JP3385432B2 - Inspection device - Google Patents

Inspection device

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JP3385432B2
JP3385432B2 JP26564993A JP26564993A JP3385432B2 JP 3385432 B2 JP3385432 B2 JP 3385432B2 JP 26564993 A JP26564993 A JP 26564993A JP 26564993 A JP26564993 A JP 26564993A JP 3385432 B2 JP3385432 B2 JP 3385432B2
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一実 芳賀
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、試料の表面状態を2
次元的に観測するための検査装置に関するもので、特
に、試料表面に形成された指標を検出するのに適した検
査装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION This invention relates to the surface condition of a sample
The present invention relates to an inspection device for dimensional observation, and particularly to an inspection device suitable for detecting an index formed on a sample surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路の製造に用いられる鏡面
ウェーハ等の試料に形成された指標の検査装置として、
従来、蛍光灯やハロゲンランプなどで照明された試料を
CCDカメラで直接観測するものが知られている。ま
た、試料の表面状態(うねり、ディンプル、突起、洗浄
不良またはバフダメージなど)を検出する検査装置とし
て、シュリーレン光学系を用いたものも知られている。
2. Description of the Related Art As an inspection device for an index formed on a sample such as a mirror wafer used for manufacturing a semiconductor integrated circuit,
Conventionally, it is known to directly observe a sample illuminated by a fluorescent lamp or a halogen lamp with a CCD camera. Also known is an inspection device using a Schlieren optical system as an inspection device for detecting the surface condition (undulation, dimples, protrusions, poor cleaning, buff damage, etc.) of a sample.

【0003】後者の検査装置で用いられるシュリーレン
光学系は、試料表面の凹凸による屈折率変化や反射率変
化を明暗の差として表す代表的な光学系の1つである。
この光学系は、点光源からの出射光を光学素子(レン
ズ)によって平行光にし、試料表面にその法線方向から
照射し、その反射光を光学素子(レンズ)によって集束
し、その後像空間焦平面に設置されたナイフエッジによ
って散乱光の一部を遮断するようにしているとともに、
その後方において肉眼やカメラ等によって反射像を観測
するようにしたものである。
The Schlieren optical system used in the latter inspection apparatus is one of the typical optical systems that expresses a change in refractive index and a change in reflectance due to unevenness of the sample surface as a difference in brightness.
This optical system collimates the light emitted from a point light source by an optical element (lens), irradiates the sample surface from its normal direction, focuses the reflected light by an optical element (lens), and then focuses on the image space. A part of scattered light is blocked by a knife edge installed on a flat surface,
The reflected image is observed with the naked eye or a camera after that.

【0004】この光学系によれば、試料表面に凹凸があ
るとその部分で光が散乱されるが、この散乱光のうちナ
イフエッジに当たった部分は遮断される。その結果、ナ
イフエッジの後方では、そのナイフエッジで遮られた散
乱光に対応する部分は暗くなり、それ以外の部分は明る
くなる。この明暗パターンは試料の表面状態に対応して
いるので、その明暗パターンから試料の表面状態が観測
できることになる。
According to this optical system, if the sample surface has irregularities, light is scattered at that portion, but the portion of the scattered light that hits the knife edge is blocked. As a result, behind the knife edge, the portion corresponding to the scattered light blocked by the knife edge becomes dark, and the other portion becomes bright. Since this light-dark pattern corresponds to the surface state of the sample, the surface state of the sample can be observed from the light-dark pattern.

【0005】なお、ちなみに言えば、このシュリーレン
光学系において、ナイフエッジを用いず散乱光成分を全
く遮断しないものでは、光量が大きいと全体が明るくな
ってしまうため、光量を小さくして明暗パターンを現出
させて観測を行うようになっているが、この明暗パター
ンでは若干のコントラストしか得られないために明暗パ
ターンが極めて見にくいという問題がある。
Incidentally, in this Schlieren optical system, if the knife edge is not used and the scattered light component is not blocked at all, the entire light becomes bright when the light amount is large, so the light amount is reduced to form a bright-dark pattern. Although it is designed to be exposed, the light-dark pattern has a problem that the light-dark pattern is extremely difficult to see because only a slight contrast can be obtained.

【0006】一方、前記シュリーレン光学系において、
ナイフエッジを設置しないで、ピントを僅かにずらすこ
とにより(ピントがあっている場合は、シュリーレン光
学系でナイフエッジを設けないときと同じとなる。)、
比較的コントラストの高い場所で試料の表面状態を観測
するようにした検査装置も知られている。
On the other hand, in the Schlieren optical system,
By setting the knife edge and shifting the focus slightly (when it is in focus, it is the same as when the knife edge is not provided in the Schlieren optical system).
There is also known an inspection device that observes the surface condition of a sample in a place with a relatively high contrast.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし、これら従来の
検査装置にあっては下記のような問題があった。
However, these conventional inspection apparatuses have the following problems.

【0008】すなわち、CCDカメラで直接観測する検
査装置では、明瞭な画像を得ることが極めて困難であっ
た。
That is, it was extremely difficult to obtain a clear image with the inspection device which directly observes with the CCD camera.

【0009】また、シュリーレン光学系を用いた検査装
置のうち前者のものでは、ナイフエッジ後方で、試料の
表面状態に応じた明暗パターンはできるものの、この明
暗パターンにはナイフエッジによって遮断されなかった
散乱光成分が多く含まれるため、コントラストが低い。
また、ナイフエッジ後方で観測できる範囲は試料表面の
一部であって試料表面全体ではないことから、試料表面
全体の状態を観測するためには、試料を光軸を中心に1
回転しなければならない。一方、シュリーレン光学系を
用いた検査装置のうち後者のものでは、観測点を光軸方
向に移動させるのみで、散乱光がほとんど遮断されない
ことから、コントラストが極めて低く、しかも、凹凸が
生じているエリアをおおよそは判別できるものの、それ
がどれだけの深さ・高さを持っているのかの判別ができ
ないという問題があった。
In the former of the inspection devices using the Schlieren optical system, a bright / dark pattern corresponding to the surface condition of the sample can be formed behind the knife edge, but the bright / dark pattern was not blocked by the knife edge. The contrast is low because it contains a large amount of scattered light components.
Further, since the range that can be observed behind the knife edge is a part of the sample surface and not the entire sample surface, in order to observe the state of the entire sample surface, the sample should be centered around the optical axis by 1
Must rotate. On the other hand, the latter of the inspection devices using the Schlieren optical system only moves the observation point in the optical axis direction and hardly blocks the scattered light, so that the contrast is extremely low and unevenness occurs. Although the area can be roughly determined, there was a problem that it was not possible to determine how deep or high it was.

【0010】本発明は、かかる点に鑑みなされたもの
で、試料表面の状態が実時間でしかも正確に観測できる
検査装置を提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide an inspection apparatus capable of accurately observing the state of a sample surface in real time.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく請
求項1記載の発明は、光源からの照射光を試料表面に導
くとともに、試料表面から戻って来た反射光を集束する
光学素子と、試料表面からの反射光を、この反射光が光
学素子を通過した後に照射光の光路から分岐する分岐手
段と、光学素子の後像空間焦平面に対応する位置または
その近傍に配設された開口絞りを有し、この開口絞りを
通過した反射光の像を検出する検出手段と、この検出手
段を反射光の光路に垂直な方向に移動させる移動手段と
を備えることを特徴とする検査装置である。
In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 is to provide an optical element for guiding the irradiation light from the light source to the sample surface and converging the reflected light returning from the sample surface. , A branching means for branching the reflected light from the sample surface from the optical path of the irradiation light after the reflected light passes through the optical element, and a position corresponding to the focal plane of the rear image space of the optical element or in the vicinity thereof. An inspection apparatus having an aperture stop, comprising detection means for detecting an image of reflected light that has passed through the aperture stop, and moving means for moving the detection means in a direction perpendicular to the optical path of the reflected light. Is.

【0012】また、請求項2記載の発明は、光源からの
照射光を試料表面に導くとともに、試料表面から戻って
来た反射光を集束する光学素子と、試料表面からの反射
光を、この反射光が光学素子を通過した後に照射光の光
路から分岐する分岐手段と、光学素子の後像空間焦平面
に対応する位置またはその近傍に配設される開口絞りを
有し、この開口絞りを通過した反射光の像を検出する検
出手段と、光源を照射光の光路に垂直な方向に移動させ
る移動手段とを備えることを特徴とする検査装置であ
る。
According to a second aspect of the present invention, an optical element for guiding the irradiation light from the light source to the sample surface and converging the reflected light returning from the sample surface, and the reflected light from the sample surface are A branching unit that branches the reflected light from the optical path of the irradiation light after passing through the optical element, and an aperture stop disposed at a position corresponding to the rear image space focal plane of the optical element or in the vicinity thereof. An inspection apparatus comprising: a detection unit that detects an image of the reflected light that has passed through and a moving unit that moves the light source in a direction perpendicular to the optical path of the irradiation light.

