SU1597527A1 - Interferometer for checking wedged shape of optical plates - Google Patents
Interferometer for checking wedged shape of optical plates Download PDFInfo
- Publication number
- SU1597527A1 SU1597527A1 SU884406073A SU4406073A SU1597527A1 SU 1597527 A1 SU1597527 A1 SU 1597527A1 SU 884406073 A SU884406073 A SU 884406073A SU 4406073 A SU4406073 A SU 4406073A SU 1597527 A1 SU1597527 A1 SU 1597527A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- lens
- reflectors
- beam splitter
- interferometer
- optical axis
- Prior art date
Links
Landscapes
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
Изобретение относитс к измерительной технике и может быть использовано дл контрол клиновидности оптических пластин. Целью изобретени вл етс повышение точности контрол за счет увеличени измерительной базы интерферометра. Пучки лучей источника 1 излучени проход т через конденсор 2, светоделитель 3 и объектив 4 и параллельным пучком падают на грани контролируемой пластины 13, после отражени от них проход т через объектив 4, отражаютс от светоделител 3 и, последовательно отразившись от зеркал 6 и 7 рефлектора, падают на отражатели 8 и 9 в виде плоского волнового фронта. После отражени от отражателей 8 и 9 пучки лучей собираютс в фокусе рефлектора, образу интерференционную картину в виде полос равной ширины, при этом рассто ние между полосами пр мопропорционально длине волны источника 1 излучени и обратно пропорционально рассто нию между отражател ми 8 и 9. Микроскоп в виде объектива 11 и окул ра 12 позвол ет получить в поле зрени интерферометра увеличенное изображение интерференционной картины. Перемещением отражателей 8 и 9 добиваютс такого их взаимного положени , при котором исчезает интерференционна картина в поле зрени интерферометра, при этом измер ют с помощью измерител 10 рассто ние между отражател ми 8 и 9 и рассчитывают клиновидность в измер емой плоскости. После этого поворачивают столик 5 на 90° и повтор ют измерени рассто ни B2 между отражател ми 8 и 9, при котором размываетс интерференционна картина, и вычисл ют угол Θ2 клиновидности контролируемой пластины 13 в ортогональной плоскости. После этого вычисл ют общий угол клиновидности контролируемой пластины 13. 1 ил.The invention relates to a measurement technique and can be used to control the wedge shape of optical plates. The aim of the invention is to improve the accuracy of control by increasing the measuring base of the interferometer. The beams of the rays of the radiation source 1 pass through the condenser 2, the beam splitter 3 and the lens 4 and a parallel beam fall on the faces of the monitored plate 13, after reflecting from them pass through the lens 4, are reflected from the beam splitter 3 and reflecting successively on the reflector mirrors 6 and 7 , fall on the reflectors 8 and 9 in the form of a flat wave front. After reflection from the reflectors 8 and 9, the beam of rays is collected at the focus of the reflector, forming an interference pattern in the form of strips of equal width, with the distance between the strips proportional to the wavelength of the radiation source 1 and inversely proportional to the distance between the reflectors 8 and 9. Microscope The view of the lens 11 and the ocular 12 provides an enlarged image of the interference pattern in the field of view of the interferometer. By moving the reflectors 8 and 9, their mutual position is achieved, at which the interference pattern disappears in the field of view of the interferometer, and the distance between the reflectors 8 and 9 is measured with a meter 10 and the wedge shape in the measured plane is calculated. Thereafter, the table 5 is rotated by 90 ° and the measurements of the distance B 2 between the reflectors 8 and 9 are repeated, at which the interference pattern is blurred, and the angle Θ 2 of the wedge shape of the controlled plate 13 in the orthogonal plane is calculated. After that, the total wedge angle of the controlled plate 13 is calculated. 1 Il.
Description
клиновидность в измер емой плоскости. После этого поворачивают столик 5 на 90 и повтор ют измерени рассто ни bj между отражател ми 8 и 9, при котором размываетс интерференционна картина, и вычисл ют угол в,, кли- новидности контролируемой пластины 13 в ортогональной плоскости. После этого вьп1исл ют общий угол клиновиднос- ти контролируемой пластины 13. 1 ил.wedge shape in the measured plane. After that, table 5 is rotated by 90 and measurements of the distance bj between the reflectors 8 and 9 are repeated, at which the interference pattern is blurred, and the angle in the wedge shape of the controlled plate 13 in the orthogonal plane is calculated. After that, the total wedge angle of the controlled plate 13 is estimated. 1 Il.
