TH22014U - สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บน้ำมันขมิ้นชัน - Google Patents

สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บน้ำมันขมิ้นชัน

Info

Publication number
TH22014U
TH22014U TH1903002370U TH1903002370U TH22014U TH 22014 U TH22014 U TH 22014U TH 1903002370 U TH1903002370 U TH 1903002370U TH 1903002370 U TH1903002370 U TH 1903002370U TH 22014 U TH22014 U TH 22014U
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
active ingredient
weight
agents
facial cleansing
nanoparticles
Prior art date
Application number
TH1903002370U
Other languages
English (en)
Other versions
TH22014A3 (th
TH22014Y (th
Inventor
เรียงจนะพาธี นางสาวพรธิดา
บุญวัชรพันธ์สกุล นางสาวพิชชาพร
ล้ออุทัย นางสาวอรทัย
Original Assignee
สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
Filing date
Publication date
Application filed by สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ filed Critical สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
Publication of TH22014U publication Critical patent/TH22014U/th
Publication of TH22014A3 publication Critical patent/TH22014A3/th
Publication of TH22014Y publication Critical patent/TH22014Y/th

Links

Abstract

------30/10/2563------(OCR) การประดิษฐ์นี้เที่ยวข้องกับสูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บนํ้ามันขมิ้นชัน ที่ประกอบด้วย อนุภาคนาโนกักเก็บสารสำคัญ สารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บ ในอนุภาคนาโน สารตัวพาที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอาง สารเติมแต่ง และนํ้า ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือสารสำคัญประกอบรวมด้วยนํ้ามันขมิ้นชัน และสารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บในอนุภาคนาโน เลือกได้จาก สาร เพิ่มความชุ่มชื้น, สารเพิ่มความกระจ่างใส, สารช่วยลดริ้วรอย, สารช่วยลดรอยแดง, สารช่วยให้ผิวแข็งแรง, สารช่วยสร้างเซลล์ผิวใหม่, อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารเหล่านี้ ------------ หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้า บทสรุปการประดิษฐ์ สูตรตำรับเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วย ก) อนุภาคนาโนกักเก็บสารสำคัญ ร้อยละ 20 ถึง 40 โดยนํ้าหนัก ข) สารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บในอนุภาคนาโน ร้อยละ 0.5 ถึง 10 โดยนํ้าหนัก ค) สารตัวพาที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอาง ร้อยละ 0.1 ถึง 10 โดยนํ้าหนัก ง) สารเติมแต่ง ร้อยละ 0.01 ถึง 2 โดยนํ้าหนัก จ)นํ้า โดยเติมให้ครบร้อยละ 100 โดยนํ้าหนักของส่วนผสมทั้งหมด ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือ สารสำคัญประกอบรวมด้วยนํ้ามันขมิ้นชัน และสารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บใน อนุภาคนาโน ที่เลือกได้จาก สารเพิ่มความชุ่มชื้น สารเพิ่มความกระจ่างใส สารช่วยลดริ้วรอย สารช่วยสร้าง เซลล์ผิวใหม่ สารช่วยลดรอยแดง สารช่วยให้ผิวแข็งแรง หรือของผสมของสารเหล่านี้

Claims (10)

