SU884179A1 - Устройство дл контрол фотошаблонов - Google Patents

Description

I

Изобретение относитс  к технологии радиоэлектроники и предназначено дл  контрол  позиционной точности топологии

фотошаблонов двусторонних и МНО1Х СЛОЙных плат.

Известно устройство дл  контрол , в кагором позиционна  точность контролируетс  путем совмещени  по единым технологическим базам топологии контролируемого объекта с контрольной сеткой, представл ющей соёой прозрачный шаблон, на поверхности которого тонкими лини ми нанесено изображение координатной сетки, с прин тым шагом. Позиционна  точносугь топологии в -ЭТОМ случае определ етс  как точность совмещени  перекрести  кон трольной сетки с центром контактной площадки Г1

Однако производительность контрол  по сетке невысока из-за необхоЕЁимюсти производит замеры на измерительных, микроскопах.

Наиболее близким по достигаемому э4ь фекту  вл етс  устройство контрол , в котором дл  контрол  позиционной точности элементов готовых фотошаблонов исполь- зуетс  контрольный шаблон, расположенный в рамке с базовыми штифтами и представл ющий собой пластину с контрольными отверсти ми, центры которых наход тс  в местах расположени  контролируемых элементов, например, монтажных и переходных отверстий. Принцип контрол  позиционной точности по такому шаблону сос10 тоит в совмещении контролируемого фотошаблона с шаблоном устройства по единым технологическим базам (базовым штифтам) и контроле наличи  или отсутстви  просвета между краем контрольного отверсти 

15 и краем контролируемой контактной площадки фотошаблона 2 .

Мала  производительность процесса контрол  в этом устройстве обусловлена тем, что оценка наличи  илн отсутстви 

Claims (2)

1. М просвета затруднена из-за парадакса, возникающего вследствие того, что шаблон имеет определенную толщину. При испопьзовании талого шаблона требуетс  при 38 контроле каждой контактной плошадки располагать шаблон строго перпендикул рно . лучу зрени . Цепь изобретени  - повышение производительности процесса контрол . Цель достигаетс  тем, что в устройстве дл  контрол  фотошаблонов, содержа:щем рамку с базовыми штифтами и шаблон из прозрачного материала с контрольными метками, .последние выполнены в виде нанесенных на поверхности шаблона площадок , расположение и конфигураци  которых соответствуют расположению и конфигурации контролируемых площадок фотошаблона причем размеры площадок шаблона вь1Прл- иены с отклонением от номинальных размеров контролируемых площадок фотошаблона на величину допуска смещени . На фиг. 1 изображено устройство, разрез; на фиг. 2 - то же, с шаблоном дл  контрол  негативных фотошаблонов, вид сверху; на фиг. 3 - шаблон дл  контрол  позитивных фотошаблонов; на фиг. 4 пример определени  годного фотошаблона; на (Ьиг. 5 - пример определени  бракованного фотошаблона. Устройство дл  контрол  фотошаблонов состоит из рамки 1, в которой, в случае контрол  фотошаблонов негативного изображени , закреплен прозрачный контрольный шаблон 2, на одной из сторондкоторого имеютс  непрозрачные контрольные площадки Э-, расположение которых соответствует расположению площадок контролируемого фотошаблона и размеры которых уменьшены относительно размеров площадок контролируемого фотошаблона на величину допуска смещени  от номинального расположени . Относительно контрольных площадок 3 шаблона установлены штифты 4 дл  базировани  контролируемого фотошаблона . В случае контрол  фотошаблонов позитивного изображени  используетс  контрольный шаблон (фиг. 3), на одной из сто рон которого имеютс  прозрачные контрол ные площадки 5, расположение которых 79 аналогично расположению плошадок контролируемого фотошаблона, и размеры которых увеличены относительно размеров площадок контролируемого фотошаблона на величину допуска смешени  от номинального расположени . Фотошаблон устанавливают на контрольный шаблон-2 так, чтобы его фотоэмульсионный слой соприкасалс  с той поверхностью контрольного шаблона 2, на которой нанесены контрольные площадки 3. Годность контролируемых фотошаблонов определ етс  по наличию световой щели между контрольными площадками 3 контрольного шаблона 2 и площадками контролируемого фотошаблона (фиг. 4). Брак контролируемых фотошаблонов определ етс  по отсутствию на любом участке световой щели между контрольными площадками 3 контрольного шаблона 2 и площадками контролируемого фотошаблона (фиг. 5). Формула изобретени  Устройство дл  контрол  фотошаблонов, содержащее рамку с базовыми штифтами и шаблон из прозрачного материала с контрольными метками, отличающее- с   тем, что, с целью повышени  производительности процесса контрол , контрольные метки шаблона выполнены в виде нанесенных на поверхности шаблона площадок , .расположение и конфигураци  которых соответствует расположению и конфигурации контролируемых площадок фотошаблона , причем размеры площадок шаблона выполнены с отклонением от номинальных размеров контролируемых площадок фотошаблона на величину допуска смещени . Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1.Медведев А. М., Контроль и испытани  плат печатного монтажа. М., 1975, с. 64.
2. 2.Там же, с. 65. /1-А

   .Поёерхноетб HOf/777noMf f f п

   J ffUffffff.ff

   .Г

   Л

   1

   I

   оооооооо оооооооо о о о о о о о оооооооо оооооооо

   fPui. 3

   (Pus.2

   Фиг.