TH22014A3 - สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บน้ำมันขมิ้นชัน - Google Patents

สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บน้ำมันขมิ้นชัน

Info

Publication number
TH22014A3
TH22014A3 TH1903002370U TH1903002370U TH22014A3 TH 22014 A3 TH22014 A3 TH 22014A3 TH 1903002370 U TH1903002370 U TH 1903002370U TH 1903002370 U TH1903002370 U TH 1903002370U TH 22014 A3 TH22014 A3 TH 22014A3
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
substances
nanoparticles
cosmetics
recipe
weight
Prior art date
Application number
TH1903002370U
Other languages
English (en)
Other versions
TH22014U (th
Inventor
เรียงจนะพาธี นางสาวพรธิดา
บุญวัชรพันธ์สกุล นางสาวพิชชาพร
ล้ออุทัย นางสาวอรทัย
Original Assignee
สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
Filing date
Publication date
Application filed by สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ filed Critical สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
Publication of TH22014U publication Critical patent/TH22014U/th
Publication of TH22014A3 publication Critical patent/TH22014A3/th

Links

Abstract

30/10/2563(OCR) การประดิษฐ์นี้เที่ยวข้องกับสูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บนํ้ามันขมิ้นชัน ที่ประกอบด้วย อนุภาคนาโนกักเก็บสารสำคัญ สารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บ ในอนุภาคนาโน สารตัวพาที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอาง สารเติมแต่ง และนํ้า ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือสารสำคัญประกอบรวมด้วยนํ้ามันขมิ้นชัน และสารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บในอนุภาคนาโน เลือกได้จาก สาร เพิ่มความชุ่มชื้น, สารเพิ่มความกระจ่างใส, สารช่วยลดริ้วรอย, สารช่วยลดรอยแดง, สารช่วยให้ผิวแข็งแรง, สารช่วยสร้างเซลล์ผิวใหม่, อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารเหล่านี้ หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้า บทสรุปการประดิษฐ์ สูตรตำรับเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วย ก) อนุภาคนาโนกักเก็บสารสำคัญ ร้อยละ 20 ถึง 40 โดยนํ้าหนัก ข) สารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บในอนุภาคนาโน ร้อยละ 0.5 ถึง 10 โดยนํ้าหนัก ค) สารตัวพาที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอาง ร้อยละ 0.1 ถึง 10 โดยนํ้าหนัก ง) สารเติมแต่ง ร้อยละ 0.01 ถึง 2 โดยนํ้าหนัก จ)นํ้า โดยเติมให้ครบร้อยละ 100 โดยนํ้าหนักของส่วนผสมทั้งหมด ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือ สารสำคัญประกอบรวมด้วยนํ้ามันขมิ้นชัน และสารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บใน อนุภาคนาโน ที่เลือกได้จาก สารเพิ่มความชุ่มชื้น สารเพิ่มความกระจ่างใส สารช่วยลดริ้วรอย สารช่วยสร้าง เซลล์ผิวใหม่ สารช่วยลดรอยแดง สารช่วยให้ผิวแข็งแรง หรือของผสมของสารเหล่านี้

Claims (10)