【0013】また、請求項3記載の発明は、光源からの
照射光を平行光にして試料表面に照射するための照明光
学系と、試料表面から戻ってきた反射光を前記照射光の
光路から分岐するハーフミラーと、前記ハーフミラーで
分岐された前記反射光を集束する光学素子を含む観測光
学系と、前記光学素子の後像空間焦平面に対応する位置
またはその近傍に配設された開口絞りとを備え、前記平
行光を前記ハーフミラーを介して試料表面に照射すると
ともに、試料表面から戻ってきた反射光を前記ハーフミ
ラーで前記照射光の光路から分岐し前記光学素子に導く
ように構成されていることを特徴とする検査装置であ
る。
According to a third aspect of the invention, an illumination optical system for collimating the irradiation light from the light source to irradiate the sample surface, and the reflected light returning from the sample surface from the optical path of the irradiation light. An observation optical system including a splitting half mirror, an optical element that focuses the reflected light split by the half mirror, and an aperture arranged at a position corresponding to a rear image space focal plane of the optical element or in the vicinity thereof. A diaphragm and irradiates the parallel light onto the sample surface via the half mirror, and guides the reflected light returning from the sample surface from the optical path of the irradiation light to the optical element by the half mirror. It is an inspection device characterized by being configured.

【0014】[0014]

【作用】請求項1記載の発明によれば、試料表面からの
反射光のうち、入射方向と逆向きの所定方向に反射され
る戻り光は、光学素子の後像空間焦平面に対応する位置
またはその近傍に配設された開口絞りを通過し、それ以
外の方向に反射される散乱光は、この開口絞りによって
そのほとんどが遮断される。したがって、検出手段に設
けられている検出面には、反射光のうちの戻り光によっ
て、試料表面の凹凸、反射率等の状態を反映した2次元
的な明暗パターンが形成される。この明暗パターンの検
出により試料表面の2次元的状態を一時に観測すること
ができるが、この場合、試料にピントを合わせて検出で
きる上、開口絞りによって散乱光のほとんどが除去でき
るため、観測される明暗パターンの鮮明度が著しく向上
されることになる。しかも、検出手段を反射光の光路に
垂直な方向に移動させる移動手段を備えることから、光
学素子で生じる不要な光(迷光)によって明暗パターン
の観測が妨げられるといった問題を回避できる。すなわ
ち、移動手段を適当に調節して検出手段を反射光の光路
に垂直な方向に移動させることにより、照射光の入射に
よって光学素子のいずれかの部分で生じる迷光が開口絞
りを通過して検出手段に設けられた検出面に導かれるこ
とを有効に防止することができ、検出面の局所領域に迷
光が投影されて観測の妨げとなるといった事態が防止さ
れる。
According to the first aspect of the invention, of the reflected light from the sample surface, the return light reflected in a predetermined direction opposite to the incident direction is at a position corresponding to the rear image space focal plane of the optical element. Most of the scattered light that passes through the aperture stop arranged in the vicinity thereof and is reflected in other directions is blocked by this aperture stop. Therefore, on the detection surface provided in the detection means, a two-dimensional bright-dark pattern reflecting the state of the sample surface such as unevenness and reflectance is formed by the return light of the reflected light. By detecting this bright and dark pattern, the two-dimensional state of the sample surface can be observed at one time. In this case, the sample can be focused and detected, and most of the scattered light can be removed by the aperture stop, so it is observed. The sharpness of the bright and dark pattern is significantly improved. Moreover, since the moving means for moving the detecting means in the direction perpendicular to the optical path of the reflected light is provided, it is possible to avoid the problem that unnecessary light (stray light) generated by the optical element hinders observation of the bright and dark patterns. That is, by appropriately adjusting the moving means and moving the detecting means in a direction perpendicular to the optical path of the reflected light, stray light generated in any part of the optical element due to incidence of the irradiation light passes through the aperture stop and is detected. It is possible to effectively prevent the light from being guided to the detection surface provided in the means, and it is possible to prevent a situation in which stray light is projected on a local region of the detection surface and hinders observation.

【0015】請求項2記載の発明によれば、光学素子の
後像空間焦平面に対応する位置またはその近傍に配設さ
れた開口絞りの存在により、試料表面の2次元的状態を
一時に鮮明に観測できる。しかも、光源を照射光の光路
に垂直な方向に移動させる移動手段を備えるので、照射
光の入射によって光学素子で生じる迷光が検出手段に設
けられた検出面に導かれて観測の妨げとなるといった事
態が防止される。
According to the second aspect of the invention, the presence of the aperture stop disposed at or near the position corresponding to the back image space focal plane of the optical element allows the two-dimensional state of the sample surface to be sharpened at one time. It can be observed in Moreover, since the moving means for moving the light source in the direction perpendicular to the optical path of the irradiation light is provided, stray light generated in the optical element due to the incidence of the irradiation light is guided to the detection surface provided in the detection means, which hinders observation. The situation is prevented.

【0016】請求項3記載の発明によれば、光学素子の
後像空間焦平面に対応する位置またはその近傍に配設さ
れた開口絞りの存在により、試料表面の2次元的状態を
一時に鮮明に観測できる。しかも、試料表面から戻って
きた反射光をハーフミラーで照射光の光路から分岐する
ので、照射光が観測光学系に直接入射することがなく、
迷光が検出手段に設けられた検出面に導かれて観測の妨
げとなるといった事態が防止される。
According to the third aspect of the invention, the two-dimensional state of the sample surface can be sharpened at a time by the presence of the aperture stop disposed at a position corresponding to the rear image space focal plane of the optical element or in the vicinity thereof. It can be observed in Moreover, since the reflected light returning from the sample surface is branched from the optical path of the irradiation light by the half mirror, the irradiation light does not directly enter the observation optical system,
It is possible to prevent a situation in which stray light is guided to the detection surface provided in the detection means and interferes with observation.

【0017】[0017]

【実施例】以下、本発明に係る検査装置の実施例につい
て説明する。
Embodiments of the inspection apparatus according to the present invention will be described below.

【0018】図1には第1実施例の検査装置が示されて
いる。この装置について簡単に説明すれば、点光源であ
る光源装置2から出射する照射光は、ハーフミラー5で
直角方向(図面下側)に偏向され、コリメートレンズ3
によって一旦平行にされた後、平板状の試料4の表面
(以下試料表面と称す)4aにその法線方向から照射さ
れる。この試料表面4aからの反射光は、照射光とは逆
方向に進んでコリメートレンズ3によって集束され、分
岐手段としての機能を有するハーフミラー5を透過して
照射光側の光路から分岐された後、コリメートレンズ3
の後像空間焦平面に対応する位置に開口絞り6を内蔵す
る検出装置7(検出手段)に入射し、この開口絞り6の
後方の検出面71a上への投影像として検出される。な
お、検出装置7には、移動手段である微動機構8が設け
られており、検出装置7の位置および傾きを調節する。
FIG. 1 shows an inspection apparatus according to the first embodiment. Briefly explaining this device, the irradiation light emitted from the light source device 2 which is a point light source is deflected by the half mirror 5 in the orthogonal direction (lower side in the drawing), and the collimator lens 3 is irradiated.
After being made parallel to each other, the surface (hereinafter referred to as the sample surface) 4a of the plate-shaped sample 4 is irradiated from the normal direction. The reflected light from the sample surface 4a travels in the direction opposite to the irradiation light, is focused by the collimator lens 3, passes through the half mirror 5 having a function as a branching unit, and is branched from the optical path on the irradiation light side. , Collimating lens 3
The light enters the detection device 7 (detection means) having the aperture stop 6 at a position corresponding to the focal plane of the rear image space, and is detected as a projected image on the detection surface 71a behind the aperture stop 6. The detection device 7 is provided with a fine movement mechanism 8 which is a moving unit, and adjusts the position and inclination of the detection device 7.

【0019】この装置の動作について簡単に説明する
と、検出装置7内の開口絞り6の存在によって、試料表
面4aでその法線方向に反射されなかった散乱光のほと
んどが遮断されるので、検出装置7の検出面71a上
に、試料表面4aでその法線方向に反射された戻り光
(正反射光)の鮮明な投影像が形成されることとなる。
この投影像の明暗パターンは、試料表面4aの凹凸等の
状態を反映したものとなっているので、検出装置7の画
像出力を観察することにより、試料表面4aの状態の微
小な変化の2次元的分布を観測することができる。さら
に、検出装置7用の微動機構8が設けられているので、
検出装置7をコリメートレンズ3の光軸から外した状態
とすることができる。この結果、コリメートレンズ3で
生じた迷光が検出装置7に入射し開口絞り6を通過して
検出面71a上に光点を形成するといった事態を回避で
き、このような光点によって観測が妨げられるといった
問題が生じない。
The operation of this device will be briefly described. Since the presence of the aperture stop 6 in the detection device 7 blocks most of the scattered light that has not been reflected by the sample surface 4a in the normal direction, the detection device 7 On the detection surface 71a of No. 7, a clear projection image of the return light (specular reflection light) reflected in the normal direction by the sample surface 4a is formed.
Since the light-dark pattern of this projected image reflects the state of the unevenness or the like of the sample surface 4a, by observing the image output of the detection device 7, the two-dimensional change of the state of the sample surface 4a is minute. Distribution can be observed. Furthermore, since the fine movement mechanism 8 for the detection device 7 is provided,
The detection device 7 can be in a state of being removed from the optical axis of the collimator lens 3. As a result, it is possible to avoid a situation in which stray light generated by the collimator lens 3 enters the detection device 7, passes through the aperture stop 6 and forms a light spot on the detection surface 71a, and such light spot hinders observation. Such a problem does not occur.

