TH149304B - The glass coating does not like water. - Google Patents
The glass coating does not like water.Info
- Publication number
- TH149304B TH149304B TH1401002640A TH1401002640A TH149304B TH 149304 B TH149304 B TH 149304B TH 1401002640 A TH1401002640 A TH 1401002640A TH 1401002640 A TH1401002640 A TH 1401002640A TH 149304 B TH149304 B TH 149304B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- formation
- layer
- carbon
- sih4
- silane
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title abstract 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract 5
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims abstract 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 230000002209 hydrophobic Effects 0.000 claims abstract 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims abstract 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 abstract 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 abstract 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 abstract 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 2
- 230000002378 acidificating Effects 0.000 abstract 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 abstract 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 abstract 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 abstract 1
- 229910052904 quartz Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
Abstract
การประดิษฐ์จะเกี่ยวข้องกับกระบวนการสำหรับการผลิตสิ่งเคลือบที่ไม่ชอบรับน้ำที่ประกอบ รวมด้วยขั้นตอนต่อเนื่องดังต่อไปนี้ (a)การก่อรูปของชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่มีคาร์บอนในปริมาณมาก(SiOxCy)ที่พื้นผิว ของซับสเทรทที่ทำมาจากกระจกแร่โดยการตกพอกพูนของไอทางเคมี(CVD)บนอย่าง น้อยที่สุดส่วนหนึ่งของพื้นผิวของซับสเทรทดังกล่าวโดยการนำพื้นผิวดังกล่าวไปสัมผัส กับกระแสของแก๊สที่เกิดปฏิกิริยาที่ประกอบรวมด้วยเอทิลีน(C2,H4),ไซเลน (SiH4) และ คาร์บอนไดออกไซด์(CO2)ที่อุณหภูมิระหว่าง 600 องศาเซลเซียส และ 680 องศา เซลเซียส,อัตราส่วนโดยปริมาตรของเอทิลิน/ไซเลน (C2H2/SiH4)ในระหว่างขั้นตอน (a) ที่น้อยกว่าหรือเท่ากับ 3.3 (b)การก่อรูปของชั้น SiO2 บนชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่ตกพอกพูนในขั้นตอน(a)หรือ (b')การก่อรูปของชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่มีคาร์บอนในปริมาณน้อยที่มีอัตราส่วน C/Si เฉลี่ยน้อยกว่า 0.2, (c)การอบเหนียวและ/หรือการขึ้นรูปซับสเทรทที่ได้มาตามการสรุปของขั้นตอน(b)หรือ (b')ที่มีอุณหภูมิระหว่าง 580 องศาเซลเซียส และ 700 องศาเซลเซียส, (d)การกระตุ้นชั้นซิลิกาที่ได้รับการก่อรูปในขั้นตอน(b)หรือชั้นซิลิกอนออกซีคาร์ไบด์ที่ ได้รับการก่อรูปในขั้นตอน(b')โดยการปฏิบัติด้วยพลาสมาหรือการปฏิบัติด้วยสารเคมี ที่เป็นกรดหรือที่เป็นเบส และ (e)การเชื่อมติด,โดยการเกิดพันธะโควาเลนท์,ตัวกระทำการที่ไม่ชอบรับน้ำที่ผ่านการ ฟลูโอริเนท การประดิษฐ์ยังเกี่ยวข้องอีกด้วยกับสิ่งเคลือบที่ไม่ชอบรับน้ำ,ถ้าจะให้ดีแล้วเป็นกระจกบัง ลมหน้า,ที่สามารถถูกทำให้ได้มาโดยกระบวนการดังกล่าว : The invention involves a process for the manufacture of the assembled hydrophobic coating. Included with the following ongoing steps (a) formation of a silicon oxycarbide layer with a large amount of carbon (SiOxCy) at the surface Of substrates made of mineral glass by chemical vapor deposition (CVD) on the sample The least part of the surface of the substrate is exposed by touching it. With the reactive gas currents comprising ethylene (C2, H4), silane (SiH4) and carbon dioxide (CO2) at temperatures between 600 ° C and 680 ° C, the volumetric ratio of ethylene. / Silane (C2H2 / SiH4) during (a) steps that are less than or equal to 3.3 (b) formation of the SiO2 layer on the silicon oxy carbide layer deposited in step (a), or (b ') Formation of low-carbon silicon oxycarbide layers with an average C / Si ratio of less than 0.2, (c) annealing and / or substrate forming. Tret obtained as a summary of step (b), or (b ') at temperatures between 580 ° C and 700 ° C, (d) activation of the silica layer formed in the process (b) or silicon oxy carbide layer at Was formed in step (b ') by plasma treatment or chemical treatment. Acidic or base and (e) bonding, by the formation of covalent bonds, the fabricated fluorinated hydrophobic agent is also involved in the coating. Who do not like to receive water Front wind, that can be achieved by such a process:
Claims (1)
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH1401002640A TH1401002640A (en) | |
| TH149304B true TH149304B (en) | 2016-04-26 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MX2011007156A (en) | Hydrophobic substrate including a plasma-activated silicon oxycarbide primer. | |
| JP6050370B2 (en) | SiOC barrier layer against alkali metal | |
| MX2014005761A (en) | Hydrophobic glazing. | |
| WO2011041135A3 (en) | Method of making coated metal articles | |
| JP2017092475A5 (en) | ||
| WO2013012536A3 (en) | Surface treatment and deposition for reduced outgassing | |
| WO2010151856A3 (en) | Chemical vapor deposition process for aluminum silicon nitride | |
| WO2012027121A3 (en) | Dimensional silica-based porous silicon structures and methods of fabrication | |
| RU2014117616A (en) | APPLICATION OF SILICON OXIDE BY CHEMICAL DEPOSITION FROM VAPOR PHASE AT ATMOSPHERIC PRESSURE | |
| WO2010014626A3 (en) | Novel silicon precursors to make ultra low-k films with high mechanical properties by plasma enhanced chemical vapor deposition | |
| GB201207448D0 (en) | Method of depositing silicon dioxide films | |
| RU2018121207A (en) | METHOD FOR PRODUCING POLYMERIC SUBSTRATE WITH COATING HAVING A LOW EMISSION CAPACITY | |
| JP2015505793A5 (en) | ||
| EA201490034A1 (en) | METHOD FOR OBTAINING WINDOW GLASS CONTAINING A POROUS LAYER | |
| WO2012106791A8 (en) | Engine component | |
| WO2013136052A3 (en) | Chemical vapor deposition process for depositing zinc oxide coatings, method for forming a conductive glass article and the coated glass articles produced thereby | |
| TH149304B (en) | The glass coating does not like water. | |
| WO2012036525A3 (en) | Method for improving hydrophilicity of a coating film through treatment on a surface morphology and super hydrophilic glass coating layer produced by the method | |
| TWI668320B (en) | Method for enhancing adhesion of anti-fouling film | |
| MY166160A (en) | Coated articles having abrasion resistant,glass-like coatings | |
| JP6318433B2 (en) | Silicon nitride film forming method and silicon nitride film | |
| CN102832119B (en) | The formation method of low temperature silicon dioxide film | |
| WO2007061980A8 (en) | Deposition of ruthenium oxide coatings on a substrate | |
| GB201112648D0 (en) | Deposition process | |
| RU2013136554A (en) | METHOD FOR DEPOSITING THE SYSTEM OF TRANSPARENT BARRIER LAYERS |