TH11035Y - ฟิล์มเคลือบที่มีสมบัติไฮโดรโฟบิก มีความเงาใส และทนทานต่อตัวทำลายเคมีและกระบวนการเตรียมน้ำยาเคลือบฟิล์มดังกล่าว - Google Patents

Abstract

DC60 (27/03/58) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับฟิล์มและกระบวนการสร้างฟิล์มที่มีสมบัติไฮโดรโฟบิก มีความเงา ใส และทนทานต่อตัวทำละลายเคมี ซึ่งฟิล์มดังกล่าวตามการประดิษฐ์นี้ที่ประกอบด้วย แผ่นซับสเตรท ชั้นฟิล์มของแกมมาไกลซิดอกซีโพรพิลไทรเมทอกซีไซเลน ชั้นฟิล์มของสารผสมของสารคอลลอยด์ พอลิไฮโดรเจนไซลอกเซน กับ ไตรคลอโร (1H,1H,2H,2H เปอร์ฟลูออโรออกทิล)ไซเลน และ ตัวทำละลาย คือ น้ำ อะซีโตนและ 2- โพพานอล โดยมีกระบวนการเตรียมฟิล์มเคลือบดังกล่าว คือ การเตรียมน้ำยาเคลือบ การเตรียมพื้นผิวกระจก และการเตรียมชั้นฟิล์มเคลือบกระจก แก้ไขวันที่ 27/03/2558 การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับฟิล์มและกระบวนการการสร้างฟิล์มที่มีสมบัติไฮโดรโฟบิก มีความเงาใส และทนทานต่อตัวทำละลายเคมี ซึ่งฟิล์มดังกล่าวตามการประดิษฐ์นี้ที่ประกอบด้วย แผ่นซับสเตรท ชั้นฟิล์มของแกมมาไกลซิดอกซีโพรพิลไทรเมทอกซีไซเลน ชั้นฟิล์มของสารผสมของสารคลอลอยด์ พอลิไฮโดรเจนไซลอกเซน กับ ไตรคลอโร (1H, 1H, 2H, 2H เปอร์ฟลูออโรออกทิล) ไซเลน และ ตัวทำละลาย คือ น้ำ อะซีโตนและ 2-โพพานอล โดยมีกระบวนการเตรียมฟิล์มเคลือบดังกล่าว คือ การเตรียมน้ำยาเคลือบ การเตรียมพื้นผิวกระจก และการเตรียมชั้นฟิล์มเคลือบกระจก --------------------------------------------------- การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับฟิล์มและกระบวนการสร้างฟิล์มที่มีสมบัติไฮโดรโฟบิก มีความเงา ใส และทนทานต่อตัวทำละลายเคมี ซึ่งฟิล์มดังกล่าวตามการประดิษฐ์นี้ที่ประกอบด้วย แผ่นซับสเตรท ชั้นฟิล์มของแกมมาไกลซิคอกซีโพรพิลไทรเมทอกซีไซเลน ชั้นฟิล์มของสารผสมของสารคอลลอยด์ พอลิไฮโดรเจนไซลอกเซน กับ ไตรคลอโร (1H,1H,2H,2H เปอร์ฟลูออโรออกทิล)ไซเลน และ ตัวทำละลาย คือ น้ำ อะซีโตนและ 2- โพพานอล โดยมีกระบวนการเตรียมชั้นฟิล์มเคลือบดังกล่าว คือ การเตรียมน้ำยาเคลือบ การเตรียมพื้นผิวกระจก และการเตรียมชั้นฟิล์มเคลือบกระจก

Claims (3)

แก้ไข 27/03/58 1. ฟิล์มเคลือบที่มีสมบัติไฮโดรโฟบิก มีความเงา ใส และทนทานต่อตัวทำละลายเคมีที่ประกอบด้วย - แผ่นซับสเตรท - ชั้นฟิล์ม (5) ของแกมมาไกลซิดอกซีโพรพิลไทรเมทอกซีไซเลน (2) อยู่บนซับสเตรทดังกล่าว ซึ่งเป็นชั้นที่ช่วยเพิ่มการยึดเกาะของแผ่นฟิล์มบนซับเสตรทดังกล่าว - ชั้นฟิล์ม (6) ของสารผสมของสารคอลลอยด์พอลิไฮโดรเจนไซลอกเซน (3) กับ ไตรคลอโร (1H, 1H, 2H, 2H เปอร์ฟลูออโรออกทิล) ไซเลน (4) ที่อยู่บนพื้นผิวของชั้นฟิล์มของแกมมาไกลซิดอกซี โพรพิลไทรเมทอกซีไซเลน 2. กระบวนการเตรียมฟิล์มเคลือบตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนดังนี้ ก. การเตรียมน้ำยาเคลือบ - นำโซเดียมลอริลซัลเฟตมาละลายในน้ำหลังจากนั้นเติมพอลิไฮโดรเจนไซลอกเซน ทำการกวน สารด้วยเครื่องปั่นอัลตร้าโซนิค (ultrasonic) ที่อุณหภูมิ 25-40 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 100-120 นาที จนส่วนผสมเข้ากันเป็นเนื้อเดียว - นำแกมมาไกลซิดอกซีโพรพิลไทรเมทอกซีไซเลนละลายในตัวทำละลายโพรพานอล กวนสาร จนส่วนผสมเข้ากันเป็นเนื้อเดียวกัน ที่อุณหภูมิ 25-40 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 10-15 นาที ข. การเตรียมพื้นผิวกระจก - โดยทำความสะอาดพื้นผิวกระจกด้วยสารละลายผสมระหว่างกรดซัลฟูริก (H2SO4) กับ ไฮโดรเจนเปอร์ออกไซค์ (H2O2) โดยให้ความร้อนที่อุณหภูมิ 70-100 องศาเซลเซียส หลังจากนั้นนำไป ล้างด้วยตัวทำละลาย คือ น้ำ อะซีโตน และ 2-โพพานอล แล้วนำกระจกไปอบให้แห้งในตู้อบที่อุณหภูมิ 50-110 องศาเซลเซียส ค. การเตรียมชั้นฟิล์มเคลือบกระจก ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอน คือ - นำกระจกที่ทำความสะอาดพื้นผิวแล้วจากขั้นตอน ข. มาทาเคลือบด้วยชั้นฟิล์มของแกมมาไกล ซิดอกซีโพรพิลไทรเมทอกซีไซเลนก่อนเป็นจำนวน 3 ครั้ง - นำกระจกมาเคลือบด้วยสารผสมระหว่างสารคอลลอยด์พอลิไฮโดรเจนไซลอกเซนที่ละลายใน สารละลายโซเดียมลอริลซัลเฟตในน้ำ กับสารละลายไตรคลอโร(1H, 1H, 2H, 2H เปอร์ฟลูออโรออกทิล) ไซเลน ซึ่งทำการเคลือบทาซ้ำบนพื้นผิวซับสเตรทเป็นจำนวน 3 ครั้ง 3. กระบวนการเตรียมฟิล์มตามข้อถือสิทธิที่ 2 ที่ซึ่งโซเดียมลอริลซัลเฟตดังกล่าวมีปริมาณ 0.05-4 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก ---------------------------------------------------------

