TH23497A - ทรานซิสเตอร์ชนิดมอสและระเบียบวิธีสำหรับการทำทรานซิสเตอร์ชนิดนี้ - Google Patents
ทรานซิสเตอร์ชนิดมอสและระเบียบวิธีสำหรับการทำทรานซิสเตอร์ชนิดนี้Info
- Publication number
- TH23497A TH23497A TH9501000095A TH9501000095A TH23497A TH 23497 A TH23497 A TH 23497A TH 9501000095 A TH9501000095 A TH 9501000095A TH 9501000095 A TH9501000095 A TH 9501000095A TH 23497 A TH23497 A TH 23497A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- area
- transistor
- crane
- region
- gate electrode
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 abstract 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract 1
Abstract
อุปกรณ์ทรานซิสเตอร์ประกอบด้วยอิเล็กโทรดของเกต บริเวณ แซนเนลที่ก่อรูปข้างใต้อิเล็กโทรดของเกต บริเวณซอร์สที่ อยู่ในลักษณะสัมผัสกับด้าน หนึ่งของบริเวณแซนเนล บริเวณนำ ไฟฟ้าบริเวณที่หนึ่งซึ่งก่อรูปในชั้นสารกึ่งตัวนำ ณ ด้าน นอกของบริเวณซอร์สและทำขึ้นมาจากโลหะหรือสารประกอบโลหะ บริเวณเครน ที่ก่อรูปในลักษณะสัมผัสกับอีกด้านหนึ่งของ บริเวณแซนเนล และบริเวณนำไฟฟ้าบริเวณ ที่สองซึ่งก่อรูปใน ชั้นสารกึ่งตัวนำ ณ ด้านนอกของบริเวณเครนและประกอบด้วยโลหะ หรือสารประกอบโลหะ ทรานซิสเตอร์นี้จะมีโครงสร้างแบบเอสโอไอ ซึ่งมีแรงดันเบรค ดาวน์ที่ได้รับการปรับปรุงให้ดีขึ้น ระหว่างบริเวณซอร์สและบริเวณเครน พร้อมด้วยความ ต้านทานแบบ แผ่นบางที่ต่ำของบริเวณซอร์สและเครน จะบรรยายถึงระเบียบวิธี สำหรับ ทำอุปกรณ์ทรานซิสเตอร์เช่นเดียวกัน
Claims (1)
1. ทรานซิสเตอร์ที่เป็นแบบชนิดซึ่งประกอบด้วยชั้นฉนวนและ ชั้นสารกึ่งตัวนำที่ก่อรูปบนชั้นฉนวนดังกล่าวและก่อรูป พร้อมด้วยบริเวณแชนเนล บริเวณ ชอร์ส และบริเวณเครนในนั้น ทรานซิสเตอร์ดังกล่าวประกอบด้วย : (เอ) อิเล็กโทรคของเกต (บี) บริเวณแชนเนลที่ก่อรูปข้างใต้อิเล็กโทรคของเกตดัง กล่าว (ซี) บริเวณซอร์สที่ก่อรูปในลักษณะสัมผัสกับด้านหนึ่งของ บริเวณ แชนเนลดังกล่าว (ดี) บริเวณนำไฟฟ้าบริเวณที่หนึ่งซึ่งก่อรูป ณ ด้านนอกขอแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH23497A true TH23497A (th) | 1997-02-10 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MY111990A (en) | Mos transistor and method for making the same | |
| JPH11103054A5 (th) | ||
| KR960012564A (ko) | 박막 트랜지스터 및 그 형성방법 | |
| EP0820096A3 (en) | Semiconductor device and method for fabricating the same | |
| KR900013586A (ko) | 반도체 장치 | |
| KR970072205A (ko) | 에스. 오. 아이(soi)형 트랜지스터 및 그 제조방법 | |
| TW200620676A (en) | Thin film transistor and its manufacturing method | |
| WO2003007384A3 (en) | Single-electron transistors and fabrication methods | |
| KR900008698A (ko) | 반도체장치 및 반도체 기억장치 | |
| SG137692A1 (en) | Method for forming variable-k gate dielectric | |
| KR900019261A (ko) | 반도체장치 | |
| WO2002009178A3 (en) | Semiconductor device and a process for forming the same | |
| EP1191604A3 (en) | Semiconductor memory device | |
| KR900002462A (ko) | 반도체 장치 | |
| KR930009044A (ko) | 반도체 장치 | |
| KR910007159A (ko) | Mos형 반도체장치 | |
| TW374945B (en) | Semiconductor device and the manufacturing method | |
| TH23497A (th) | ทรานซิสเตอร์ชนิดมอสและระเบียบวิธีสำหรับการทำทรานซิสเตอร์ชนิดนี้ | |
| TW362276B (en) | MOS field effect transistor applied to input/output protection circuit | |
| WO2003007355A3 (de) | Verfahren zur herstellung von kontakten für integrierte schaltungen und halbleiterbauelement mit solchen kontakten | |
| WO2002063696A1 (fr) | Dispositif a semi-conducteurs | |
| TW200507263A (en) | Semiconductor device comprising extensions produced from material with a low melting point | |
| KR950010138A (ko) | 엠엔오에스(mnos)형 반도체장치 | |
| KR890008966A (ko) | 반도체장치의 배선접속부 | |
| KR970008561A (ko) | 반도체장치의 입력보호 회로의 트랜지스터 |