ウェーハの研磨方法及びウェーハの洗浄方法
JPS5538024A (en) Manufacturing of semiconductor device
JP2001217213A (ja) 半導体ウェーハの研磨方法
JPS59171137A (ja) ペレット取り外し方法
JPH04115865A (ja) 加工物接着方法
CN113964022A (zh) 硅片背面减薄镀膜工艺
JPH0193126A (ja) プレートから半導体ウエハの剥がし方法