------30/10/2563------(OCR) 1. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บนํ้ามัน ขมิ้นชัน ที่ประกอบรวมด้วย ก) อนุภาคนาโนกักเก็บสารสำคัญ ร้อยละ 20 ถึง 40 โดยนํ้าหนัก ข) สารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บในอนุภาคนาโน ร้อยละ 0.5 ถึง 10 โดยนํ้าหนัก ค) สารตัวพาที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอาง ร้อยละ 0.1 ถึง 10 โดยนํ้าหนัก ง) สารเติมแต่ง ร้อยละ 0.01 ถึง 2โดยนํ้าหนัก จ) นํ้า โดยเติมให้ครบร้อยละ 100 โดยนํ้าหนักของส่วนผสมทั้งหมด ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือ สารสำคัญประกอบรวมด้วยนํ้ามันขมิ้นชัน และสารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บ ในอนุภาคนาโน ที่เลือกได้จาก สารเพิ่มความชุ่มชื้น, สารเพิ่มความกระจ่างใส, สารช่วยลดริ้วรอย, สาร ช่วยสร้างเซลล์ผิวใหม่, สารช่วยลดรอยแดง, สารช่วยให้ผิวแข็งแรง, อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของ สารเหล่านี้2. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ อนุภาคนาโนกักเก็บสารสำคัญ คือ อนุภาคชนิดนาโนอิมัลชัน (nanoemulsion)3. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2 โดยที่อนุภาคนาโนกักเก็บสารสำคัญ ประกอบด้วยนํ้ามันขมิ้นชันร้อยละ 1 ถึง 5 โดยนํ้าหนักของอนุภาคนาโนที่กักเก็บนํ้ามันขมิ้นชันทั้งหมด 4. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บในอนุภาคนาโน เลือกได้จาก สารสกัด จากดอก ใบ หรือ ลำต้น ของสปีดเวลล์ (Veronica officinalis หรือspeedwell flower, leaf, stem extract), สารสกัดจากดอกท้อ (Prunus persica หรือ peach flower extract), กรดซิตริก (citric acid), เอ็น-โพรลิล ปาล์มิโทอิล ไตรเพปไทด์-56 อะซิเตท (N-prolyl palmitoyl tripeptide-56 acetate)อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว 5. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 4 โดยที่ สารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บอนุภาคนาโน มีปริมาณ ร้อยละ 0.5 ถึง 5 โดยนํ้าหนัก 6. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้าตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สารตัวพาที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอางมีปริมาณ ร้อยละ 2 ถึง 5 โดยนํ้าหนัก7. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 6 โดยที่ ตัวพาที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอาง เลือกได้จาก กลีเซอริน (glycerin), ดี-แพนทีนอล (D-panthenol), ซิทิล แอลกอฮอล์ (cetyalcohol), ซิเทียริล ไอโซโนนาโนเอต (cetearyl isononanoate), ไดเมธิโคน (dimethicone), ไดเมธิโคน โคโพลีออล(dimethicone copolyol), ลาโนลิน แอลกอฮอล์ (lanolin alcohol), ไอโซเฮกซะดีเคน (isohexadecane), ไดคาพริลิลอีเธอร์ (dicaprylyl ether), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว8. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 7 โดยที่ ตัวพาที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอาง เลือกได้จาก กลีเซอริน (glycerin), ดี-แพนทีนอล (D-panthenol), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว9. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สารเติมแต่ง เลือกได้จากสารแต่งสี, สารแต่งกลิ่น, สารเพิ่มความทึบแสง, สารกันเสีย, อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว10. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 9 โดยที่ สารเติมแต่ง เลือกได้จากโซเดียม แอนนิเซต (sodium anisate), โซเดียม เบนโซเอต (sodium benzoate), เพนทิลีน ไกลคอล (pentyleneglycol) และ คาพริลิล ไกลคอล (caprylyl glycol), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว ------------ หน้า 1 ของจำนวน 2 หน้า ข้อถือสิทธิ
1. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บน้ำมัน ขมิ้นชัน ที่ประกอบรวมด้วย ก) อนุภาคนาโนกักเก็บสารสำคัญ ร้อยละ 20 ถึง 40 โดยน้ำหนัก ข) สารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บในอนุภาคนาโน ร้อยละ 0.5 ถึง10 โดยน้ำหนัก ค) สารตัวพาที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอาง ร้อยละ 0.1 ถึง 10 โดยน้ำหนัก ง) สารเติมแต่ง ร้อยละ 0.01 ถึง 2 โดยน้ำหนัก จ) น้ำ โดยเติมให้ครบร้อยละ 100 โดยน้ำหนักของส่วนผสมทั้งหมด ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือ สารสำคัญประกอบรวมด้วยน้ำมันขมิ้นชัน และสารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บ ในอนุภาคนาโน ที่เลือกได้จาก สารเพิ่มความชุ่มชื้น, สารเพิ่มความกระจ่างใส, สารช่วยลดริ้วรอย, สาร ช่วยสร้างเซลล์ผิวใหม่, สารช่วยลดรอยแดง, สารช่วยให้ผิวแข็งแรง, หรือของผสมของสารเหล่านี้
2. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ อนุภาคนาโนกักเก็บ สารสำคัญ คือ อนุภาคชนิดนาโนอิมัลชัน (nanoemulsion)
3. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2 โดยที่อนุภาคนาโนกักเก็บ สารสำคัญ ประกอบด้วยน้ำมันขมิ้นชันร้อยละ 1 ถึง 5 โดยน้ำหนักของอนุภาคนาโนที่กักเก็บน้ำมันขมิ้นชัน ทั้งหมด
4. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บ ในอนุภาคนาโน เลือกได้จาก สารสกัด จากดอก ใบ หรือ ลำต้น ของสปีดเวลล์ (Veronica officinalis หรือ speedwell flower, leaf, stem extract), สารสกัดจากดอกท้อ (Prunuspersica หรือ peach flower extract), อย่างใด อย่างหนึ่งหรือของผสมของสารดังกล่าว
5. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 4 โดยที่ สารสำคัญที่ไม่ได้ กักเก็บอนุภาคนาโน มีปริมาณ ร้อยละ 0.5 ถึง 5 โดยน้ำหนัก
6. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สารตัวพาที่ยอมรับได้ทาง เครื่องสำอางมีปริมาณ ร้อยละ 2 ถึง 5 โดยน้ำหนัก หน้า 2 ของจำนวน 2 หน้า
7. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 6 โดยที่ ตัวพาที่ยอมรับได้ ทางเครื่องสำอาง เลือกได้จาก กลีเซอริน (glycerin), ดี-แพนทีนอล (D-panthenol), ซิทิล แอลกอฮอล์ (cetyl alcohol), ซิเทียริล ไอโซโนนาโนเอต (cetearyl isononanoate), ไดเมธิโคน (dimethicone), ไดเมธิโคน โคโพลีออล (dimethicone copolyol), ลาโนลิน แอลกอฮอล์ (lanolin alcohol), ไอโซเฮกซะดีเคน (isohexadecane), ไดคาพริลิล อีเธอร์ (dicaprylyl ether), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว
8. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 7 โดยที่ ตัวพาที่ยอมรับได้ทาง; เครื่องสำอาง เลือกได้จาก กลีเซอริน (glycerin), ดี-แพนทีนอล (D-panthenol), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสม ของสารดังกล่าว
9. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สารเติมแต่ง เลือกได้จาก สารแต่งสี, สารแต่งกลิ่น, สารเพิ่มความทึบแสง, สารกันเสีย, อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว
10. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 9 โดยที่ สารเติมแต่ง เลือกได้จาก โซเดียม แอนนิเซต (sodium anisate), โซเดียม เบนโซเอต (sodium benzoate), เพนทิลีน ไกลคอล (pentylene glycol) และ คาพริลิล ไกลคอล (caprylyl glycol), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว
TH1903002370U 2019-09-13 สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บน้ำมันขมิ้นชัน TH22014Y (th)