1. ฟิล์มเคลือบที่มีสมบัติไฮโดรโฟบิก มีความเงา ใส และทนทานต่อตัวทำละลายเคมีที่ประกอบด้วย - แผ่นซับสเตรท (1) - ชั้นฟิล์ม (5) ของแกมมาไกลซิคอกซีโพรพิลไทรเมทอกซีไซเลน (2) อยู่บนซับสเตรทดังกล่าว ซึ่งเป็นชั้นที่ช่วยเพิ่มการยึดเกาะของแผ่นฟิล์มบนซับเสตรทดังกล่าว - ชั้นฟิล์ม (6) ของสารผสมของสารคอลลอยด์พอลิไฮโดรเจนไซลอกเซน (3) กับ ไตรคลอโร (1H,1H,2H,2H เปอร์ฟลูออโรออกทิล)ไซเลน (4) ที่อยู่บนพื้นผิวของชั้นฟิล์มของแกมมาไกลวิดอกซี โพรพิลไทรเมทอกซีไซเลน

2. กระบวนการเตรียมฟิล์มเคลือบตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนดังนี้ ก. การเตรียมน้ำยาเคลือบ - นำโซเดียมลอริลซัลเฟตมาละลายในน้ำหลังจากนั้นเติมพอลิไฮโดรเจนไซลอกเซน ทำการกวน สารด้วยเครื่องปั่นอัลตร้าโซนิค (ultrasonic) ที่อุณหภูมิ 25-40 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 100-120 นาที จนส่วนผสมเข้ากันเป็นเนื้อเดียว - นำแกมมาไกลซิดอกซีโพรพิลไทรเมทอกซีไซเลนละลายในตัวทำละลายโพรพานอล กวนสาร จนส่วนผสมเข้ากันเป็นเนื้อเดียวกัน ที่อุณหภูมิ 25-40 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 10-15 นาที ข. การเตรียมพื้นผิวกระจก - โดยทำความสะอาดพื้นผิวกระจกด้วยสารละลายผสมระหว่างกรดซัลฟูริก (H2SO4) กับ ไฮโรเจนเปอร์ออกไซด์ (H2O2) โดยให้ความร้อนที่อุณหภูมิ 70-100 องศาเซลเซียส หลังจากนั้นนำไป ล้างด้วยตัวทำละลาย คือ น้ำ อะซีโตน และ 2-โพพานอล แล้วนำกระจกไปอบให้แห้งในตู้อบที่อุณหภูมิ 50-110 องศาเซลเซียส ค. การเตรียมชั้นฟิล์มเคลือบกระจก ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอน คือ - นำกระจกที่ทำความสะอาดพื้นผิวแล้วจากขั้นตอน ข. มาทาเคลือบด้วยชั้นฟิล์มของแกมมาไกล ซิดอกซีโพรพิลไทรเมทอกซีไซเลนก่อนเป็นจำนวน 3 ครั้ง - นำกระจกมาเคลือบด้วยสารผสมระหว่างสารคอลลอยด์พอลิไฮโดรเจนไซลอกเซนที่ละลายใน สารละลายโซเดียมลอริกซัลเฟตในน้ำ กับสารละลายไตรคลอโร (1H,1H,2H,2H เปอร์ฟลูออโรออกทิล) ไซเลน ซึ่งทำการเคลือบทาซ้ำบนพื้นผิวซับสเตรทเป็นจำนวน 3 ครั้ง

3. กระบวนการเตรียมฟิล์มตามข้อถือสิทธิที่ 2 ที่ซึ่งโซเดียมลอริลซัลเฟตดังกล่าวมีปริมาณ 0.05-4 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก