JPH02290536A - Microspectral measuring instrument - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、顕微分光測定装置に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to a microspectrometry device.
一般に、顕微鏡で分光測光をする場合は、先ず標本を置
かない状態でバックグラウンド（光源の分光特性とレン
ズ系の分光特性が含まれる。）を取り、次に標本の測光
をし、その相対比較で標本の分光特性を求めるが、ここ
で光源の分光特性にバラツキがあると、測光値に誤差が
乗ってくることになる。安定化電源等を用いることによ
り、光源の分光特性が一定という仮定のちとに演算処理
をすることもあるが、より正確な測光を行なうためには
光源の分光特性を常にモニタし、それをリファレンスと
して測光データを演算処理する必要がある。Generally, when performing spectrophotometry with a microscope, first the background (including the spectral characteristics of the light source and the spectral characteristics of the lens system) is taken without a specimen placed, then the light of the specimen is measured, and the relative comparison is made. The spectral characteristics of the sample are determined using , but if there are variations in the spectral characteristics of the light source, errors will be added to the photometric values. By using a stabilized power supply, etc., calculations may be performed on the assumption that the spectral characteristics of the light source are constant, but in order to perform more accurate photometry, it is necessary to constantly monitor the spectral characteristics of the light source and use it as a reference. It is necessary to process the photometric data as follows.
そして、従来の顕微分光測定装置における光源モニタ法
は以下のものがあった。The light source monitoring methods used in conventional microspectrometry devices include the following.
その一つは、標本の代わりに分光反射率（分光透過率）
のわかっているものを置き、それによる光源，−レンズ
系等を含めた全系の分光特性を測定し、それをリファレ
ンスとする方法である。One of them is spectral reflectance (spectral transmittance) instead of specimen.
This method uses a known device, measures the spectral characteristics of the entire system including the light source, lens system, etc., and uses it as a reference.
他の一つは、集光レンズと同じ集光位置に分光反射率の
分かっているミラーを有する対物レンズ（以下、リファ
レンス対物レンズと呼ぶ。）をレボルバーに取付けてお
き、そのリファレンス対物レンズを光路中にもってくる
ことによって光源，レンズ系等を含めた全系の分光特性
を測定し、それをリファレンスとする方法である。The other method is to attach an objective lens (hereinafter referred to as the reference objective lens) to the revolver that has a mirror with a known spectral reflectance at the same focus position as the condenser lens, and place the reference objective lens in the optical path. This method measures the spectral characteristics of the entire system, including the light source, lens system, etc., and uses it as a reference.
ところが、上記従来例の前者では、リファレンスをとる
たびに標本を交換しなければならず、標本の位置出し等
も含め非常に効率が悪いという問題があった。However, in the former conventional example, the sample must be replaced every time a reference is taken, and there is a problem in that efficiency is extremely low, including the positioning of the sample.
又、後者では、リファレンスをとるたびに、レボルバー
が回転して対物レンズが交換されるため、標本上にゴミ
等が落ちる危険性があるという問題があった。又、透過
分光測光には対応できないという問題があった。Furthermore, in the latter case, each time a reference is taken, the revolver rotates and the objective lens is replaced, so there is a problem that there is a risk of dust etc. falling onto the specimen. Another problem is that it cannot be used for transmission spectrophotometry.
本発明は、上記問題点に鑑み、標本や対物レンズを動か
すことなくリファレンスをとることが可能であり、さら
に透過分光測光にも対応し得る顕微分光測定装置を提供
することを目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned problems, it is an object of the present invention to provide a microscopic spectrometer that can take a reference without moving the specimen or objective lens, and is also capable of supporting transmission spectrophotometry.
〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明による顕
微分光測定装置は、光源と、該光源により照明されたピ
ンホールをアフオーカル部を介して標本面に投影するピ
ンホール投影光学系と、ピンホール照明された標本から
の光をアフォーカル部を介して測光部に結像させる測光
光学系とを備えた顕微分光測定装置において、前記ピン
ホールからの光を前記アフォーカル部に置いた反射部材
の切換えによって直接測光部に導きモニタできるように
したことにより、標本や対物レンズを動かすことなくリ
ファレンスをとることを可能にしたものである。[Means and effects for solving the problems] A microspectroscopic measuring device according to the present invention includes a light source, a pinhole projection optical system that projects a pinhole illuminated by the light source onto a specimen surface via an afocal part, and a pinhole projection optical system that projects a pinhole illuminated by the light source onto a specimen surface through an afocal section. In a microspectrometry apparatus comprising a photometric optical system that images light from a sample illuminated through a hole onto a photometric section via an afocal section, a reflecting member that directs light from the pinhole to the afocal section. This makes it possible to take a reference without moving the specimen or objective lens by directly leading the light to the photometry section and monitoring it by switching.