Publications (3)

Publication Number Publication Date
TH22014U true TH22014U (th) 2023-07-05
TH22014A3 TH22014A3 (th) 2023-07-05
TH22014Y TH22014Y (th) 2023-07-05

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103813775B (zh) 具有增强性i型胶原合成的化妆品
JP2009013128A (ja) 皮膚外用剤及び口腔用組成物
KR102014998B1 (ko) 천연 유화제를 사용하는 저점도의 화장료 조성물
KR102427088B1 (ko) 두피 면역력 강화, 항산화 및 탈모예방 기능을 갖는 천연 약산성 샴푸 조성물
JP3407935B2 (ja) 皮膚外用剤
KR101781466B1 (ko) 연꽃 추출물 및 오매 추출물을 유효성분으로 함유하는 항산화 활성을 가지는 피부 외용제 조성물
JP2010241762A (ja) 化粧料
CA2931395A1 (fr) Composition d'alkyl polyglucosides et d'esters gras d'aminoacides cationises
JPH0527605B2 (th)
KR102142311B1 (ko) 텐저레틴을 함유하는 피부 외용제 조성물
EP2322138A2 (de) Antimikrobielle Formulierung
KR20210108650A (ko) 동결건조 제형의 피부 개선용 화장료 조성물 및 이의 제조방법
KR20140107301A (ko) 모발 항노화 활성을 가진 생활성 조성물
KR102175249B1 (ko) 인삼 추출물과 녹차 추출물을 함유하는 모발 또는 두피 상태 개선용 조성물
JP2012246324A (ja) 皮膚外用剤
KR101299024B1 (ko) 피부 미백 및 항산화용 화장료 조성물 및 그 제조방법
KR102618781B1 (ko) 수중유 또는 유중수 에멀전 형태를 가지는 자외선 차단제 화장료 조성물 및 이의 제조방법
WO2021056522A1 (en) Cosmetic composition for caring for keratin materials
TH22014Y (th) สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บน้ำมันขมิ้นชัน
ES2241957T3 (es) Cosmetico con mayor efecto hidratante.
US11464727B2 (en) Reduced-cost cosmetic formulations that reduce visible signs of ageing
FR3142087A1 (fr) Complexe hydratant, et utilisation dans des compositions hydratantes
TH22014A3 (th) สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บน้ำมันขมิ้นชัน
KR102904733B1 (ko) 두피 개선용 화장료 조성물
TW520991B (en) Hair cosmetic composition containing plant ingredient