【0020】続いて、図1の検査装置について詳細に説
明する。
Next, the inspection apparatus of FIG. 1 will be described in detail.

【0021】光源装置2は、ハロゲンランプ21を発光
源としている。このハロゲンランプ21からの出射光
は、ダイクロイックミラーからなる楕円リフレクタ22
で反射された後、熱線吸収フィルタ23を透過し、直径
2mmのピンホール24に集光される。このピンホール
24は、試料表面4aを照明するため照射光の点光源と
なる。ピンホール24の前方には、複数の干渉フィルタ
を備えるターレット状の波長選択フィルタ25が設けら
れており、試料表面を照明する照射光の波長を適宜変更
することを可能にする。この波長選択フィルタ25は検
査装置の光学系部分の感度調節に用いられ、試料表面4
aの凹凸のピークツーバレーが小さい場合には波長の短
い領域が選択される。
The light source device 2 uses a halogen lamp 21 as a light emitting source. The light emitted from the halogen lamp 21 is an elliptical reflector 22 composed of a dichroic mirror.
After being reflected by, the light passes through the heat ray absorbing filter 23 and is focused on the pinhole 24 having a diameter of 2 mm. The pinhole 24 illuminates the sample surface 4a and serves as a point source of irradiation light. A turret-shaped wavelength selection filter 25 including a plurality of interference filters is provided in front of the pinhole 24, and it is possible to appropriately change the wavelength of irradiation light that illuminates the sample surface. This wavelength selection filter 25 is used to adjust the sensitivity of the optical system part of the inspection device, and
When the peak-to-valley of the unevenness of a is small, a region having a short wavelength is selected.

【0022】光源装置2からの照射光は、ハーフミラー
5で反射された後コリメートレンズ3に入射する。この
コリメートレンズ3は、特殊低分散ガラスを用いた直径
6インチ(F7.1)のアポクロマートレンズであり、
光源装置2のピンホール24から拡散する照射光を平行
光束に変換して試料表面4aに入射させる。すなわち、
このコリメートレンズ3は、その前像空間焦平面の位置
にピンホール24が位置するように設置されている。
The irradiation light from the light source device 2 is reflected by the half mirror 5 and then enters the collimator lens 3. The collimator lens 3 is an apochromat lens having a diameter of 6 inches (F7.1) using a special low dispersion glass,
The irradiation light diffused from the pinhole 24 of the light source device 2 is converted into a parallel light flux and made incident on the sample surface 4a. That is,
The collimator lens 3 is installed so that the pinhole 24 is located at the position of the focal plane of the front image space.

【0023】コリメートレンズ3からの平行光束が入射
する試料4は、チルトステージ41上に載置されてい
る。このチルトステージ41は、照射光の平行光束が試
料表面4aに垂直に入射するように、試料4の傾きを微
調整する。試料表面4aからの反射光は、再度コリメー
トレンズ3に入射してビーム径を絞られる。
The sample 4 on which the parallel light flux from the collimator lens 3 is incident is placed on the tilt stage 41. The tilt stage 41 finely adjusts the tilt of the sample 4 so that the parallel light flux of the irradiation light is vertically incident on the sample surface 4a. The reflected light from the sample surface 4a again enters the collimator lens 3 and the beam diameter is narrowed.

【0024】コリメートレンズ3でビーム径を絞られた
反射光は、ハーフミラー5を透過して、入射光の光路か
ら分岐されれる。ハーフミラー5は、平板ビームスプリ
ッタであるが、その2平面間に所定の微小角が設けられ
たウェッジ付きのハーフミラーである。したがって、そ
の上側の透過面での反射に起因して発生する不要なゴー
スト光は、反射光の光路、すなわちコリメートレンズ3
の光軸から外れる。この結果、ゴースト光は検出装置7
で検出されなくなる。ハーフミラー5に設けられる微小
角は、例えばゴースト光が検出装置7に入射しないよう
に(ゴースト光が検出装置7のカメラレンズ72の入射
瞳によって遮られるように)設定する。
The reflected light whose beam diameter is narrowed by the collimator lens 3 passes through the half mirror 5 and is branched from the optical path of the incident light. The half mirror 5 is a flat plate beam splitter, but is a half mirror with a wedge in which a predetermined minute angle is provided between the two planes. Therefore, the unnecessary ghost light generated due to the reflection on the upper transparent surface is an optical path of the reflected light, that is, the collimator lens 3
Deviate from the optical axis of. As a result, the ghost light is detected by the detection device 7
Will not be detected in. The minute angle provided on the half mirror 5 is set, for example, so that ghost light does not enter the detection device 7 (so that the ghost light is blocked by the entrance pupil of the camera lens 72 of the detection device 7).

【0025】ハーフミラー5で照射光の光路から分岐さ
れた必要な反射光は、検出装置7に設けられたズームタ
イプのカメラレンズ72に入射する。カメラレンズ72
内部の集光位置には、開口絞り6が配置されている。す
なわち、開口絞り6はコリメートレンズ3の後像空間焦
平面に対応する位置に配置されていることになる。した
がって、試料表面4aで散乱された散乱光のほとんどが
この開口絞り6で遮断される。この開口絞り6は10枚
羽根からなるアイリス絞りで、可動調節部を動かすこと
によりその円形開口の直径を連続的に変化できるように
なっている。この円形開口の直径を変化させることによ
り、検査の種別(うねりの検査、ディンプルの検査、傷
の検査など)に適した光像が得られる。
The necessary reflected light branched from the optical path of the irradiation light by the half mirror 5 enters a zoom type camera lens 72 provided in the detection device 7. Camera lens 72
An aperture stop 6 is arranged at a light collecting position inside. That is, the aperture stop 6 is arranged at the position corresponding to the rear image space focal plane of the collimator lens 3. Therefore, most of the scattered light scattered on the sample surface 4a is blocked by the aperture stop 6. The aperture stop 6 is an iris stop having 10 blades, and the diameter of the circular aperture can be continuously changed by moving the movable adjusting portion. By changing the diameter of the circular opening, an optical image suitable for the type of inspection (waviness inspection, dimple inspection, scratch inspection, etc.) can be obtained.

【0026】カメラレンズ72を通過した試料表面4a
からの反射光は、1/2インチタイプのCCDカメラ7
1の検出面71a上に投影される。CCDカメラ71か
らの画像信号は、一旦電気信号に変換され、適当な信号
処理装置で処理された後、再構成された画像としてモニ
ター(図示せず)に逐次表示される。この場合、CCD
カメラ71の検出面71a上に投影される画像は、試料
表面4aの状態に対応する2次元的な明暗パターンとな
っている。
Sample surface 4a passing through the camera lens 72
The reflected light from the camera is a 1/2 inch type CCD camera 7.
It is projected on one detection surface 71a. The image signal from the CCD camera 71 is once converted into an electric signal, processed by an appropriate signal processing device, and then sequentially displayed on a monitor (not shown) as a reconstructed image. In this case, CCD
The image projected on the detection surface 71a of the camera 71 has a two-dimensional bright-dark pattern corresponding to the state of the sample surface 4a.

【0027】詳細に説明すると、CCDカメラ71の検
出面71a上に投影される画像の明暗パターンは、試料
表面4aからの反射光のうち、開口絞り6を通過したも
ののみによって構成される。すなわち、試料表面4aで
その法線方向に反射されなかった散乱光のほとんどは、
開口絞り6によって遮断され、試料表面4aでその法線
方向に反射された戻り光は、この開口絞り6を通過す
る。しかも、かかる戻り光によって構成される明暗パタ
ーン中の各位置に投影される光は、試料表面4aの各位
置に1対1で対応したものとなっている。したがって、
CCDカメラ71の検出面71a上に投影される画像の
明暗パターンは試料表面4aの凹凸等の微小な変化を反
映したものとなっており、CCDカメラ71の画像出力
を観察することにより、試料表面4aの状態の微小な変
化の2次元的分布を正確に観測することができる。
More specifically, the light-dark pattern of the image projected on the detection surface 71a of the CCD camera 71 is composed of only the reflected light from the sample surface 4a that has passed through the aperture stop 6. That is, most of the scattered light not reflected in the normal direction on the sample surface 4a is
The return light that is blocked by the aperture stop 6 and reflected in the normal direction of the sample surface 4 a passes through the aperture stop 6. In addition, the light projected on each position in the bright and dark pattern formed by such return light has a one-to-one correspondence with each position on the sample surface 4a. Therefore,
The light-dark pattern of the image projected on the detection surface 71a of the CCD camera 71 reflects minute changes such as unevenness of the sample surface 4a. By observing the image output of the CCD camera 71, the sample surface It is possible to accurately observe the two-dimensional distribution of minute changes in the state of 4a.

