SU851326A1 - Interferential resolution meter - Google Patents

Interferential resolution meter Download PDF

Info

Publication number
SU851326A1
SU851326A1 SU792855886A SU2855886A SU851326A1 SU 851326 A1 SU851326 A1 SU 851326A1 SU 792855886 A SU792855886 A SU 792855886A SU 2855886 A SU2855886 A SU 2855886A SU 851326 A1 SU851326 A1 SU 851326A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
mirrors
holder
systems
aligned
certificate
Prior art date
Application number
SU792855886A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Александр Григорьевич Флейшер
Елена Игоревна Михайлова
Original Assignee
Предприятие П/Я Р-6681
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я Р-6681 filed Critical Предприятие П/Я Р-6681
Priority to SU792855886A priority Critical patent/SU851326A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU851326A1 publication Critical patent/SU851326A1/en

Links

Description

(54) ИНТЕРФЕРЕНЦИОННЫЙ РЕЗОЛЬВОМЕТР(54) INTERFERENTIAL RESOLVOMETER

Изобретение относитс  к технике дл  измерени  и исследовани  разрешающей способности фотографических материалов, в частности к интерфе ренционным резольвометрам,The invention relates to a technique for measuring and studying the resolution of photographic materials, in particular, interference resolvometers,

Известно устройство, содержащее источник когерентного света, телескопическую систему, расшир ющую световой поток, светоделитель и держатель исследуемого материала 1,A device is known comprising a coherent light source, a telescopic system, an expanding luminous flux, a beam splitter and a holder of the material under study 1,

Недостатком известного устройства  вл етс  то, что приходитс  делать многократное экспонирование материала дл  получени  необходигвлх значений экспозиций,A disadvantage of the known device is that it is necessary to do multiple exposures of the material in order to obtain the necessary exposure values.

Известен интерференционный резоль вометр, содержащий корпус, объективы и расположенную между ними точечную диафрагму, светоделитель, две плоскопараллельные пластины с двум  отражающими поверхност ми, два неподвижных зеркала, два враицающихс  зерксша и держатель фотоматериала С2.The interference resolution resolver is known, comprising a housing, lenses and a pinhole located between them, a beam splitter, two plane-parallel plates with two reflective surfaces, two fixed mirrors, two mirrored mirrors and a C2 photo holder.

Недостатками указанного интерференционного резольвометра  вл етс  громоздкость конструкции, сложность управлени  взаиморасположением за- дающих зеркал и держателем фотоматериала , неудобство работы в затемненном помещении.The disadvantages of this interference resolver are the cumbersome design, the difficulty in controlling the relative position of the assignment mirrors and the holder of the photographic material, the inconvenience of working in a darkened room.

Цель изобретени  - упрощение конструкции резольвометра.The purpose of the invention is to simplify the design of the resolvometer.

Поставленна  цель достигаетс  тем, что в интерференционном резольвометре перед держателем фотоматериала размещены две дополнительные системы неподвижно установленных плоских зер10 кал, центры отражающих поверхностей которых расположены пр двум одинаковым кривым эллипса, один фокус систем зеркал общий дл  обеих систем, два других совмещены с ос ми вращаю 5 щихс  зеркал, а держатель фотоматериала совмещен с общим фокусом обеих дополнительных систем зеркал и расположен на внешней стороне корпуса. На чертеже представлена схема устройства интерференционного резольвометра .The goal is achieved by the fact that two additional systems of fixedly mounted flat mirrors are placed in front of the photomaterial holder in the interference resolver; the centers of the reflecting surfaces are located two identical ellipse curves, one focus of the mirror systems for both systems, the other two are aligned with the axes and rotate 5 mirrors, and the photo holder is aligned with the common focus of both additional mirror systems and is located on the outside of the case. The drawing shows a diagram of an interference resolver device.