Изобретение относитс к измерительной , технике и может быть использовано дл контрол клиновидности оптических пластин.The invention relates to measuring, engineering and can be used to control the wedge shape of optical plates.
Целью изобретени вл етс повы- тнение точности контрол за счет увеличени измерительной базы интерферометра .The aim of the invention is to improve the accuracy of control by increasing the measuring base of the interferometer.
На чертеже представлена функциональна схема интерферометра.The drawing shows the functional diagram of the interferometer.
Интерферометр содержит источник 1 излучени и последовательно установленные по ходу пучка лучей источника 1 излучени конденсор 2,, светоделитель 3, объектив 4, столик 5,. предназначенньй дл размещени контролируемой пластины и установленный С возможностью поворота вокруг двух взаимно-перпендикул рных осей, одна из которых совпадает с оптической осью объектива 4, рефлектор, выполненный в виде двух зеркал 6 и 7, оптически св занный через светоделитель 3 с объективом 4 и установленный так, что его оптическа ось перпендикул рна оптической оси объектива 4 и его передний фокус совмещен с передним фокусом объектива 4, два отражател 8 и 9, оптически св занные с зеркалом 7 и установленные с возможностью одновременного смещени в противоположных направлени х перпендикул рно оптической оси рефлек- тора, измеритель 1C рассто ни , скрепленньй с отражателем 8 и 9, объектив 11, оптически св занный через светоделитель 3 с конденсором 2 и установленный с возможностью смещени вдоль оптической оси рефлектора , с которой совмещена его оптическа ось, окул р 12, оптически св .. занный через объектив 11 и светоделитель 3 с конденсором 2 и установленный соосно с объективом 11 с возможностью смещени вдоль его оптической оси.The interferometer contains a source of radiation 1 and a condenser 2, a beam splitter 3, a lens 4, a table 5, successively installed along the beam of the radiation source 1, radiation 1. Designed for placement of a controlled plate and mounted With the possibility of rotation around two mutually perpendicular axes, one of which coincides with the optical axis of lens 4, a reflector, made in the form of two mirrors 6 and 7, optically coupled through a beam splitter 3 with lens 4 and mounted so that its optical axis is perpendicular to the optical axis of lens 4 and its front focus is aligned with the front focus of lens 4, two reflectors 8 and 9, optically connected to mirror 7 and installed with the possibility of single displacement in opposite directions perpendicular to the optical axis of the reflector, distance meter 1C, attached to the reflector 8 and 9, lens 11 optically connected through the splitter 3 to the condenser 2 and mounted with the possibility of displacement along the optical axis of the reflector, with which its optical axis, an ocular 12, is optically coupled through the lens 11 and the beam splitter 3 to the condenser 2 and mounted coaxially with the lens 11 with the possibility of displacement along its optical axis.
Объектив 11 и окул р 12 образуют оптическую систему микроскопа дл The lens 11 and the eyepiece p 12 form the optical system of the microscope for
анализа интерференционной картины, при этом выполнение объектива 11 с возможностью, смещени вдоль его оптической оси обеспечивает возможностг получени в поле зрени изображени полос интерференционной картины посто нной щирины независимо от рассто ни .между отражател ми 8 и 9. Объектив 4 с рефлектором в виде зеркал 6 и 7 образуют телескопическую систему .analyzing the interference pattern, with the lens 11 being made with the possibility of displacement along its optical axis, it is possible to obtain in the field of view the image of the interference pattern of the constant spacing irrespective of the distance between the reflectors 8 and 9. The lens 4 with a reflector in the form of mirrors 6 and 7 form a telescopic system.