【0028】図2には、CCDカメラ71およびカメラ
レンズ72からなる検出装置7と、この検出装置7の位
置および傾きを調節するための微動装置8とが示されて
いる。この微動装置8によって、コリメートレンズ3か
らの迷光に起因する光点を、CCDカメラ71の画像出
力から除去することができる。微動装置8は、検出装置
7をコリメートレンズ3の光軸9に対して所望の傾きに
調節する2軸あおり機構と、検出装置7をコリメートレ
ンズ3の光軸9に垂直な面内で所望の位置に調節する2
軸xy移動機構とを備える。これら2軸あおり機構およ
び2軸xy移動機構を適当に操作すれば、CCDカメラ
71やカメラレンズ72さらに開口絞り6を、コリメー
トレンズ3の光軸9に対して適宜傾けたり、それに垂直
な方向に移動させることとなる。CCDカメラ71やカ
メラレンズ72の移動量等が適切であれば、光源装置2
からの照射光が試料表面4aに入射する前にコリメート
レンズ3を構成する各レンズの表面で反射されることに
よって生じた迷光が、CCDカメラ71の検出面71a
に到達することを有効に防止できる。すなわち、コリメ
ートレンズ3で生じる迷光はコリメートレンズ3の光軸
9に沿って進むものであることから、かかる迷光は、2
軸あおり機構などの操作によってCCDカメラ71の検
出面71a外に到達し、或いは光軸から外れた位置にあ
る開口絞り6、カメラレンズ72等によって遮断され
る。この結果、コリメートレンズ3からの迷光に起因す
る光点が検出面71aに投影されて観測の妨げとなると
いった事態が防止される。
FIG. 2 shows a detection device 7 including a CCD camera 71 and a camera lens 72, and a fine movement device 8 for adjusting the position and inclination of the detection device 7. By this fine movement device 8, the light spot caused by the stray light from the collimator lens 3 can be removed from the image output of the CCD camera 71. The fine movement device 8 has a two-axis tilt mechanism that adjusts the detection device 7 to a desired tilt with respect to the optical axis 9 of the collimator lens 3, and a desired position of the detection device 7 in a plane perpendicular to the optical axis 9 of the collimator lens 3. Adjust to position 2
And an axis xy moving mechanism. By appropriately operating the two-axis tilt mechanism and the two-axis xy moving mechanism, the CCD camera 71, the camera lens 72, and the aperture stop 6 are appropriately tilted with respect to the optical axis 9 of the collimator lens 3, or in a direction perpendicular to the optical axis 9. It will be moved. If the movement amounts of the CCD camera 71 and the camera lens 72 are appropriate, the light source device 2
The stray light generated by the reflected light from the surfaces of the lenses forming the collimator lens 3 before being incident on the sample surface 4a is detected by the detection surface 71a of the CCD camera 71.
Can be effectively prevented from reaching. That is, since the stray light generated by the collimator lens 3 travels along the optical axis 9 of the collimator lens 3, the stray light is 2
By operation of a shaft tilt mechanism or the like, it reaches the outside of the detection surface 71a of the CCD camera 71, or is blocked by the aperture stop 6, the camera lens 72, etc. located at a position off the optical axis. As a result, it is possible to prevent a situation in which a light spot due to stray light from the collimator lens 3 is projected on the detection surface 71a and hinders observation.

【0029】微動装置8を用いた調整によって検出面7
1aに光点が投影されることを防止する光点除去の具体
的な方法について説明する。
The detection surface 7 is adjusted by using the fine movement device 8.
A specific method of removing the light spot for preventing the light spot from being projected on the surface 1a will be described.

【0030】図3(a)は、微動装置8を用いた調整前
における、CCDカメラ71の画像出力を示した図であ
る。半導体ウェーハ100のオリエンテーションフラッ
トの近傍には、指標であるID番号101が刻印されて
いる。検査装置の光軸が正確であれば、画面中央に光点
102が現れてしまう。このため、ID番号101の識
別が困難或いは不可能となる。
FIG. 3A is a diagram showing an image output of the CCD camera 71 before adjustment using the fine movement device 8. An ID number 101, which is an index, is imprinted near the orientation flat of the semiconductor wafer 100. If the optical axis of the inspection device is accurate, the light spot 102 appears at the center of the screen. Therefore, it becomes difficult or impossible to identify the ID number 101.

【0031】図3(b)は、微動装置8を用いた調整後
における、CCDカメラ71の画像出力を示した図であ
る。微動装置8の2軸あおり機構によって検出装置7を
所望の角度まで傾けることにより、検出装置7の光軸
を、照射光用の照明光学系の光軸であるコリメートレン
ズ3の光軸から意図的にずらす。この結果、画面中央に
現れていた光点102を画面外に除去することができ、
ID番号101の識別が容易となる。なお、2軸のあお
りを可能にしたことで、光点102を図示のように上方
向に移動させるのみならず、左右方向にも移動させるこ
とができる。
FIG. 3B is a diagram showing the image output of the CCD camera 71 after the adjustment using the fine movement device 8. By tilting the detection device 7 to a desired angle by the two-axis tilting mechanism of the fine movement device 8, the optical axis of the detection device 7 is intentionally set from the optical axis of the collimator lens 3 which is the optical axis of the illumination optical system for irradiation light. Shift. As a result, the light spot 102 appearing in the center of the screen can be removed to the outside of the screen,
It becomes easy to identify the ID number 101. By enabling the biaxial tilt, the light spot 102 can be moved not only in the upward direction as shown, but also in the horizontal direction.

【0032】ところが、図3(b)に示すように、2軸
あおり機構のみでは、カメラレンズ72等の光軸が傾く
ため、画面下部にケラレを生じる場合がある。このケラ
レを防止するため2軸xy移動機構を調整する。検出装
置7をコリメートレンズ3の光軸に垂直な面内で移動さ
せると、ケラレの問題を解消できる。しかし、光点が再
び画面上に入ってくるので、2軸あおり機構を再度調節
する。さらに必要であれば、チルトステージ41を調整
して、試料画像の明度、コントラスト等を所望のものと
する。
However, as shown in FIG. 3B, the optical axis of the camera lens 72 or the like is tilted only by the biaxial tilting mechanism, and vignetting may occur at the bottom of the screen. The biaxial xy moving mechanism is adjusted to prevent this vignetting. The problem of vignetting can be solved by moving the detection device 7 in a plane perpendicular to the optical axis of the collimator lens 3. However, since the light spot comes into the screen again, the biaxial tilt mechanism is readjusted. Further, if necessary, the tilt stage 41 is adjusted to obtain the desired brightness, contrast, etc. of the sample image.

【0033】以上、本発明を第1実施例に即して説明し
たが、本発明は、かかる第1実施例に限定されるもので
はなく、その要旨を変更しない範囲で種々の変形が可能
であることはいうまでもない。
Although the present invention has been described with reference to the first embodiment, the present invention is not limited to the first embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

【0034】例えば、上記第1実施例の検査装置では、
微動装置8として、2軸あおり機構と2軸xy移動機構
との組み合わせを用いたが、2軸あおり機構を用いない
で、CCDカメラ71とカメラレンズ72のそれぞれに
2軸xy移動機構を備える平行移動光学系としてもよ
い。図4(a)は、このような平行移動型の微動装置に
よる調整前の基本配置を示した概略図である。この基本
配置では、図3(a)に示す光点102と同様の光点が
画面上に現れてしまう。図4(b)は、微動装置を用い
た調整後における配置を示した図である。この配置で
は、コリメートレンズ3からの迷光が検出装置に入射せ
ず、光点が画面中央に現れない。なお、図面右上方向に
厚くなっているウェッジタイプのハーフミラー5の裏面
反射に起因するゴースト光を効果的に排除するため、C
CDカメラ71とカメラレンズ72の移動方向は、図示
のように図面左側方向としている。
For example, in the inspection device of the first embodiment,
As the fine movement device 8, a combination of a two-axis tilt mechanism and a two-axis xy movement mechanism was used, but the two-axis xy movement mechanism is provided in parallel to each of the CCD camera 71 and the camera lens 72 without using the two-axis tilt mechanism. It may be a moving optical system. FIG. 4A is a schematic view showing a basic arrangement before adjustment by such a parallel movement type fine movement device. In this basic arrangement, a light spot similar to the light spot 102 shown in FIG. 3A appears on the screen. FIG. 4B is a diagram showing the arrangement after adjustment using the fine movement device. In this arrangement, stray light from the collimator lens 3 does not enter the detection device, and the light spot does not appear in the center of the screen. In order to effectively eliminate the ghost light due to the back surface reflection of the wedge type half mirror 5 which is thickened in the upper right direction of the drawing, C
The moving directions of the CD camera 71 and the camera lens 72 are leftward in the drawing as illustrated.

