TH149961A - วิธีการผลิตองค์ประกอบสารขัดเงาเหลว - Google Patents
วิธีการผลิตองค์ประกอบสารขัดเงาเหลวInfo
- Publication number
- TH149961A TH149961A TH1301003450A TH1301003450A TH149961A TH 149961 A TH149961 A TH 149961A TH 1301003450 A TH1301003450 A TH 1301003450A TH 1301003450 A TH1301003450 A TH 1301003450A TH 149961 A TH149961 A TH 149961A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- silica
- filter
- polishing
- particles
- average particle
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 title 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 20
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract 12
- -1 diatomite cation ion Chemical class 0.000 claims abstract 9
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract 7
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract 6
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims abstract 5
- 210000002826 Placenta Anatomy 0.000 claims abstract 4
- 238000005296 abrasive Methods 0.000 claims abstract 4
- 125000003010 ionic group Chemical group 0.000 claims abstract 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000010802 sludge Substances 0.000 claims abstract 2
- 150000002500 ions Chemical group 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract 1
Abstract
DC60 (26/08/56) วิธีการเตรียมคือวิธีการผลิตขององค์ประกอบสารขัดเงาที่มีความาสามารถลดรอยขีดข่วน เเละอนุภาคของวัตถุถูกทำให้เงา ภายหลังจากการขัดเงา ซึ่งเป็นวิธีสำหรับการผลิตองค์ประกอบสารขัดเงาที่มี ขั้นตอนการกรองกับเครื่องกรองตะกอนอนุภาคซิลิกาที่กระจายตัวอยู่ที่ประกอบด้วยซิลิกาคอลลอยด์ ซึ่งอนุภาคระยะเเรกมีเส้นผ่านศูนย์กลางอนุภาคเฉลี่ยในช่วง 1 ถึง 100 นาโนเมตรที่ซึ่งเครื่องกรอง ตะกอนที่ประกอบด้วยไดอะทอไมต์เเบบเเคทไอออนโดยการใช้สารประกอบโพลีวาเลนซ์เอมีนที่มีกลุ่ม เเคนไอออนิก 9 ถึง 200 ในโมเลกุล วิธีการเตรียมคือวิธีการผลิตขององค์ประกอบสารขัดเงาที่มีความาสามารถลดรอยขีดข่วน เเละอนุภาคของวัตถุถูกทำให้เงาภายหลังจากการขัดเงาซึ่งเป็นวิธีสำหรับการผลิตองค์ประกอบสารขัดเงาที่มี ขั้นตอนการกรองกับเครื่องกรองตะกอนอนุภาคซิลิกาที่กระจายอยู่ที่ประกอบด้วยซิลิกาคอลลอยด์ ซึ่งอนุภาคระยะเเรกมีเส้นผ่านศูนย์กลางอนุภาคเฉลี่ยในช่วง 1 ถึง 100 นาโนเมตรที่ซึ่งเครื่องกรอง ตะกอนที่ประกอบด้วยไดอะทอไมต์เเบบเเคทไอออนโดยการใช้สารประกอบโพลีวาเลนซ์มีนเอมีนที่มีกลุ่ม เเคนไออนิก 9 ถึง 200 ในโมเลกุล
Claims (1)
1. วิธีการผลิตขององค์ประกอบสารขัดเงา วิธีนี้ประกอบรวมด้วยขั้นตอนการกรองด้วยตัวกรอง สำหรับกรองอนุภาคซิลิกาที่กระจายตัวอยู่ที่ประกอบด้วยซิลิกาคอลลอยด์ซึ่งอนุภาคระยะแรกมี เส้นผ่านศูนย์กลางอนุภาคเฉลี่ยในช่วง 1 ถึง 100 นาโนเมตร ที่ซึ่งตัวกรองสำหรับการกรองประกอบรวมด้วยไดอะตอมไมท์ที่ถูกทำให้มีประจุบวกโดยการใช้ สารประกอบโพลีวาเลนซ์เอมีนที่มีกลุ่มไอออนบวก 9 ถึแท็ก :
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH149961A true TH149961A (th) | 2016-05-10 |
| TH1301003450B TH1301003450B (th) | 2016-05-10 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MY157294A (en) | Method for producing polishing liquid composition | |
| MY160470A (en) | Process for producing polishing liquid composition | |
| TWI522448B (zh) | 用於淺溝隔離（ｓｔｉ）應用的化學機械硏磨（ｃｍｐ）組合物及其製造方法 | |
| RU2017120290A (ru) | Частицы оксида церия и способ их получения | |
| CN104475010B (zh) | 多孔二氧化硅改性硅砂及其制备方法 | |
| WO2017087836A1 (en) | Cationic composite silicate filter aids | |
| JP2014000641A (ja) | 研磨用組成物及びそれを用いた基板の製造方法 | |
| MY179075A (en) | Polishing composition and method for producing magnetic disk substrate | |
| CN106272121A (zh) | 一种金刚石砂布 | |
| TH149961A (th) | วิธีการผลิตองค์ประกอบสารขัดเงาเหลว | |
| JP6646436B2 (ja) | シリカ分散液の製造方法 | |
| TWI576146B (zh) | 經精製的活性矽酸液及二氧化矽溶膠之製造方法 | |
| RU2462303C2 (ru) | Порошкообразный магнитный сорбент для сбора нефти, масел и других углеводородов | |
| CN109825151A (zh) | 一种纳米氧化锆改性树脂 | |
| CN103589344B (zh) | 一种氧化铝抛光液的制备方法 | |
| KR20140068924A (ko) | 정제된 규산알칼리 수용액 및 실리카졸의 제조방법 | |
| CN102010663B (zh) | 二氧化硅介质化学机械抛光液的制备方法 | |
| KR20210093330A (ko) | 플루오린화물 제거 공정 | |
| Bakir et al. | Competitive Sorption of Antimony with Zinc, Nickel, and Aluminum in a Seaweed Based Fixed‐bed Sorption Column | |
| Elmaci et al. | Biosorption characteristics of copper (II), chromium (III), nickel (II), and lead (II) from aqueous solutions by Chara sp. and Cladophora sp | |
| CN105925389A (zh) | 稀土研磨液专用清洗剂 | |
| JP5323342B2 (ja) | 半導体ウエハの研磨方法 | |
| KR20190141132A (ko) | 양성 계면활성제를 포함하는 연마용 조성물 | |
| TH56087B (th) | วิธีการสำหรับการผลิตวัสดุฐานแก้วอะลูมิโนซิลิเกตสำหรับฮาร์ดดิสก์ | |
| TH125764A (th) | วิธีการสำหรับการผลิตวัสดุฐานแก้วอะลูมิโนซิลิเกตสำหรับฮาร์ดดิสก์ |