1./10/2563(OCR) 1. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บนํ้ามัน ขมิ้นชัน ที่ประกอบรวมด้วย ก) อนุภาคนาโนกักเก็บสารสำคัญ ร้อยละ 20 ถึง 40 โดยนํ้าหนัก ข) สารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บในอนุภาคนาโน ร้อยละ 0.5 ถึง 10 โดยนํ้าหนัก ค) สารตัวพาที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอาง ร้อยละ 0.1 ถึง 10 โดยนํ้าหนัก ง) สารเติมแต่ง ร้อยละ 0.01 ถึง 2โดยนํ้าหนัก จ) นํ้า โดยเติมให้ครบร้อยละ 100 โดยนํ้าหนักของส่วนผสมทั้งหมด ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือ สารสำคัญประกอบรวมด้วยนํ้ามันขมิ้นชัน และสารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บ ในอนุภาคนาโน ที่เลือกได้จาก สารเพิ่มความชุ่มชื้น, สารเพิ่มความกระจ่างใส, สารช่วยลดริ้วรอย, สาร ช่วยสร้างเซลล์ผิวใหม่, สารช่วยลดรอยแดง, สารช่วยให้ผิวแข็งแรง, อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของ สารเหล่านี้2. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ อนุภาคนาโนกักเก็บสารสำคัญ คือ อนุภาคชนิดนาโนอิมัลชัน (nanoemulsion)3. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2 โดยที่อนุภาคนาโนกักเก็บสารสำคัญ ประกอบด้วยนํ้ามันขมิ้นชันร้อยละ 1 ถึง 5 โดยนํ้าหนักของอนุภาคนาโนที่กักเก็บนํ้ามันขมิ้นชันทั้งหมด 4. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บในอนุภาคนาโน เลือกได้จาก สารสกัด จากดอก ใบ หรือ ลำต้น ของสปีดเวลล์ (Veronica officinalis หรือspeedwell flower, leaf, stem extract), สารสกัดจากดอกท้อ (Prunus persica หรือ peach flower extract), กรดซิตริก (citric acid), เอ็นโพรลิล ปาล์มิโทอิล ไตรเพปไทด์56 อะซิเตท (Nprolyl palmitoyl tripeptide56 acetate)อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว 5. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 4 โดยที่ สารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บอนุภาคนาโน มีปริมาณ ร้อยละ 0.5 ถึง 5 โดยนํ้าหนัก 6. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้าตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สารตัวพาที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอางมีปริมาณ ร้อยละ 2 ถึง 5 โดยนํ้าหนัก7. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 6 โดยที่ ตัวพาที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอาง เลือกได้จาก กลีเซอริน (glycerin), ดีแพนทีนอล (Dpanthenol), ซิทิล แอลกอฮอล์ (cetyalcohol), ซิเทียริล ไอโซโนนาโนเอต (cetearyl isononanoate), ไดเมธิโคน (dimethicone), ไดเมธิโคน โคโพลีออล(dimethicone copolyol), ลาโนลิน แอลกอฮอล์ (lanolin alcohol), ไอโซเฮกซะดีเคน (isohexadecane), ไดคาพริลิลอีเธอร์ (dicaprylyl ether), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว8. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 7 โดยที่ ตัวพาที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอาง เลือกได้จาก กลีเซอริน (glycerin), ดีแพนทีนอล (Dpanthenol), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว9. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สารเติมแต่ง เลือกได้จากสารแต่งสี, สารแต่งกลิ่น, สารเพิ่มความทึบแสง, สารกันเสีย, อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว10. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 9 โดยที่ สารเติมแต่ง เลือกได้จากโซเดียม แอนนิเซต (sodium anisate), โซเดียม เบนโซเอต (sodium benzoate), เพนทิลีน ไกลคอล (pentyleneglycol) และ คาพริลิล ไกลคอล (caprylyl glycol), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว หน้า 1 ของจำนวน 2 หน้า ข้อถือสิทธิ 1. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บน้ำมัน ขมิ้นชัน ที่ประกอบรวมด้วย ก) อนุภาคนาโนกักเก็บสารสำคัญ ร้อยละ 20 ถึง 40 โดยน้ำหนัก ข) สารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บในอนุภาคนาโน ร้อยละ 0.5 ถึง10 โดยน้ำหนัก ค) สารตัวพาที่ยอมรับได้ทางเครื่องสำอาง ร้อยละ 0.1 ถึง 10 โดยน้ำหนัก ง) สารเติมแต่ง ร้อยละ 0.01 ถึง 2 โดยน้ำหนัก จ) น้ำ โดยเติมให้ครบร้อยละ 100 โดยน้ำหนักของส่วนผสมทั้งหมด ซึ่งมีลักษณะเฉพาะคือ สารสำคัญประกอบรวมด้วยน้ำมันขมิ้นชัน และสารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บ ในอนุภาคนาโน ที่เลือกได้จาก สารเพิ่มความชุ่มชื้น, สารเพิ่มความกระจ่างใส, สารช่วยลดริ้วรอย, สาร ช่วยสร้างเซลล์ผิวใหม่, สารช่วยลดรอยแดง, สารช่วยให้ผิวแข็งแรง, หรือของผสมของสารเหล่านี้
2. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ อนุภาคนาโนกักเก็บ สารสำคัญ คือ อนุภาคชนิดนาโนอิมัลชัน (nanoemulsion)
3. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2 โดยที่อนุภาคนาโนกักเก็บ สารสำคัญ ประกอบด้วยน้ำมันขมิ้นชันร้อยละ 1 ถึง 5 โดยน้ำหนักของอนุภาคนาโนที่กักเก็บน้ำมันขมิ้นชัน ทั้งหมด
4. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สารสำคัญที่ไม่ได้กักเก็บ ในอนุภาคนาโน เลือกได้จาก สารสกัด จากดอก ใบ หรือ ลำต้น ของสปีดเวลล์ (Veronica officinalis หรือ speedwell flower, leaf, stem extract), สารสกัดจากดอกท้อ (Prunuspersica หรือ peach flower extract), อย่างใด อย่างหนึ่งหรือของผสมของสารดังกล่าว
5. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 4 โดยที่ สารสำคัญที่ไม่ได้ กักเก็บอนุภาคนาโน มีปริมาณ ร้อยละ 0.5 ถึง 5 โดยน้ำหนัก
6. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สารตัวพาที่ยอมรับได้ทาง เครื่องสำอางมีปริมาณ ร้อยละ 2 ถึง 5 โดยน้ำหนัก หน้า 2 ของจำนวน 2 หน้า
7. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 6 โดยที่ ตัวพาที่ยอมรับได้ ทางเครื่องสำอาง เลือกได้จาก กลีเซอริน (glycerin), ดีแพนทีนอล (Dpanthenol), ซิทิล แอลกอฮอล์ (cetyl alcohol), ซิเทียริล ไอโซโนนาโนเอต (cetearyl isononanoate), ไดเมธิโคน (dimethicone), ไดเมธิโคน โคโพลีออล (dimethicone copolyol), ลาโนลิน แอลกอฮอล์ (lanolin alcohol), ไอโซเฮกซะดีเคน (isohexadecane), ไดคาพริลิล อีเธอร์ (dicaprylyl ether), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว
8. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 7 โดยที่ ตัวพาที่ยอมรับได้ทาง เครื่องสำอาง เลือกได้จาก กลีเซอริน (glycerin), ดีแพนทีนอล (Dpanthenol), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสม ของสารดังกล่าว
9. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สารเติมแต่ง เลือกได้จาก สารแต่งสี, สารแต่งกลิ่น, สารเพิ่มความทึบแสง, สารกันเสีย, อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว
10. สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ตามข้อถือสิทธิที่ 9 โดยที่ สารเติมแต่ง เลือกได้จาก โซเดียม แอนนิเซต (sodium anisate), โซเดียม เบนโซเอต (sodium benzoate), เพนทิลีน ไกลคอล (pentylene glycol) และ คาพริลิล ไกลคอล (caprylyl glycol), อย่างใดอย่างหนึ่ง หรือของผสมของสารดังกล่าว
TH1903002370U 2019-09-13 สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บน้ำมันขมิ้นชัน TH22014A3 (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH22014U TH22014U (th) 2023-07-05
TH22014A3 true TH22014A3 (th) 2023-07-05