【0035】図4(b)に示すような平行移動光学系と
した場合、画角範囲の広い検出装置7を用いなければケ
ラレが生じてしまうという問題がある。この問題は、例
えばCCDカメラ71として、1/2インチのCCDを
より大きな2/3インチ画角のカメラに装着したものを
用いることにより解決する。或いは、カメラレンズ72
としてCCD用でなく35mmカメラ用を用いることに
より解決する。
When the parallel moving optical system as shown in FIG. 4B is used, there is a problem that vignetting occurs unless the detecting device 7 having a wide field angle range is used. This problem is solved, for example, by using a 1/2 inch CCD mounted on a camera having a larger 2/3 inch angle of view as the CCD camera 71. Alternatively, the camera lens 72
The problem is solved by using a 35 mm camera instead of a CCD.

【0036】さらに、微動装置8として、検出装置7用
の2軸あおり機構のみを備えるものを使用し、そのあお
りの回転中心をコリメートレンズ3の光軸上の適当な位
置に予め設定しておくことで、ケラレを防止しつつ光点
を画面外に除去することができる。
Further, as the fine movement device 8, the one having only the two-axis tilt mechanism for the detection device 7 is used, and the rotation center of the tilt is set in advance at an appropriate position on the optical axis of the collimator lens 3. Thus, it is possible to remove the light spot outside the screen while preventing vignetting.

【0037】さらに、開口絞り6のみの2軸xy移動機
構、或いはCCDカメラ71のみの2軸xy移動機構を
備えるものであってもよい。すなわち、必要な試料像に
対して光点を相対的に移動させ得る各種機構の使用が可
能である。
Further, a biaxial xy moving mechanism having only the aperture stop 6 or a biaxial xy moving mechanism having only the CCD camera 71 may be provided. That is, it is possible to use various mechanisms capable of moving the light spot relative to the required sample image.

【0038】さらに、上記第1実施例の検査装置では、
検出装置7の位置および傾きを調節するための微動装置
8を設けているが、この代わりに、光源装置2の位置を
調節するための微動装置を設けてもよい。光源装置2用
の微動機構を適当に調節することで、点光源をコリメー
トレンズ3の光軸から外した状態とすることができる。
この結果、コリメートレンズ3で生じた迷光がこのコリ
メートレンズ3の光軸上に配置された検出装置7に入射
してその検出面71a上に光点を形成するといった事態
を回避でき、このような光点によって観測が妨げられる
といった問題が生じない。
Further, in the inspection device of the first embodiment,
Although the fine movement device 8 for adjusting the position and inclination of the detection device 7 is provided, a fine movement device for adjusting the position of the light source device 2 may be provided instead. By appropriately adjusting the fine movement mechanism for the light source device 2, the point light source can be placed in a state of being off the optical axis of the collimator lens 3.
As a result, it is possible to avoid a situation in which stray light generated by the collimator lens 3 enters the detection device 7 arranged on the optical axis of the collimator lens 3 and forms a light spot on the detection surface 71a. There is no problem that observation is obstructed by the light spot.

【0039】その他の部分についても様々な変更が可能
である。例えば、光源装置2と検出装置7との位置関係
は置き換えることができる。すなわち、光源装置2から
の照射光を、ハーフミラー5を透過させた後コリメート
レンズ3に導き、試料表面4aからの反射光を、コリメ
ートレンズ3によって集束し、ハーフミラー5で偏向し
た後、微動装置8を備える検出装置7に導く構成として
もよい。
Various changes can be made to other parts. For example, the positional relationship between the light source device 2 and the detection device 7 can be replaced. That is, the irradiation light from the light source device 2 is guided to the collimator lens 3 after passing through the half mirror 5, and the reflected light from the sample surface 4a is focused by the collimator lens 3 and deflected by the half mirror 5, and then finely moved. It may be configured to lead to the detection device 7 including the device 8.

【0040】さらに、上記第1実施例の検査装置では、
光源装置2の発光源としてハロゲンランプ21を用いる
場合について説明したが、発光源としてキセノンランプ
などを用いることもできる。発光源として何を用いるか
は、検査対象物(試料4)の性質によって決定される。
例えば、半導体ウェーハなどのように反射率の比較的高
いものを検査する場合には、ハロゲンランプまたはキセ
ノンランプのいずれを用いることとしても良いが、ガラ
ス基板のように反射率の比較的低いものを検査する場合
には、輝度の大きいキセノンランプを用いることが好ま
しい。したがって、検査対象物の性質によって発光源を
適宜変更できるような構成にしておいてもよい。
Further, in the inspection device of the first embodiment,
Although the case where the halogen lamp 21 is used as the light emitting source of the light source device 2 has been described, a xenon lamp or the like can be used as the light emitting source. What is used as the light emission source is determined by the property of the inspection object (sample 4).
For example, in the case of inspecting a semiconductor wafer having a relatively high reflectance, either a halogen lamp or a xenon lamp may be used, but a glass substrate having a relatively low reflectance may be used. When inspecting, it is preferable to use a xenon lamp with high brightness. Therefore, the light emitting source may be appropriately changed depending on the property of the inspection object.

【0041】さらに、上記第1実施例の検査装置では、
光源装置2を、楕円リフレクタ22でピンホール24に
集光するものとしたが、楕円リフレクタ22の代わりに
パラボラリフレクタを用いてもよい。この場合には、パ
ラボラリフレクタを出た光はその光軸に平行に進むの
で、コリメートレンズを別途設け、このコリメートレン
ズによりピンホールの所に集束させるようにすればよ
い。また、楕円リフレクタ22のかわりにコンデンサレ
ンズを用い、このコンデンサレンズをハロゲンランプ2
1とピンホール24との間に配設することもできる。
Further, in the inspection device of the first embodiment,
Although the light source device 2 focuses light on the pinhole 24 by the elliptical reflector 22, a parabolic reflector may be used instead of the elliptic reflector 22. In this case, since the light emitted from the parabolic reflector travels in parallel to the optical axis, a collimator lens may be separately provided and focused by the collimator lens at the pinhole. A condenser lens is used instead of the elliptical reflector 22, and the condenser lens is used for the halogen lamp 2
It can also be arranged between 1 and the pinhole 24.

【0042】さらに、入出射端にロッドレンズを備える
ライトガイドファイバを用いて光源装置2を構成するこ
ともできる。この場合、楕円リフレクタ22の一方の焦
点にハロゲンランプ21が設置され、楕円リフレクタ2
2の他方の焦点に入射側ロッドレンズの端面が配置され
る。ハロゲンランプ21からの出射光は、楕円リフレク
タ22で集束されて入射側ロッドレンズに入射した後、
ライトガイドファイバに結合されてこれを伝送してその
他端の出射側ロッドレンズに結合される。出射側ロッド
レンズからの出射光は、ピンホール24に集光される。
Further, the light source device 2 can be constructed by using a light guide fiber having a rod lens at the entrance and exit ends. In this case, the halogen lamp 21 is installed at one focus of the elliptical reflector 22 and
The end surface of the incident side rod lens is arranged at the other focal point of 2. The light emitted from the halogen lamp 21 is focused by the elliptical reflector 22 and is incident on the incident side rod lens.
It is coupled to the light guide fiber and transmitted to be coupled to the output side rod lens at the other end. The outgoing light from the outgoing rod lens is focused on the pinhole 24.

【0043】この場合、ロッドレンズを用いないで、ラ
イトガイドファイバのコアと同じ硝材を円形断面のロッ
ド状に固めた光導波ロッド棒を用いることもできる。こ
の光導波ロッド棒をライトガイドファイバの入出射端に
配置することにより、ハロゲンランプ21からの出射光
をライトガイドファイバに結合することができるととも
に、ライトガイドファイバを伝送した後にピンホール2
4を通過した照射光を十分大きな広がり角で発散させる
ことができる。
In this case, it is also possible to use an optical waveguide rod rod in which the same glass material as the core of the light guide fiber is solidified into a rod shape having a circular cross section, without using the rod lens. By arranging this optical waveguide rod rod at the entrance and exit ends of the light guide fiber, the light emitted from the halogen lamp 21 can be coupled to the light guide fiber, and the pinhole 2 after being transmitted through the light guide fiber.
The irradiation light that has passed through 4 can be diverged with a sufficiently large divergence angle.