Контролируемую пластину 13 устанавливают на столик 5 так, чтобы норМали к ее рабочим гран м составл ли небольшой угол с оптической осью объектива 4. Пучки лучей источника 1 излучени (например, лазера) проход т через конденсор 2, светоделитель 3The controlled plate 13 is mounted on the table 5 so that the normals to its working faces make a small angle with the optical axis of the objective 4. The beams of rays of the radiation source 1 (e.g., laser) pass through the condenser 2, the splitter 3
и объектив 4 и параллельным пучком падают на грани контролируемой пластины 13 и после отражени от них проход т через об7 ектив 4, отражаютс от светоделител 3, и последовательноand the lens 4 and a parallel beam fall on the faces of the controlled plate 13 and after reflection from them pass through the lens 7, are reflected from the beam splitter 3, and in series
отразившись от зеркал 6 и 7 рефлектора , падают на отражатели 8 и 9 в виде волнового фронта. Перед измерением рассто ние между отражател ми 8 и 9 устанавливают минимальным. После отражени от отражателей В и 9 пучки лучей собираютс в фокусе реф1пектора, образу интерференционную картину в виде полос равной ширины, при этом рассто ние между точками пр мо пропорционально длине волны источника 1 излучени и обратно пропорционально рассто нию между отражател ми 8 и 9 (рассто нию между центрами их световых диаметров).reflected from the mirrors 6 and 7 of the reflector, fall on the reflectors 8 and 9 in the form of a wave front. Before the measurement, the distance between the reflectors 8 and 9 is set to the minimum. After reflection from reflectors B and 9, the beam of rays is collected at the focus of the reflector, forming an interference pattern in the form of stripes of equal width, with the distance between points directly proportional to the wavelength of the radiation source 1 and inversely proportional to the distance between the reflectors 8 and 9 (distance between the centers of their light diameters).
II
Микроскоп в виде объектива 11 и окул ра 12 позвол ет получить в поле зрени интерферометра увеличенное изображение интерференционной картины , при этом интерференционна картина исчезнет, если будет выполнено условиеA microscope in the form of an objective 11 and an eyepiece 12 allows to obtain an enlarged image of the interference pattern in the field of view of the interferometer, and the interference pattern will disappear if the condition
2п-е-Ь, IcS,2n-eb, IcS,
гдеWhere
б показатель преломлени контролируемой пластины 13; угол клиновидноети контролируемой пластины 13 в измер емой плоскости, определенной положением отражателей 8 и 9;b the refractive index of the controlled plate 13; the wedge angle of the controlled plate 13 in the measured plane, determined by the position of the reflectors 8 and 9;
длина волны источника 1 излучени ;wavelength of radiation source 1;
рассто ние между отражател ми 8 и 9; целое число. Перемещением отражателей 8 и 9 добиваютс такого из взаимного положени , при котором исчезает интерференционна картина в поле зрени интерферометра , при этом измер ют с помощью измерител 10 рассто ние между отражател ми 8 и 9 и рассчитывают клиновидность в измер емой плоскости по формулеthe distance between the reflectors 8 and 9; integer. By moving the reflectors 8 and 9, one obtains such a mutual position, at which the interference pattern disappears in the field of view of the interferometer, and the distance between the reflectors 8 and 9 is measured with a meter 10 and the wedge shape in the measured plane is calculated by the formula
S Ц k fl S c k fl
2п - b , 2n - b,
В последней формуле k 1, так как перед измерением рассто ние между отражател ми установлено минимальным .In the last formula, k 1, since before the measurement the distance between the reflectors is set to be minimal.
После этого поворачивают столик 5 на 90 и повтор ют измерени рассто ни bj между отражател ми 8 и 9, при котором размываетс интерференционна картина, и вычисл ют угол новидности контролируемой пластины 13 в ортогональной плоскости по формулеThereafter, table 5 is rotated by 90 and measurements of the distance bj between the reflectors 8 and 9 are repeated, at which the interference pattern is blurred, and the angle of the nobility of the test plate 13 is calculated in the orthogonal plane using the formula
9.9.
г g
2 пЬ,2,
После этого вычисл ют общий угол 6 клиновидности контролируемой пластины 13 по формулеAfter that, the total angle 6 of the wedge shape of the controlled plate 13 is calculated by the formula
Таким образом, предложенный интер- черометр обеспечивает повышение точности контрол клиновидности оптических пластин за счет телескопичес10Thus, the proposed interferometer provides an increase in the accuracy of controlling the wedge shape of optical plates by means of a telescopic
00
кого увеличени измерительной базы интерферометра по сравнению с известными устройствами, в которых измерительна база ограничена размерами контролируемой пластины.The increase in the measuring base of the interferometer in comparison with the known devices, in which the measuring base is limited by the dimensions of the test plate.
