TH100640B - Method of preparation of haloxylane - Google Patents

Method of preparation of haloxylane

Info

Publication number
TH100640B
TH100640B TH802003203F TH0802003203F TH100640B TH 100640 B TH100640 B TH 100640B TH 802003203 F TH802003203 F TH 802003203F TH 0802003203 F TH0802003203 F TH 0802003203F TH 100640 B TH100640 B TH 100640B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
mixture
involves
cofactor
exposure
temperatures
Prior art date
Application number
TH802003203F
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH100640S (en
TH158406A (en
TH33225S1 (en
Inventor
็อพเพอร์นอลล์
แกล้วทนงค์ นางสาวจุฑามาศ
Original Assignee
เดาว์ ซิลิโคนส์ คอร์ปอเรชั่น
บริษัท ไทยไทโย จำกัด
Filing date
Publication date
Publication of TH100640S publication Critical patent/TH100640S/en
Publication of TH33225S1 publication Critical patent/TH33225S1/en
Application filed by เดาว์ ซิลิโคนส์ คอร์ปอเรชั่น, บริษัท ไทยไทโย จำกัด filed Critical เดาว์ ซิลิโคนส์ คอร์ปอเรชั่น
Publication of TH158406A publication Critical patent/TH158406A/en
Publication of TH100640B publication Critical patent/TH100640B/en

Links

Abstract

วิธีการเตรียมผลิตภัณฑ์ของปฏิกิริยารวมถึง: ขั้นตอน (1) และ (2) ขั้นตอน (1) เป็นการสัมผัส สารส่วนผสมที่หนึ่งที่รวมถึงไซเลนที่มีสูตร HaRbSiX(4-a-b) ซึ่งตัวห้อยเป็นจำนวนเต็มตั้งแต่ 0 ถึง 4, ตัว ห้อย b เป็น 0 หรือ 1, ปริมาณ (a+b) (สูตร) 4 โดยที่ R แต่ละตัวเป็นหมู่สารอินทรีย์วาเลนซีหนึ่งอย่างอิสระ และ X แต่ละตัวเป็นฮาโลเจนอะตอมอย่างอิสระโดยมีเงื่อนไขว่าเมื่อปริมาณ (a+b) < 4 สารส่วนผสม จะยังรวมถึงเพิ่มด้วย H2 ที่อุณหภูมิตั้งแต่ 200 ํC ถึง 1400 ํC; กับตัวเร่งปฏิกิริยาที่เป็นสปิเนลที่ รวมถึงทองแดง ด้วยวิธีนี้จะสร้างสารร่วมปฏิกิริยาขึ้น ขั้นตอน (2) เป็นการสัมผัสสารร่วมปฏิกิริยากับ สารส่วนผสมที่สองซึ่งรวมถึงออร์กาโนฮาไลด์ที่อุณหภูมิตั้งแต่ 100 ํC ถึง 600 ํC ด้วยวิธีนี้จะสร้าง ผลิตภัณฑ์ของปฏิกิริยาและสารร่วมปฏิกิริยาที่ใช้ไปขึ้น ผลิคภัณฑ์ของปฏิกิริยาแตกต่างจากซิเลนที่ใช้ใน ขั้นตอน (1) วิธีการออกถูกใช้เพื่อเตรียมไดออร์กาโนฮาโลซิเลนจากซิลิคอนเตตระฮาไลด์The preparation of the reaction products involves: Steps (1) and (2). Step (1) involves the exposure of a first mixture, including a silane with the formula HaRbSiX(4-a-b), where the subscripts are integers from 0 to 4, the subscript b being 0 or 1, to an amount (a+b) (formula) of 4, where each R is a free organic valency group and each X is a free halogen atom, provided that when the amount (a+b) < 4, the mixture is further supplemented with H2 at temperatures from 200°C to 1400°C; to a spinel catalyst including copper, thereby forming a cofactor. Step (2) involves the exposure of the cofactor to a second mixture, including an organohalide, at temperatures from 100°C to 600°C, thereby forming the reaction products and the spent cofactors. The reaction product differs from the silane used in step (1). The exit method is used to prepare diorganohalosilane from silicon tetrahalide.

TH802003203F 2014-10-30 Method of preparation of haloxylane TH100640B (en)

Publications (4)

Publication Number Publication Date
TH100640S TH100640S (en) 2010-03-26
TH33225S1 TH33225S1 (en) 2012-07-20
TH158406A TH158406A (en) 2016-12-02
TH100640B true TH100640B (en) 2024-05-13

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3216867A4 (en) Method for modifying genome sequence to introduce specific mutation to targeted dna sequence by base-removal reaction, and molecular complex used therein
CN106715699A8 (en) Method and composition for weakening antiviral transfer vector immune response
Xu et al. Painlevé III asymptotics of Hankel determinants for a singularly perturbed Laguerre weight
WO2016004363A3 (en) Methods and compositions for treating obesity, preventing weight gain, promoting weight loss, promoting slimming, or treating or preventing the development of diabetes
EP3181226A4 (en) Hydrosilylation reaction catalyst
EP3130643A4 (en) Curable organopolysiloxane composition, and protective-agent or adhesive-agent composition for electrical/electronic components
WO2015022669A3 (en) Methods for typing hla alleles
MY178759A (en) Method for preparing trichlorosilane
EP3141573A4 (en) Curable polysilsesquioxane compound, production method thereof, curable composition, cured product and use method of curable composition, etc.
PH12018500801B1 (en) Kit for thermosetting resin film and second protective film forming film, thermosetting resin film, first protective film forming sheet, and method for forming first protective film for semiconductor wafer
MY182786A (en) Azocarconyl-functionalized silanes
TW201613871A (en) Process for the preparation of 5-fluoro-1H-pyrazoles starting from hexafluoropropene
EP3190086A4 (en) Reaction furnace for producing polycrystalline silicon, apparatus for producing polycrystalline silicon, method for producing polycrystalline silicon, and, polycrystalline silicon rod or polycrystalline silicon ingot
JP2015134755A5 (en)
MX366192B (en) Telescoping synthesis of 2-methoxymethyl-p-phenylenediamine.
MX2016017124A (en) Process for the preparation of 3-hydroxypicolinic acids.
JP2015134710A5 (en)
MX366190B (en) Telescoping synthesis of 2-methoxymethyl-p-phenylenediamine.
DK3233754T3 (en) A process for producing gypsum sludge or a gypsum product using a wax powder, products obtained by the process and using the wax powder to obtain a moisture-resistant gypsum product
TH158406A (en) Halosilane preparation method
FR3023371B1 (en) DEVICE FOR TRACEABILITY OF THE TEMPERATURES TO WHICH A PRODUCT IS EXPOSED, COMPRISING TIMING MEANS OF A TIME OF EXCEEDING A DETERMINED TEMPERATURE.
Seheda et al. Mathematical modelling of stress distribution along the winding transformers under the impulse surges
TW201612161A (en) Quinoline derivatives as insecticides and acaricides
GB201401275D0 (en) Distiller&#39;s grain (DG) based bio-adhesives: compositions, uses and processes for manufacturing
PH12017500592A1 (en) Copper film-forming composition and method for manufacturing copper film in which said composition is used