【0044】さらに、ロッドレンズを円錐ミラーに置き
換えた構成も可能である。この場合、ライトガイドファ
イバからの出射光は、円錐ミラーによってピンホール2
4に集光される。
Further, a configuration in which the rod lens is replaced with a conical mirror is also possible. In this case, the light emitted from the light guide fiber is reflected by the conical mirror in the pinhole 2
It is focused on 4.

【0045】さらに、ロッドレンズを用いないで、ライ
トガイドファイバの出射側からコリメートレンズ3に直
接照射するタイプのものも使用可能である。
Further, it is possible to use a type in which the collimator lens 3 is directly irradiated from the exit side of the light guide fiber without using the rod lens.

【0046】さらに、上記第1実施例の検査装置では、
点光源形成のためにピンホール24を用いたが、これを
スリットとすることもできる。この場合、光源からの照
射光の出射角度を広くとることができる。
Further, in the inspection device of the first embodiment,
Although the pinhole 24 is used for forming the point light source, it may be a slit. In this case, the emission angle of the irradiation light from the light source can be widened.

【0047】さらに、上記第1実施例の検査装置では、
波長選択フィルタ25として干渉フィルタを用いる場合
について説明したが、例えば色ガラスフィルタを用いる
こともできる。また、波長選択フィルタ25は不可欠の
要素でなく、その設置場所も任意である。
Further, in the inspection device of the first embodiment,
Although the case where the interference filter is used as the wavelength selection filter 25 has been described, for example, a colored glass filter can also be used. Further, the wavelength selection filter 25 is not an indispensable element, and its installation place is also arbitrary.

【0048】さらに、上記第1実施例の検査装置では、
波長選択フィルタ25のみを用いる場合について説明し
たが、波長選択フィルタ25とともに、或いは波長選択
フィルタ25の代わりに、NDフィルタを設置してもよ
い。NDフィルタは入射光の分光特性を変化させずに減
光する目的で使用されるものである。この場合の減光
は、例えば試料表面4aのうねりなどの検出において必
要となる。うねりなどなだらかな表面の形状変化の場合
には、光の正反射成分が極めて多くなることから試料表
面4aの輝度が高過ぎて、減光しないと反射像全体が明
るくなり過ぎ観測し難くなるからである。なおこの場
合、ハロゲンランプ21を輝度の小さいものに代えても
よいが、NDフィルタを用いる方が作業が簡単である。
Furthermore, in the inspection apparatus of the first embodiment,
Although the case where only the wavelength selection filter 25 is used has been described, an ND filter may be installed together with the wavelength selection filter 25 or in place of the wavelength selection filter 25. The ND filter is used for the purpose of dimming the incident light without changing the spectral characteristics. The dimming in this case is necessary for detecting, for example, the undulation of the sample surface 4a. In the case of a gradual surface change such as undulation, the specular component of light is extremely large, so the brightness of the sample surface 4a is too high, and unless dimmed, the entire reflected image becomes too bright and difficult to observe. Is. In this case, the halogen lamp 21 may be replaced with one having a low brightness, but the work is easier by using the ND filter.

【0049】さらに、上記第1実施例の検査装置では、
光源装置2からの照射光の出力を一定に保つ特別の装置
を設けていなかったが、光源装置2からの照射光のうち
ウェッジタイプのハーフミラー5で反射されないでこれ
を透過してしまうものをフォトダイオードなどで検出
し、このフォトダイオードの検出出力に基づいてハロゲ
ンランプ21の電源電圧等を制御することで、光源装置
2からの照射光の出力の安定化を図ることができる。
Furthermore, in the inspection device of the first embodiment,
Although a special device for keeping the output of the irradiation light from the light source device 2 constant was not provided, a part of the irradiation light from the light source device 2 that is not reflected by the wedge type half mirror 5 and passes through this By detecting with a photodiode or the like and controlling the power supply voltage of the halogen lamp 21 based on the detection output of this photodiode, the output of the irradiation light from the light source device 2 can be stabilized.

【0050】さらに、上記第1実施例の検査装置では、
コリメートレンズ3としてアポクロマートレンズを用い
る場合について説明したが、コリメートレンズ3として
アクロマートレンズを用いることもできる。もっとも、
狭帯域の単色光を用いて検査する場合、色消しは必ずし
も要しない。ただし、コリメートレンズ3は、光のロス
を可及的に防止するため諸収差の小さいものを使用する
ことが好ましい。
Further, in the inspection device of the first embodiment,
Although the case where the apochromat lens is used as the collimator lens 3 has been described, the achromat lens may be used as the collimator lens 3. However,
When inspecting using narrow band monochromatic light, achromaticity is not always necessary. However, it is preferable to use the collimator lens 3 having small aberrations in order to prevent light loss as much as possible.

【0051】さらに、検査装置の用途に応じて各種口径
及び焦点距離のコリメートレンズ3を用いることができ
る。ただし、半導体ウェーハなどの表面に形成された指
標等を検出する用途では、一般にF4〜F15の範囲で
用いることが好ましい。
Further, the collimator lens 3 having various apertures and focal lengths can be used depending on the use of the inspection device. However, for the purpose of detecting an index or the like formed on the surface of a semiconductor wafer or the like, it is generally preferable to use it in the range of F4 to F15.

【0052】さらに、上記第1実施例の検査装置では、
平板状の試料4を検査する場合を説明したが、円柱など
の表面検査の場合にはシリンドリカルレンズを用いて、
また、球体などの表面検査の場合には平凸レンズを用い
て、試料表面に法線方向から光を照射するようにすれば
よい。また、場合によっては、平板状の試料4のときで
もシリンドリカルレンズを用い、ある方向の凹凸状態を
強調させて観測するようにすることも可能である。
Further, in the inspection device of the first embodiment,
The case of inspecting the flat plate-shaped sample 4 has been described, but in the case of surface inspection of a cylinder or the like, a cylindrical lens is used,
Further, in the case of inspecting the surface of a sphere or the like, a plano-convex lens may be used to irradiate the sample surface with light in the normal direction. Further, in some cases, even in the case of the flat plate-shaped sample 4, it is possible to use a cylindrical lens to emphasize the unevenness in a certain direction for observation.

【0053】さらに、上記第1実施例の検査装置では、
ウェッジタイプのハーフミラー5として平板ビームスプ
リッタを用いる場合を説明したが、平板状或いは薄膜状
の各種ハーフミラーを用いることができる。例えば、ハ
ーフミラー5として、ペリクルミラーを用いることもで
きる。さらに、キューブタイプのビームスプリッタを用
いることもできる。
Further, in the inspection device of the first embodiment,
The case where a flat plate beam splitter is used as the wedge type half mirror 5 has been described, but various flat plate or thin film half mirrors can be used. For example, a pellicle mirror may be used as the half mirror 5. Further, a cube type beam splitter can be used.

【0054】さらに、上記第1実施例の検査装置では、
CCDカメラ71で観測するようにしたが、スクリーン
やスチルカメラで観測するような光学系としてもよい。
さらに、CCDカメラ71のかわりにフォトマルなどの
光電管を用いてもよい。
Further, in the inspection device of the first embodiment,
Although the CCD camera 71 is used for observation, an optical system for observation with a screen or a still camera may be used.
Furthermore, instead of the CCD camera 71, a photoelectric tube such as Photomal may be used.

【0055】さらに、CCDカメラ71から入力したビ
デオ信号に含まれる映像信号(原映像信号)を微分し、
得られた微分信号と原映像信号とを加算して新たな映像
信号とするなどの微分処理によって、微弱なコントラス
ト差を強調して映像表示することができる。さらに、加
算された新たな映像信号の輝度を任意に設定可能な輝度
調整回路を設けることもできる。この輝度調整により、
例えば凹凸部等の輪郭部分の内側の状態や輪郭部分自体
を観察する場合、映像を見易い輝度で観察することがで
きることとなる。
Further, the video signal (original video signal) included in the video signal input from the CCD camera 71 is differentiated,
It is possible to display an image by emphasizing the weak contrast difference by a differentiating process such as adding the obtained differential signal and the original video signal to obtain a new video signal. Further, it is possible to provide a brightness adjusting circuit capable of arbitrarily setting the brightness of the added new video signal. By this brightness adjustment,
For example, when observing the inner state of the contour portion such as the uneven portion or the contour portion itself, the image can be observed with a brightness that is easy to see.

【0056】さらに、上記第1実施例の検査装置では、
開口絞り6としてズームレンズ72に内蔵されたアイリ
ス絞りを用いたが、固定的な円形開口部からなる開口絞
りを設け、この開口絞りを後像空間焦平面に対応する位
置の近傍で光軸方向に前後に移動させるようにして使用
するようにしてもよい。
Further, in the inspection device of the first embodiment,
Although the iris diaphragm built in the zoom lens 72 is used as the aperture diaphragm 6, an aperture diaphragm having a fixed circular aperture is provided, and the aperture diaphragm is provided near the position corresponding to the rear image space focal plane in the optical axis direction. It may be used by moving it back and forth.