又、上記アフォーカル部にハーフミラーを置いてピンホ
ール照明光を既知の分光反射率の反射鏡と標本とに導く
と共に、該ハーフミラーの反射鏡側においたシャッター
を開き且つ標本側においたシャッターを閉じることによ
って、前記ピンホールからの光を直接測光部に導きモニ
タできるようにしたことにより、上記と同様な作用が得
られるようにしたものである。Further, a half mirror is placed in the afocal part to guide the pinhole illumination light to a reflecting mirror with a known spectral reflectance and the specimen, and a shutter placed on the reflecting mirror side of the half mirror is opened, and a shutter placed on the specimen side is opened. By closing the pinhole, the light from the pinhole can be guided directly to the photometry section and monitored, thereby achieving the same effect as described above.
又、以下の理由により、補正用の光学系も必要なくなる
という利点もある。Further, for the following reason, there is also an advantage that a correction optical system is not required.
一般に顕微分光測定を行なう際は、測定精度を上げるた
めにスポット照明方式（小穴・直良方式）で照明する。Generally, when performing microscopic spectroscopic measurements, a spot illumination method (small hole/Naoyoshi method) is used to improve measurement accuracy.
そのため照明光は通常のケーラー照明と異なり、標本面
に集光するように投影光学系に導入される。例えば、落
射照明系では、照明されたピンホールからの光が標本面
に集光するように対物レンズに導入される。しかし、対
物レンズが有限設計の場合は、対物レンズに入る前に光
路を切り換えて光源からの光を測光側に直接導入すると
、その集光位置が実際の測光の際の集光位置と異なるの
で、それを補正する光学系が必要となる。Therefore, unlike ordinary Koehler illumination, the illumination light is introduced into the projection optical system so as to be focused on the specimen surface. For example, in an epi-illumination system, light from an illuminated pinhole is introduced into an objective lens so as to be focused on a specimen surface. However, if the objective lens has a finite design, if you switch the optical path before entering the objective lens and introduce the light from the light source directly into the photometry side, the light focusing position will be different from the light focusing position during actual photometry. , an optical system is required to correct this.
これに対して、本発明のように対物レンズが無限設計の
場合は、対物レンズに入る前でもアフォーカルの光束中
で切り換えればその集光位置は実際の測光の際の集光位
置と一致するため、補正用の光学系は必要なくなる。同
様に、透過照明系の場合でも、無限設計のコンデンサレ
ンズを用いてアフォーカルの光束中で切り換えれば、補
正用の光学系は必要なくなる。On the other hand, if the objective lens has an infinite design as in the present invention, if the light is switched in the afocal beam even before entering the objective lens, the light focusing position will match the light focusing position during actual photometry. Therefore, there is no need for a correction optical system. Similarly, in the case of a transmitted illumination system, if a condenser lens with an infinite design is used to switch within an afocal beam, a correction optical system is no longer necessary.
以下、図示した実施例に基づき本発明を詳細に説明する
。Hereinafter, the present invention will be explained in detail based on the illustrated embodiments.
第１図は第１実施例の光学系（落射分光測光系）を示し
ており、■は光源、２はピンホール、３は結像レンズ、
４はハーフミラー ５は対物レンズ、６は標本、７は結
像レンズである。そして、結像レンズ３と対物レンズ５
との間及び対物レンズ５と結像レンズ７との間は何れも
アフォーカル部となっており、そこにハーフミラー４が
位置している。Figure 1 shows the optical system (epispectrophotometry system) of the first embodiment, where ■ is a light source, 2 is a pinhole, 3 is an imaging lens,
4 is a half mirror; 5 is an objective lens; 6 is a specimen; and 7 is an imaging lens. Then, the imaging lens 3 and the objective lens 5
and between the objective lens 5 and the imaging lens 7 are both afocal parts, and the half mirror 4 is located there.
