TH165753A - - Google Patents

Info

Publication number
TH165753A
TH165753A TH1501004589A TH1501004589A TH165753A TH 165753 A TH165753 A TH 165753A TH 1501004589 A TH1501004589 A TH 1501004589A TH 1501004589 A TH1501004589 A TH 1501004589A TH 165753 A TH165753 A TH 165753A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
ions
ion
charged gas
electron
glass
Prior art date
Application number
TH1501004589A
Other languages
English (en)
Thai (th)
Other versions
TH1501004589A (th
Original Assignee
นายมนูญ ช่างชำนิ นายอัครวิทย์ กาญจนโอภาษ นางสาวสุวดี ศิริชีพชัยยันต์
Filing date
Publication date
Application filed by นายมนูญ ช่างชำนิ นายอัครวิทย์ กาญจนโอภาษ นางสาวสุวดี ศิริชีพชัยยันต์ filed Critical นายมนูญ ช่างชำนิ นายอัครวิทย์ กาญจนโอภาษ นางสาวสุวดี ศิริชีพชัยยันต์
Publication of TH165753A publication Critical patent/TH165753A/th
Publication of TH1501004589A publication Critical patent/TH1501004589A/th

Links

TH1501004589A 2014-02-12 กระบวนการสำหรับปรับสภาพโดยลำแสงของโมโน- หรือมัลติชาร์ตไอออนของก๊าซ เพื่อผลิตวัสดุแก้วแบบกันแสงสะท้อน TH1501004589A (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH165753A true TH165753A (https=) 2017-08-10
TH1501004589A TH1501004589A (th) 2017-08-10

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PH12015501621A1 (en) Process for treatment by a beam of mono- or multicharged ions of a gas to produce antireflective glass materials
WO2019122358A3 (en) Ion source
NZ705667A (en) Negative ion-based neutral beam injector
GB2547120A (en) A multi-reflecting time-of-flight analyzer
EA201692408A1 (ru) Способ обработки сапфирового материала пучком одно- и/или многозарядных ионов газа для получения антибликового материала
PH12015501772A1 (en) Ion beam treatment method for producing superhydrophilic glass materials
TW200608489A (en) Plasma treatment method and plasma etching method
EA201892238A1 (ru) Поддающаяся термической обработке противоотражающая стеклянная подложка и способ ее изготовления
MY166024A (en) Method and apparatus for enhanced lifetime and performance of ion source in an ion implantation system
Lee et al. Ar and O2 linear ion beam PET treatments using an anode layer ion source
WO2012049110A3 (en) Switchable gas cluster and atomic ion gun, and method of surface processing using the gun
EA201892252A1 (ru) Противоотражающая устойчивая к царапанию стеклянная подложка и способ ее изготовления
EP2819148A3 (en) Electron ionization (EI) utilizing different EI energies
SG11201811663XA (en) Method for implanting single or multiply charged ions into a surface of a treated object and device for implementation of the method
JP1738829S (ja) イオナイザー
EA201892197A1 (ru) Стеклянная подложка со сниженным внутренним отражением и способ ее изготовления
WO2015187639A3 (en) Method of improving ion beam quality in a non-mass-analyzed ion implantation system
EA201892126A1 (ru) Синяя отражающая стеклянная подложка и способ ее изготовления
RU2014138019A (ru) Способ обработки пучком нейтральных частиц, основанный на технологии обработки пучком газовых кластерных ионов, и полученные таким образом изделия
EP4481769A3 (en) Particle beam treatment
TH165753A (https=)
SG11201907049YA (en) Process for treatment with a beam of ions in order to produce a scratch-resistant high-transmittance antireflective sapphire
Komuro et al. Simulated streak pictures for the production of chemical species in an atmospheric pressure streamer discharge
JP2017502503A5 (ja) ワークピースを処理する方法
Shemukhin et al. Ion-beam methods of the accelerator complex HVEE-500 SINP MSU