【0057】さらに、上記第1実施例の検査装置では、
ズームタイプのカメラレンズ72を使用する場合につい
て説明したが、このかわりに固定焦点レンズを用いるこ
ともできる。例えば、市販の一眼レフ用カメラレンズの
使用が可能である。
Further, in the inspection device of the first embodiment,
Although the case where the zoom type camera lens 72 is used has been described, a fixed focus lens may be used instead. For example, a commercially available single-lens reflex camera lens can be used.

【0058】図5には第2実施例の検査装置が示されて
いる。この装置について簡単に説明すれば、点光源であ
る光源装置2から出射する照射光は、照明光学系である
楕円ミラー30によって一旦平行にされた後、全反射ミ
ラー32およびハーフミラー50で反射され、試料表面
4aにその法線方向から照射される。この試料表面4a
からの反射光は、照射光とは逆方向に進み、分岐手段で
あるハーフミラー50を透過して照射光側の光路から分
岐された後、観測用の光学素子であるコリメートレンズ
31によって集束され、このコリメートレンズ31の後
像空間焦平面に対応する位置に開口絞り60を内蔵する
カメラレンズ72に入射し、このカメラレンズ72の後
方のCCDカメラ71で検出される。
FIG. 5 shows the inspection apparatus of the second embodiment. To briefly describe this device, the irradiation light emitted from the light source device 2 which is a point light source is once collimated by the elliptical mirror 30 which is an illumination optical system, and then reflected by the total reflection mirror 32 and the half mirror 50. The sample surface 4a is irradiated from the normal direction. This sample surface 4a
The reflected light from travels in the direction opposite to the irradiation light, passes through the half mirror 50 that is a branching unit, is branched from the optical path on the irradiation light side, and then is focused by the collimating lens 31 that is an optical element for observation. The collimator lens 31 is incident on a camera lens 72 having a built-in aperture stop 60 at a position corresponding to the focal plane of the rear image space, and is detected by a CCD camera 71 behind the camera lens 72.

【0059】この装置の動作について簡単に説明する
と、カメラレンズ72内の開口絞り60の存在によっ
て、試料表面4aでその法線方向に反射されなかった散
乱光のほとんどが遮断されるので、CCDカメラ71の
検出面上に、試料表面4aからの正反射光によって鮮明
な投影像が形成されることとなる。この投影像の明暗パ
ターンは、試料表面4aの凹凸等の状態を反映したもの
となっているので、CCDカメラ71の画像出力を観察
することにより、試料表面4aの状態の微小な変化の2
次元的分布を観測することができる。さらに、コリメー
トレンズ31と試料表面4aとの間にハーフミラー50
が設けられた光学系となっており、光源装置2からの強
い照射光が直接コリメートレンズ31に入射することが
ないので、迷光の発生を抑制できる。したがって、光源
からの直接光に起因する迷光が開口絞り60を通過して
CCDカメラ71の検出面上に光点を形成し、このよう
な光点によって観測が妨げられるといった問題が生じな
い。このような構成とすることで、光学系部分の全長、
幅等のサイズが増してしまうが、第1実施例のような微
動装置をなくした簡単な構造とすることができ、光点を
除去するための調整等に要していた操作を省略すること
ができる。
The operation of this apparatus will be briefly described. Since the presence of the aperture stop 60 in the camera lens 72 blocks most of the scattered light which is not reflected in the normal direction of the sample surface 4a, a CCD camera is provided. A clear projection image is formed on the detection surface 71 by the specularly reflected light from the sample surface 4a. The bright and dark pattern of this projected image reflects the state of the unevenness or the like of the sample surface 4a. Therefore, by observing the image output of the CCD camera 71, a slight change in the state of the sample surface 4a can be detected.
The dimensional distribution can be observed. Further, the half mirror 50 is provided between the collimator lens 31 and the sample surface 4a.
Is provided, and strong irradiation light from the light source device 2 does not directly enter the collimator lens 31, so that generation of stray light can be suppressed. Therefore, there is no problem that stray light resulting from direct light from the light source passes through the aperture stop 60 to form a light spot on the detection surface of the CCD camera 71, and such light spot hinders observation. With such a configuration, the entire length of the optical system part,
Although the size such as the width is increased, a simple structure without the fine movement device as in the first embodiment can be provided, and the operation required for adjustment for removing the light spot can be omitted. You can

【0060】続いて、図5の検査装置について詳細に説
明する。なお、図1の第1実施例と共通する部分につい
ては同一符号を付してその説明を省略する。
Next, the inspection device of FIG. 5 will be described in detail. The same parts as those in the first embodiment of FIG. 1 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0061】光源装置2の発光源であるハロゲンランプ
21からの照射光は、楕円リフレクタ22で反射され、
熱線吸収フィルタ23を透過し、ピンホール24に集光
される。ピンホール24を通過した照射光は、インテグ
レータ27で拡散される。
The irradiation light from the halogen lamp 21, which is the light source of the light source device 2, is reflected by the elliptical reflector 22.
The light passes through the heat ray absorbing filter 23 and is focused on the pinhole 24. The irradiation light that has passed through the pinhole 24 is diffused by the integrator 27.

【0062】光源装置2から出射して拡散される照射光
は、楕円ミラー30で反射されて平行光束に変換され、
全反射ミラー32で光路を偏向された後、ハーフミラー
50に入射する。このハーフミラー50で反射されて偏
向された照射光は、平行光束として試料表面4aに入射
する。
The irradiation light emitted from the light source device 2 and diffused is reflected by the elliptical mirror 30 and converted into a parallel light beam.
After the optical path is deflected by the total reflection mirror 32, the light enters the half mirror 50. The irradiation light reflected and deflected by the half mirror 50 enters the sample surface 4a as a parallel light flux.

【0063】試料表面4aで逆方向に反射された反射光
は、ハーフミラー50を透過して入射光の光路から分岐
された後、アポクロマートタイプのコリメートレンズ3
1に入射する。ハーフミラー50は、2平面間に微小角
が設けられたウェッジタイプの平板ビームスプリッタで
ある。したがって、その上側の透過面での反射に起因し
て発生するゴースト光は、反射光の光路、すなわちコリ
メートレンズ31の光軸から外れる。この結果、ゴース
ト光は検出装置7側で検出されなくなる。
The reflected light reflected in the opposite direction on the sample surface 4a passes through the half mirror 50 and is branched from the optical path of the incident light, and then the apochromat type collimating lens 3 is formed.
Incident on 1. The half mirror 50 is a wedge type flat plate beam splitter in which a minute angle is provided between two planes. Therefore, the ghost light generated due to the reflection on the upper transparent surface deviates from the optical path of the reflected light, that is, the optical axis of the collimator lens 31. As a result, the ghost light is no longer detected on the detection device 7 side.

【0064】コリメートレンズ31でビーム径を絞られ
た反射光は、検出装置7に設けられたカメラレンズ72
に入射する。カメラレンズ72内部の集光位置には、開
口絞り60が配置されている。この開口絞り60は、ナ
イフエッジタイプの一対のスリットを直交するように配
置したものである。これにより、開口の大きさの調整が
容易となり、また微小な開口の形成によって解像度を高
めることができる。
The reflected light whose beam diameter is narrowed by the collimator lens 31 is reflected by the camera lens 72 provided in the detection device 7.
Incident on. An aperture stop 60 is arranged at a light collecting position inside the camera lens 72. The aperture stop 60 is formed by arranging a pair of knife-edge type slits so as to be orthogonal to each other. As a result, the size of the opening can be easily adjusted, and the resolution can be improved by forming a minute opening.

【0065】カメラレンズ72を出射した光は、CCD
カメラ71の検出面上に投影される。この検出面上に投
影される画像は、試料表面4aの状態に対応する2次元
的な明暗パターンとなっている。この場合、コリメート
レンズ31等に起因する光点は生じない。
The light emitted from the camera lens 72 is CCD
It is projected on the detection surface of the camera 71. The image projected on this detection surface has a two-dimensional bright-dark pattern corresponding to the state of the sample surface 4a. In this case, a light spot due to the collimator lens 31 or the like does not occur.

【0066】詳細に説明すると、コリメートレンズ31
と試料表面4aとの間にハーフミラー50が設けられ、
このハーフミラー50で反射された照射光が直接試料表
面4aに入射するので、光源装置2からの強い照射光が
直接コリメートレンズ31に入射することがなく、コリ
メートレンズ31での迷光の発生を抑制できる。すなわ
ち、コリメートレンズ31に入射する光は、試料表面4
aからの比較的微弱な反射光のみであるので、コリメー
トレンズ31で迷光が発生し難く、仮に発生した場合に
もCCDカメラ71の検出面上に光点が形成されず、こ
のような光点によって観測が妨げられるといった問題が
生じない。
More specifically, the collimating lens 31
And a half mirror 50 between the sample surface 4a and
Since the irradiation light reflected by the half mirror 50 directly enters the sample surface 4a, the strong irradiation light from the light source device 2 does not directly enter the collimator lens 31, and the generation of stray light in the collimator lens 31 is suppressed. it can. That is, the light incident on the collimator lens 31 is reflected by the sample surface 4
Since only the relatively weak reflected light from a is generated, stray light is unlikely to be generated by the collimator lens 31, and even if stray light is generated, a light spot is not formed on the detection surface of the CCD camera 71, and such a light spot is generated. The problem that observation is obstructed does not occur.