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101781466B1 (ko) 연꽃 추출물 및 오매 추출물을 유효성분으로 함유하는 항산화 활성을 가지는 피부 외용제 조성물
JPH0527605B2 (th)
KR102142311B1 (ko) 텐저레틴을 함유하는 피부 외용제 조성물
JP2010241762A (ja) 化粧料
KR102320497B1 (ko) 립밤 조성물 및 그 제조방법
KR102032873B1 (ko) 항산화 및 보습용 화장료 조성물
WO2022066626A1 (en) Synergistic antioxidant cosmetic composition containing at least one hydroxytyrosol and at least one sulforaphane
KR102175249B1 (ko) 인삼 추출물과 녹차 추출물을 함유하는 모발 또는 두피 상태 개선용 조성물
KR20140107301A (ko) 모발 항노화 활성을 가진 생활성 조성물
CN106974860A (zh) 一种含有树莓的护肤组合物及乳液
KR102064599B1 (ko) 우방자 추출물, 나이아신아마이드 및 멘틸피씨에이를 포함하는 탈모 방지용 화장료 조성물
TH22014A3 (th) สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บน้ำมันขมิ้นชัน
KR101969475B1 (ko) 엉겅퀴를 포함하는 복합 식물의 추출물을 유효성분으로 포함하는 피부개선용 화장료 조성물
KR102439976B1 (ko) 천연 항산화 물질인 신양벚나무열매 추출물과 멜라토닌을 함유한 천연 항산화 항균 화장료 조성물
TH22014U (th) สูตรตำรับของเครื่องสำอางสำหรับเช็ดบำรุงผิวหน้า ที่ประกอบรวมด้วยอนุภาคนาโนกักเก็บน้ำมันขมิ้นชัน
KR20210001045A (ko) 지질산화 방지, 자외선에 의한 손상 피부 개선 및 피부 진정 효과가 우수한 화장료 조성물
ES2241957T3 (es) Cosmetico con mayor efecto hidratante.
CN103222937A (zh) 含有亚麻仁提取物的皮肤外用剂组合物
CN109528567B (zh) 一种防晒护色的水油两相组合物及其制备方法、应用
KR20090056522A (ko) 기실, 원보초, 상기생, 여정자 및 지골피 추출물을유효성분으로 함유하는 자유 라디칼 소거작용을 갖는화장료 조성물
KR101899927B1 (ko) 고농도 비타민 c 안정화용 화장료 조성물
JPH06247831A (ja) 頭髪用化粧料
JP2007204418A (ja) 皮膚外用剤
KR102063504B1 (ko) 가공한 인삼 및 녹차에서 추출한 다당체를 함유하는 모발 또는 두피 상태 개선용 조성물
JP2020132614A (ja) アワビエキス含有化粧料