Интерференционный резольвометр содержит корпус 1, объектив 2, точечную. диафрагму 3, объектив 4, светоделитель 5, два неподвижных зеркала 6 и 7, две плоскопараллельные пластины с двум  отражающими покрыти ми 8 и 9, два вращающихс  зеркала 10The interference resolver includes a housing 1, a lens 2, a dot. aperture 3, lens 4, beam splitter 5, two fixed mirrors 6 and 7, two plane-parallel plates with two reflective covers 8 and 9, two rotating mirrors 10

30 и 11, две систелвл посто нно установ30 and 11, two systems permanently installed

ленных зеркал 12 и 13 и держатель 14 исследуемого материала.mirrors 12 and 13 and the holder 14 of the material under study.

Работа устройства заключаетс  в следующем.The operation of the device is as follows.

Световой пучок проходит оптическую систему (2, 3; 4), светоделитель 5 и раздел етс  на два пучка лучей с Одинаковой интенсивностью. Два неподвижных зеркала б и 7 в каждом плече устройства направл ют эти .пучки на пластины 8, 9с двум  отражающими поверхност ми. Из каждой пластины выход т наборы с различной интенсивностью, которые вращающимис  зеркалами 10 и 11 направл ютс  на одну пару из системы посто нно установленных зеркал 12 и 13. Эти зеркала свод т световые пучкиов плоскости фотоматериала,укрепленного в держателе 14, где они интерферируют. Зеркала 10 и 11 вращаютс вокруг своей вертикальной оси, положение которых в устройстве посто нно. Одно из них поворачиваетс  на заданный угол при помощи черв чной пары, а синхронность и встречный поворот второго Осуществл етс  применением перекрещивающегос  пасика.The light beam passes through the optical system (2, 3; 4), the beam splitter 5 and is divided into two beam beams with the same intensity. Two fixed mirrors b and 7 in each arm of the device direct these beams to the plates 8, 9c with two reflecting surfaces. From each plate, sets of different intensities emerge, which are directed by one rotating pair of mirrors 10 and 11 into one pair from a system of permanently installed mirrors 12 and 13. These mirrors bring together light beams of the plane of the photographic material fixed in the holder 14, where they interfere. The mirrors 10 and 11 rotate around their vertical axis, the position of which in the device is constant. One of them is rotated at a predetermined angle with the help of a worm gear pair, and the synchronism and counter-rotation of the second is carried out by using a crossover chute.

Практика испытаний фотоматериалов по оценке их качества свидетельствует о том, что оценка фотоматериала производитс  дл  дискретных значений пространственных частот, составл ющих чаще всего р д: 100, 200, 300, 400, .500, 750, 1000. 1250, 1500, 2000, 2500, 3000 мм . Поэтому в каждом плече устройства дополнительна  система зеркал (12, 13) состоит из 12-ти посто нно установленных зеркал ориентированных под заданными углами к плоскости держател . Дл  обеспечени  одинаковости отражательной спообности зеркал покрытие наноситс  на попарно составленные детали. Кроме того, дл  обеспечени  посто нства хода пучка от объектива 4 до держател  14 фотоматериала центры отражательных поверхностей зтих зеркал расположены по части кривой эллипсов, один фокус которых совмещен с линией пересечени  световых пучков у держател  фотоматериала, а другие - с ос ми вращени  вращающихс  зеркал 10 и 11.The practice of testing photographic materials for evaluating their quality indicates that the evaluation of photographic material is carried out for discrete values of spatial frequencies, which are most often the following series: 100, 200, 300, 400, .500, 750, 1000. 1250, 1500, 2000, 2500 3000 mm. Therefore, in each arm of the device, an additional system of mirrors (12, 13) consists of 12 permanently mounted mirrors oriented at given angles to the plane of the holder. In order to ensure the uniformity of the reflectivity of the mirrors, the coating is applied to the parts in pairs. In addition, to maintain the beam path from the lens 4 to the photo holder 14, the centers of the reflective surfaces of these mirrors are located along a portion of the ellipse curve, one focus of which is aligned with the intersection line of the light beams of the photo material holder, and the other with the rotation axes of the rotating mirrors 10 and 11.

Таким образом, размещение двух дополнительных систем посто нно установленных зеркал позвол ет упростить конструкцию, упростить кинематику управлени  элементами устройства, а также приводить испытани  в светлом помещении.Thus, the placement of two additional systems of permanently installed mirrors allows us to simplify the design, simplify the kinematics of controlling the elements of the device, and also lead tests in a bright room.

Claims (2)

Формула изобретени Invention Formula Интерференционный резольвометр, содержащий корпус, объективы и расположенную между ними точечную диафраг0 У светоделитель, две плоскопараллельные пластины с двум  отражающими поверхност ми, два неподвижных зеркала , два вращающихс  зеркала и держатель фотоматериала, отличаю5 щ и и с   тем, что, с целью упрощени  конструкции,перед держателем фотоматериала размещены две дополнительные системы неподвижно установленных плоских зеркал, центры отражающих поверхностей которых расположены по двум одинаковым кривым эллипса , один фокус систем зеркал - общий дл  обеих систем, два других совмещены с ос ми вращак цихс  зеркал, а держатель фотоматериала совмещен сAn interference resolver, comprising a housing, lenses, and a point aperture 0 located between them. At the beam splitter, two plane-parallel plates with two reflective surfaces, two fixed mirrors, two rotating mirrors, and a photo material holder, in order to simplify the design, Two additional systems of fixedly mounted flat mirrors, the centers of reflecting surfaces of which are located along two identical ellipse curves, are placed in front of the photomaterial holder; one focus mirror systems are common to both systems, the other two are aligned with the axes of the revolving cix mirrors, and the photo holder is aligned with 5 общим фокусом обеих дополнительных систем зеркал и расположен на внешней стороне корпуса.5 common focus of both additional systems of mirrors and is located on the outside of the case. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизеSources of information taken into account in the examination 40 1 Авторское свидетельство СССР № 199659, кл. 57с 4, 1967.40 1 USSR Author's Certificate No. 199659, cl. 57c 4, 1967. 2. Авторское свидетельство СССР №423089,кл.С 03 С 5/02,1974 (прототип).2. USSR author's certificate No. 423089, C. 03 C 5/02, 1974 (prototype). 7 97 9 12 1012 10 11eleven 1313
SU792855886A 1979-10-29 1979-10-29 Interferential resolution meter SU851326A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU792855886A SU851326A1 (en) 1979-10-29 1979-10-29 Interferential resolution meter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU792855886A SU851326A1 (en) 1979-10-29 1979-10-29 Interferential resolution meter

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU851326A1 true SU851326A1 (en) 1981-07-30

Family

ID=20866268

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU792855886A SU851326A1 (en) 1979-10-29 1979-10-29 Interferential resolution meter

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU851326A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3813172A (en) Photometric device with a plurality of measuring fields
WO1979000433A1 (en) Optical apparatus and method for producing same
Diego et al. Final tests and commissioning of the UCL echelle spectrograph
JPS6355020B2 (en)
US3827811A (en) Optical measuring device employing a diaphragm with reflecting surfaces
US4274715A (en) Method and apparatus for the projection of optical test objects
US3664751A (en) Accessory for microscopes for use as a two-beam photometer
SU851326A1 (en) Interferential resolution meter
Anderson et al. Ronchi's method of optical testing
US3799680A (en) Photometer optical system having viewing magnification and light attenuation means
GB2154019A (en) Double-beam interferometer arrangement particularly for fourier-transform spectrometers
US3549258A (en) Monochromator
US1990022A (en) X-ray dosimeter
US3645630A (en) Monochromator
Titchmarsh Lloyd's single-mirror interference fringes
US3799673A (en) Scatterplate interferometer
US2989889A (en) Rangefinders and like optical instruments
Sen et al. An inverting Fizeau interferometer
WO2023070879A1 (en) Wave aberration measurement system and measurement method for full camera system
SU1597527A1 (en) Interferometer for checking wedged shape of optical plates
SU529362A1 (en) Interferometer for studying the quality of surfaces and aberrations of large-sized optical elements and transparent inhomogeneities
JPH02290536A (en) Microspectral measuring instrument
SU1359663A1 (en) Interferometer for checking cylindrical surfaces
SU1499108A1 (en) Interferometer for checking the quality of surface of rotation
SU1551989A1 (en) Method of checking the shape of reflecting surface of mirror reflectors