【0067】以上、本発明を第2実施例に即して説明し
たが、本発明は、かかる第2実施例に限定されるもので
はなく、その要旨を変更しない範囲で種々の変形が可能
であることはいうまでもない。
Although the present invention has been described with reference to the second embodiment, the present invention is not limited to the second embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

【0068】例えば、上記第2実施例の検査装置では、
楕円ミラー30を用いて光源装置2からの照射光を平行
光束に変換したが、別のコリメートレンズを用いて光源
装置2からの照射光を平行光束に変換してもよい。図6
にその構成例を示す。光源装置のハロゲンランプ21か
らの照射光は、ピンホール(図示せず)を経て拡散しつ
つ全反射ミラー32で反射された後、遮光壁34下側の
照明用のコリメートレンズ33によって平行にされる。
この照射光は、ハーフミラー50で反射された後、試料
表面4aにその法線方向から照射される。この試料表面
4aからの反射光は、照射光とは逆方向に進み、ハーフ
ミラー50を透過して照射光側の光路から分岐された
後、観察用のコリメートレンズ31によって集束され
る。この反射光は、コリメートレンズ31の後像空間焦
平面に対応する位置に開口絞りを内蔵するカメラレンズ
72に入射し、この後方のCCDカメラ71の検出面上
への投影像として検出される。
For example, in the inspection device of the second embodiment,
Although the irradiation light from the light source device 2 is converted into the parallel light flux using the elliptical mirror 30, the irradiation light from the light source device 2 may be converted into the parallel light flux using another collimator lens. Figure 6
Shows the configuration example. Light emitted from the halogen lamp 21 of the light source device is reflected by the total reflection mirror 32 while being diffused through a pinhole (not shown), and then collimated by the collimating lens 33 for illumination below the light shielding wall 34. It
The irradiation light is reflected by the half mirror 50, and then is irradiated onto the sample surface 4a from the normal direction thereof. The reflected light from the sample surface 4a travels in the direction opposite to the irradiation light, passes through the half mirror 50, is branched from the optical path on the irradiation light side, and is then focused by the collimating lens 31 for observation. This reflected light enters a camera lens 72 having an aperture stop at a position corresponding to the focal plane of the rear image space of the collimator lens 31, and is detected as a projected image on the detection surface of the CCD camera 71 behind this.

【0069】さらに、楕円ミラー30や照明用のコリメ
ートレンズ33のかわりに、放物ミラーや球面ミラーを
用いることができる。放物ミラーの焦点に光源装置2の
ピンホール24を配置すれば、完全な平行光束の照射光
を得ることができる。
Further, instead of the elliptical mirror 30 and the collimating lens 33 for illumination, a parabolic mirror or a spherical mirror can be used. By arranging the pinhole 24 of the light source device 2 at the focal point of the parabolic mirror, it is possible to obtain irradiation light of a perfect parallel light flux.

【0070】[0070]

【発明の効果】本発明によれば、光学素子の後像空間焦
平面に対応する位置またはその近傍に配設された開口絞
りの存在により、試料表面の2次元的状態を一時に鮮明
に観測できる。ここで、検出手段若しくは光源を移動さ
せる移動手段が設けられ、或いは試料表面からの反射光
をこの反射光が照明光学系に再入射する前に照射光の光
路から分岐する分岐手段が設けられているので、照射光
の直接入射によって光学素子で生じる迷光が開口絞りを
通過して検出手段に設けられた検出面に導かれて観測の
妨げとなるといった事態が防止される。
According to the present invention, a two-dimensional state of a sample surface can be clearly observed at a time by the presence of an aperture stop arranged at a position corresponding to the focal plane of the rear image space of an optical element or in the vicinity thereof. it can. Here, a detecting means or a moving means for moving the light source is provided, or a branching means is provided for branching the reflected light from the sample surface from the optical path of the irradiation light before the reflected light re-enters the illumination optical system. Therefore, it is possible to prevent a situation in which the stray light generated in the optical element due to the direct incidence of the irradiation light passes through the aperture stop and is guided to the detection surface provided in the detection means to hinder the observation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1実施例の検査装置の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an inspection device according to a first embodiment.

【図2】第1実施例の検査装置の部分拡大図である。FIG. 2 is a partially enlarged view of the inspection device according to the first embodiment.

【図3】光点除去の具体的方法を示した図である。FIG. 3 is a diagram showing a specific method of removing a light spot.

【図4】第1実施例の検査装置の変形例を示した概略構
成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a modified example of the inspection apparatus of the first embodiment.

【図5】第2実施例の検査装置の構成図である。FIG. 5 is a configuration diagram of an inspection device according to a second embodiment.

【図6】第2実施例の検査装置の変形例を示した概略構
成図である。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing a modified example of the inspection apparatus of the second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 光源 3 光学素子 30、32、33 照明光学系 31 観測光学系 4a 試料表面 5、50 分岐手段 6、60 開口絞り 6、7、60 検出手段 8 移動手段 2 light sources 3 optical elements 30, 32, 33 Illumination optical system 31 Observation optical system 4a sample surface 5,50 Branching means 6,60 aperture stop 6, 7, 60 Detection means 8 means of transportation

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 光源からの照射光を試料表面に導くとと
もに、試料表面から戻って来た反射光を集束する光学素
子と、試料表面からの前記反射光を、当該反射光が前記
光学素子を通過した後に前記照射光の光路から分岐する
分岐手段と、前記光学素子の後像空間焦平面に対応する
位置またはその近傍に配設される開口絞りを有し、当該
開口絞りを通過した前記反射光の像を検出する検出手段
と、前記検出手段を前記反射光の光路に垂直な方向に移
動させる移動手段とを備えることを特徴とする検査装
置。
1. An optical element that guides the irradiation light from a light source to the sample surface and focuses the reflected light returning from the sample surface; and the reflected light from the sample surface, which reflects the optical element. The reflection means having branching means for branching from the optical path of the irradiation light after passing and an aperture stop arranged at a position corresponding to the rear image space focal plane of the optical element or in the vicinity thereof, and having passed through the aperture stop. An inspection apparatus comprising: a detection unit that detects a light image; and a moving unit that moves the detection unit in a direction perpendicular to the optical path of the reflected light.
【請求項2】 光源からの照射光を試料表面に導くとと
もに、試料表面から戻って来た反射光を集束する光学素
子と、試料表面からの前記反射光を、当該反射光が前記
光学素子を通過した後に前記照射光の光路から分岐する
分岐手段と、前記光学素子の後像空間焦平面に対応する
位置またはその近傍に配設される開口絞りを有し、当該
開口絞りを通過した前記反射光の像を検出する検出手段
と、前記光源を前記照射光の光路に垂直な方向に移動さ
せる移動手段とを備えることを特徴とする検査装置。
2. An optical element which guides the irradiation light from a light source to the sample surface and focuses the reflected light returning from the sample surface; and the reflected light from the sample surface, which reflected light causes the optical element to The reflection means having branching means for branching from the optical path of the irradiation light after passing and an aperture stop arranged at a position corresponding to the rear image space focal plane of the optical element or in the vicinity thereof, and having passed through the aperture stop. An inspection apparatus comprising: a detection unit that detects an image of light; and a moving unit that moves the light source in a direction perpendicular to the optical path of the irradiation light.
【請求項3】 光源からの照射光を平行光にして試料表
面に照射するための照明光学系と、試料表面から戻って
きた反射光を前記照射光の光路から分岐するハーフミラ
ーと、前記ハーフミラーで分岐された前記反射光を集束
する光学素子を含む観測光学系と、前記光学素子の後像
空間焦平面に対応する位置またはその近傍に配設された
開口絞りとを備え、前記平行光を前記ハーフミラーを介
して試料表面に照射するとともに、試料表面から戻って
きた反射光を前記ハーフミラーで前記照射光の光路から
分岐し前記光学素子に導くように構成されていることを
特徴とする検査装置。
3. An illumination optical system for collimating irradiation light from a light source to irradiate the sample surface, a half mirror for branching reflected light returning from the sample surface from an optical path of the irradiation light, and the half. An observation optical system including an optical element that converges the reflected light branched by a mirror, and an aperture stop disposed at a position corresponding to a rear image space focal plane of the optical element or in the vicinity thereof, the parallel light While irradiating the sample surface through the half mirror, the reflected light returning from the sample surface is branched from the optical path of the irradiation light by the half mirror and is guided to the optical element. Inspection device.
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