本実施例は上述の如く構成されているから、通常の測光
の際には、光源１からの光で照明されたピンホール２が
結像レンズ３，ハーフミラー４，対物レンズ５を介して
標本面６に投影される。そのピンホール照明された微小
部分の反射光は、対物レンズ５，ハーフミラー４，結像
レンズ７を通って測光系に導かれる。一方、光源ｌをモ
ニタする時（リファレンスをとる時）は、第２図のよう
に、ハーフミラー４を９０゜回転させることによって、
光源ｌからの光を直接測光系に導く。Since this embodiment is configured as described above, during normal photometry, the pinhole 2 illuminated with light from the light source 1 passes through the imaging lens 3, half mirror 4, and objective lens 5 to the specimen. It is projected onto surface 6. The reflected light from the pinhole-illuminated minute portion passes through the objective lens 5, the half mirror 4, and the imaging lens 7, and is guided to the photometry system. On the other hand, when monitoring the light source 1 (taking a reference), as shown in Fig. 2, by rotating the half mirror 4 by 90 degrees,
Light from light source 1 is guided directly to the photometry system.
かくして、標本６や対物レンズ５を動かすことなくリフ
ァレンスをとることができる。In this way, a reference can be taken without moving the specimen 6 or the objective lens 5.
第３図は第２実施例の光学系を示しており、これは第１
実施例のハーフミラー４の左側（透過側）にシャッター
８と分光反射率の分かっているミラー９を置き、またハ
ーフミラー４の下側（反射側）にもシャッター１０を置
いたものである。FIG. 3 shows the optical system of the second embodiment, which is similar to the first embodiment.
A shutter 8 and a mirror 9 whose spectral reflectance is known are placed on the left side (transmission side) of the half mirror 4 of the embodiment, and a shutter 10 is placed below the half mirror 4 (reflection side).
通常の測光の際には、シャッター８を閉じ且つシャッタ
ーｌＯを開いておく。一方、光源ｌをモニタする時（リ
ファレンスをとる時）は、シャッター８を開き且つシャ
ッター１０を閉じることにより、ハーフミラー４，シャ
ッター８を通った光がミラー９で反射され、再びシャッ
ター８を通りハーフミラー４で反射されて測光系に導か
れる。During normal photometry, the shutter 8 is closed and the shutter lO is kept open. On the other hand, when monitoring the light source 1 (taking a reference), by opening the shutter 8 and closing the shutter 10, the light that has passed through the half mirror 4 and the shutter 8 is reflected by the mirror 9, and passes through the shutter 8 again. It is reflected by the half mirror 4 and guided to the photometry system.
第４図は第３実施例の光学系（透過分光測光系）を示し
ており、１）はコンデンサーレンズ、１２，１３，１４
．１５はミラーである。そして、結像レンズ３とコンデ
ンサーレンズＩＩとの間及び対物レンズ５と結像レンズ
７との間は何れもアフォーカル部となっており、夫々に
ミラーＩ３及びミラーｌ５が挿脱可能に配置されている
。Figure 4 shows the optical system (transmission spectrophotometry system) of the third embodiment, where 1) is a condenser lens, 12, 13, 14
．． 15 is a mirror. The space between the imaging lens 3 and the condenser lens II and between the objective lens 5 and the imaging lens 7 are both afocal parts, and a mirror I3 and a mirror 15 are removably arranged therein. ing.
本実施例は上述の如く構成されているから、通常の測光
時にはミラーＩ３が光路内にあり、ミラー１５が光路か
ら離脱している。この時、光源ｌからの光で照明された
ピンホール２が結像レンズ３，コンデンサーレンズ１）
を介して標本面６に投影される。そのピンホール照明さ
れた微小部分から出た光は、対物レンズ５，結像レンズ
７を通って測光系に導かれる。一方、光源１をモニタす
る時（リファレンスをとる時）は、々ラー１２が光路か
ら離脱し、ミラーｌ５が光路内に挿入されることによっ
て、光源１からの光がミラー１３，ミラー１４， ミ
ラーＩ５を介して測光系に直接導かれる。Since this embodiment is configured as described above, during normal photometry, the mirror I3 is in the optical path, and the mirror 15 is out of the optical path. At this time, the pinhole 2 illuminated by the light from the light source 1 becomes the imaging lens 3 and the condenser lens 1)
It is projected onto the specimen surface 6 via. The light emitted from the pinhole-illuminated minute portion passes through the objective lens 5 and the imaging lens 7 and is guided to the photometry system. On the other hand, when monitoring the light source 1 (taking a reference), the mirror 12 is removed from the optical path and the mirror 15 is inserted into the optical path, so that the light from the light source 1 is transmitted to the mirrors 13, 14, and 14. It is led directly to the photometry system via I5.
第５図は第４実施例の光学系を示しており、これは第２
実施例のシャッター８とミラー９との間に正レンズｌ６
を配置してミラー９上に集光させるようにしたものであ
る。FIG. 5 shows the optical system of the fourth embodiment, which is similar to the second embodiment.
A positive lens l6 is provided between the shutter 8 and the mirror 9 in the embodiment.
is arranged so that the light is focused on the mirror 9.
光源をモニタする方法は第２実施例と同じである。The method of monitoring the light source is the same as in the second embodiment.
第２実施例では、ミラー９の位置（傾き）を調整したあ
とハーフミラー４の交換等によりハーフミラー４の傾き
がずれると、ピンホール２を通ってハーフミラー４で反
射した光は標本６上で光軸からずれてしまう。そこで、
光軸上にくるようにピンホール２を動かすと今度は光源
モニタのための光がとんでもない方へ行ってしまうので
、これを避けるためにミラー９の傾きを再調整しなけれ
ばならない。そして、このやり方では、ハーフミラー４
の傾きが変わる毎にミラー９の傾きも調整することが必
要である。しかし、本実施例のようにレンズｌ６を入れ
てレンズｌ６の焦点面にミラー９が位置するようにする
と、レンズ１６に入射した光はミラー９で反射された後
必ず入射光と平行にレンズ１６から出てゆ《。従って、
最初のセッティングが適正であれば、ハーフミラー４の
傾きが変化してもピンホール２を動かして標本６上で光
軸上にピンホール像が出来るようにすれば、光源モニタ
の場合も光は必ず測光系の光軸上に集まる（ピンホール
像を形成する）ので好ましい。In the second embodiment, if the inclination of the half mirror 4 is shifted due to replacement of the half mirror 4 after adjusting the position (inclination) of the mirror 9, the light reflected by the half mirror 4 through the pinhole 2 will be reflected onto the specimen 6. The lens will shift from the optical axis. Therefore,
If the pinhole 2 is moved so that it is on the optical axis, the light for monitoring the light source will go in an unexpected direction, so the inclination of the mirror 9 must be readjusted to avoid this. And in this way, half mirror 4
It is necessary to adjust the inclination of the mirror 9 every time the inclination of the mirror 9 changes. However, if the lens 16 is inserted and the mirror 9 is positioned at the focal plane of the lens 16 as in this embodiment, the light incident on the lens 16 will always be reflected by the mirror 9 and then the lens 16 will be parallel to the incident light. Get out of here. Therefore,
If the initial settings are appropriate, even if the tilt of the half mirror 4 changes, the pinhole 2 can be moved so that a pinhole image is formed on the optical axis on the specimen 6, and the light can be This is preferable because it always gathers on the optical axis of the photometric system (forming a pinhole image).
上述の如く、本願発明による顕微分光測定装置は、標本
や対物レンズを動かすことなくリファレンスをとること
が可能であり、さらに透過分光測光にも対応し得るとい
う実用上重要な利点を有している。As mentioned above, the microspectrometry device according to the present invention has important practical advantages in that it is possible to take a reference without moving the specimen or objective lens, and it is also compatible with transmission spectrophotometry. .
第１図は第１実施例の光学系を示す図、第２図は第１実
施例においてハーフミラーを切換えた状態を示す図、第
３図は第２実施例の光学系の要部を示す図、第４図は第
３実施例の光学系を示す図、第５図は第４実施例の要部
を示す図である。
ｌ・・・・光学系、２・・・・ピンホール、３，７・・
・・結像レンズ、４・・・・ハーフミラー ５・・・・
対物レンズ、６・・・・標本、８，ｌＯ・・・・シャッ
ター ９，１２， １３． １４． １５・・・
・ミラー １ ｌ・・・・コンデンサーレンズ、ｌ６・
・・・正レンズ。
１−４図
本
１′−１図
１−２図
オ３図Fig. 1 is a diagram showing the optical system of the first embodiment, Fig. 2 is a diagram showing a state in which the half mirror is switched in the first embodiment, and Fig. 3 is a diagram showing the main parts of the optical system of the second embodiment. 4 are diagrams showing the optical system of the third embodiment, and FIG. 5 is a diagram showing the main parts of the fourth embodiment. l...optical system, 2...pinhole, 3,7...
...Imaging lens, 4...Half mirror 5...
Objective lens, 6...Specimen, 8, lO...Shutter 9, 12, 13. 14. 15...
・Mirror 1 l... Condenser lens, l6.
...Positive lens. 1-4 Figure Book 1'-1 Figure 1-2 Figure O 3
Claims (2)
フォーカル部を介して標本面に投影するピンホール投影
光学系と、ピンホール照明された標本からの光をアフォ
ーカル部を介して測光部に結像させる測光光学系とを備
えた顕微分光測定装置において、前記ピンホールからの
光を前記アフォーカル部に置いた反射部材の切換えによ
って直接測光部に導きモニタできるようにしたことを特
徴とする顕微分光測定装置。(1) A light source, a pinhole projection optical system that projects the pinhole illuminated by the light source onto the specimen surface via the afocal section, and photometry that measures the light from the pinhole-illuminated specimen via the afocal section. A microspectroscopic measuring device equipped with a photometric optical system that forms an image in the afocal area, characterized in that the light from the pinhole can be guided directly to the photometric unit and monitored by switching a reflecting member placed in the afocal area. A microspectroscopic measurement device.
フォーカル部を介して標本面に投影するピンホール投影
光学系と、ピンホール照明された標本からの光をアフォ
ーカル部を介して測光部に結像させる測光光学系とを備
えた顕微分光測定装置において、前記アフォーカル部に
ハーフミラーを置いてピンホール照明光を既知の分光反
射率の反射鏡と標本とに導くと共に、該ハーフミラーの
反射鏡側に置いたシャッターを開き且つ標本側に置いた
シャッターを閉じることによって、前記ピンホールから
の光を直接測光部に導きモニタできるようにしたことを
特徴とする顕微分光測定装置。(2) A light source, a pinhole projection optical system that projects the pinhole illuminated by the light source onto the specimen surface via the afocal section, and photometry that measures the light from the pinhole-illuminated specimen via the afocal section. In a microspectrometry apparatus equipped with a photometric optical system that forms an image in the afocal part, a half mirror is placed in the afocal part to guide the pinhole illumination light to the reflector of a known spectral reflectance and the specimen, and A microspectrometry device characterized in that the light from the pinhole can be guided directly to a photometry section and monitored by opening a shutter placed on the reflection side of the mirror and closing a shutter placed on the specimen side.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11129389A JPH02290536A (en) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | Microspectral measuring instrument |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11129389A JPH02290536A (en) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | Microspectral measuring instrument |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02290536A true JPH02290536A (en) | 1990-11-30 |
Family
ID=14557549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11129389A Pending JPH02290536A (en) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | Microspectral measuring instrument |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02290536A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0459819U (en) * | 1990-09-29 | 1992-05-22 | ||
| JP2003106997A (en) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Jasco Corp | Microspectroscope device |
| WO2017094082A1 (en) * | 2015-11-30 | 2017-06-08 | オリンパス株式会社 | Bend information derivation device |
-
1989
- 1989-04-28 JP JP11129389A patent/JPH02290536A/en active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0459819U (en) * | 1990-09-29 | 1992-05-22 | ||
| JP2003106997A (en) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Jasco Corp | Microspectroscope device |
| WO2017094082A1 (en) * | 2015-11-30 | 2017-06-08 | オリンパス株式会社 | Bend information derivation device |
| JPWO2017094082A1 (en) * | 2015-11-30 | 2018-10-04 | オリンパス株式会社 | Curvature information deriving device |
| US10197386B2 (en) | 2015-11-30 | 2019-02-05 | Olympus Corporation | Bend information computation apparatus |
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