TH149304B - สิ่งเคลือบกระจกแบบไม่ชอบรับน้ำ - Google Patents
สิ่งเคลือบกระจกแบบไม่ชอบรับน้ำInfo
- Publication number
- TH149304B TH149304B TH1401002640A TH1401002640A TH149304B TH 149304 B TH149304 B TH 149304B TH 1401002640 A TH1401002640 A TH 1401002640A TH 1401002640 A TH1401002640 A TH 1401002640A TH 149304 B TH149304 B TH 149304B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- formation
- layer
- carbon
- sih4
- silane
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title abstract 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims abstract 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims abstract 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 abstract 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 abstract 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 abstract 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 abstract 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 abstract 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
Abstract
การประดิษฐ์จะเกี่ยวข้องกับกระบวนการสำหรับการผลิตสิ่งเคลือบที่ไม่ชอบรับน้ำที่ประกอบ รวมด้วยขั้นตอนต่อเนื่องดังต่อไปนี้ (a)การก่อรูปของชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่มีคาร์บอนในปริมาณมาก(SiOxCy)ที่พื้นผิว ของซับสเทรทที่ทำมาจากกระจกแร่โดยการตกพอกพูนของไอทางเคมี(CVD)บนอย่าง น้อยที่สุดส่วนหนึ่งของพื้นผิวของซับสเทรทดังกล่าวโดยการนำพื้นผิวดังกล่าวไปสัมผัส กับกระแสของแก๊สที่เกิดปฏิกิริยาที่ประกอบรวมด้วยเอทิลีน(C2,H4),ไซเลน (SiH4) และ คาร์บอนไดออกไซด์(CO2)ที่อุณหภูมิระหว่าง 600 องศาเซลเซียส และ 680 องศา เซลเซียส,อัตราส่วนโดยปริมาตรของเอทิลิน/ไซเลน (C2H2/SiH4)ในระหว่างขั้นตอน (a) ที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 3.3 (b)การก่อรูปของชั้น SiO2 บนชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่ตกพอกพูนในขั้นตอน(a)หรือ (b')การก่อรูปของชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่มีคาร์บอนในปริมาณน้อยที่มีอัตราส่วน C/Si เฉลี่ยน้อยกว่า 0.2, (c)การอบเหนียวและ/หรือการขึ้นรูปซับสเทรทที่ได้มาตามการสรุปของขั้นตอน(b)หรือ (b')ที่มีอุณหภูมิระหว่าง 580 องศาเซลเซียส และ 700 องศาเซลเซียส, (d)การกระตุ้นชั้นซิลิกาที่ได้รับการก่อรูปในขั้นตอน(b)หรือชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่ ได้รับการก่อรูปในขั้นตอน(b')โดยการปฏิบัติด้วยพลาสมาหรือการปฏิบัติด้วยสารเคมี ที่เป็นกรดหรือที่เป็นเบส และ (e)การเชื่อมติด,โดยการเกิดพันธะโควาเลนท์,ตัวกระทำการที่ไม่ชอบรับน้ำที่ผ่านการ ฟลูโอริเนท การประดิษฐ์ยังเกี่ยวข้องอีกด้วยกับสิ่งเคลือบที่ไม่ชอบรับน้ำ,ถ้าจะให้ดีแล้วเป็นกระจกบัง ลมหน้า,ที่สามารถถูกทำให้ได้มาโดยกระบวนการดังกล่าว :
Claims (1)
1. กระบวนการสำหรับการผลิตสิ่งเคลือบที่ไม่ชอบรับน้ำที่ประกอบรวมด้วยขั้นตอน ต่อเนื่องดังต่อไปนี้ (a)การก่อรูปของชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่มีคาร์บอนในปริมาณมาก(SiOxCy)ที่พื้นผิว ของซับสเทรทที่ทำมาจากกระจกแร่โดยก:
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH1401002640A TH1401002640A (th) | |
| TH149304A TH149304A (th) | 2016-04-26 |
| TH149304B true TH149304B (th) | 2016-04-26 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103974918B (zh) | 基于碳SiOC的碱金属阻挡层 | |
| MX2011007156A (es) | Sustrato hidrofobo comprendiendo una capa de cebador del tipo oxicarburo de silicio activado por plasma. | |
| WO2011041135A3 (en) | Method of making coated metal articles | |
| MX2014005761A (es) | Encristalado hidrofobico. | |
| WO2014011251A3 (en) | Coated article and chemical vapor deposition process | |
| WO2013012536A3 (en) | Surface treatment and deposition for reduced outgassing | |
| WO2010151856A3 (en) | Chemical vapor deposition process for aluminum silicon nitride | |
| JP2017092475A5 (th) | ||
| DE602007005017D1 (de) | Verfahren für leicht zu reinigende substrate und artikel daraus | |
| EA201301276A1 (ru) | Способ получения оптических изделий, имеющих превосходные свойства стойкости к истиранию, и покрытые изделия, изготовленные согласно этому способу | |
| WO2012027121A3 (en) | Dimensional silica-based porous silicon structures and methods of fabrication | |
| RU2014117616A (ru) | Нанесение оксида кремния путем химического осаждения из паровой фазы при атмосферном давлении | |
| WO2010014626A3 (en) | Novel silicon precursors to make ultra low-k films with high mechanical properties by plasma enhanced chemical vapor deposition | |
| EA201490034A1 (ru) | Способ получения оконного стекла, содержащего пористый слой | |
| WO2012106791A8 (pt) | Componente de motor | |
| JP2015505793A5 (th) | ||
| ATE374168T1 (de) | Verfahren zur abscheidung von galliumoxidbeschichtungen auf flachglas | |
| TH149304B (th) | สิ่งเคลือบกระจกแบบไม่ชอบรับน้ำ | |
| MY166160A (en) | Coated articles having abrasion resistant,glass-like coatings | |
| JP6318433B2 (ja) | シリコン窒化膜の形成方法及びシリコン窒化膜 | |
| TH149304A (th) | สิ่งเคลือบกระจกแบบไม่ชอบรับน้ำ | |
| TW201947053A (zh) | 提高抗汙膜之附著力的方法 | |
| GB201112648D0 (en) | Deposition process | |
| RU2013136554A (ru) | Способ осаждения системы прозрачных барьерных слоев | |
| CN203333758U (zh) | 二氧化硅薄膜的生产设备 |