Формул.а изобретени Formula of invention
Интерферометр дл контрол клиновидности оптических пластин, содержащий источник излучени и последовательно установленные по ходу пучка лучей источника излучени конденсор, 5 светоделитель, объектив, столик,An interferometer for controlling the wedge shape of optical plates, containing a radiation source and a condenser, 5 beam splitter, lens, table, successively installed along the beam of the radiation source;
предназначенный дл размещени контролируемой пластины и установленный с возможностью поворота вокруг оптической оси объектива и вокруг оси, перпендикул рной к ней, и окул р, оптически св занный со светоделителем и установленный так, что его оптическа ось перпендикул рна оптической оси объектива, отличающий- 5 с тем, что, с целью повышени точности контрол , он снабжен рефлектором , выполненным в виде двух зеркал, оптически св занным через светоделитель с объективом и установленным со- осно с окул ром, так, что его передний фокус совмещ-ен с передним фокусом объектива, двум отражател ми, оптически св занными с вторым по ходу пучка лучей после светоделител зеркалом и установленными с возможностью одновременного смещени в протийопо- ложных направлени х перпендикул рно оптической оси рефлектора, измерителем рассто ни , св занным с отража- 0 тел ми, вторым объективом, установленным между светоделителем и окул ром соосно с ним с возможностью смещени вдоль оптической оси окул ра , светоделитель установлен так, что 5 второй объектив и окул р оптически св заны; через светоделитель с конденсором , а окул р выполнен с возможностью смещени вдоль своей оптической оси.designed to accommodate a monitored plate and mounted rotatably around the optical axis of the lens and around an axis perpendicular to it, and an eyelet optically connected to the beam splitter and mounted so that its optical axis is perpendicular to the optical axis of the lens, which is 5 sec. in order to increase the accuracy of control, it is equipped with a reflector, made in the form of two mirrors, optically coupled through a beam splitter with the lens and installed with an ocullator, so that its front focus is is accommodated with a front focus of the lens, two reflectors optically connected with the second beam along the beam splitter mirror and installed with the possibility of simultaneous displacement in protopol Right directions perpendicular to the optical axis of the reflector, with a distance meter related to reflection - 0 bodies, the second lens, installed between the beam splitter and the eyepiece coaxially with it with the possibility of displacement along the optical axis of the eyepiece, the beam splitter is set so that 5 the second lens and the eyelere are optically coupled; through a beam splitter with a condenser, and the ocular p is made with the possibility of displacement along its optical axis.
00
5five
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU884406073A SU1597527A1 (en) | 1988-04-07 | 1988-04-07 | Interferometer for checking wedged shape of optical plates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU884406073A SU1597527A1 (en) | 1988-04-07 | 1988-04-07 | Interferometer for checking wedged shape of optical plates |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SU1597527A1 true SU1597527A1 (en) | 1990-10-07 |
Family
ID=21367022
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU884406073A SU1597527A1 (en) | 1988-04-07 | 1988-04-07 | Interferometer for checking wedged shape of optical plates |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| SU (1) | SU1597527A1 (en) |
-
1988
- 1988-04-07 SU SU884406073A patent/SU1597527A1/en active
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Афанасьев В.А. Оптические изме- Фени . - М.: Высша школа, 1981, с.84. * |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7170610B2 (en) | Low-coherence inferometric device for light-optical scanning of an object | |
| US5548403A (en) | Phase shifting diffraction interferometer | |
| US7298468B2 (en) | Method and measuring device for contactless measurement of angles or angle changes on objects | |
| JP3624783B2 (en) | Double pass etalon spectrometer | |
| KR20000016177A (en) | Interferometer for measuring thickness variations of semiconductor wafers | |
| US3614235A (en) | Diffraction grating interferometer | |
| KR19990076349A (en) | Reflective holographic optical element characterization system | |
| SU1152533A3 (en) | Scanning interferometer (versions) | |
| SU1597527A1 (en) | Interferometer for checking wedged shape of optical plates | |
| KR100453710B1 (en) | Surface measurement apparatus and method thereof | |
| US7136169B2 (en) | Etalon testing system and process | |
| Grindel | Testing collimation using shearing interferometry | |
| US3285124A (en) | High precision pointing interferometer with modified kosters prism | |
| US2846919A (en) | Interferometer | |
| JPH0518893A (en) | Refractive index measuring device | |
| SU693109A1 (en) | Device for checking prism angle | |
| RU2018112C1 (en) | Device for measuring reflection and transmission coefficients | |
| US3645630A (en) | Monochromator | |
| SU1268948A1 (en) | Device for checking angular parameters of plane-parallel plates | |
| SU1668856A1 (en) | Arrangement for testing levelling devices | |
| SU1762116A1 (en) | Diffraction interferometer | |
| SU750273A1 (en) | Microinterferometer for surface roughness monitoring | |
| SU1530962A1 (en) | Device for inspecting the centering of optical parts | |
| SU1486776A1 (en) | Device for measuring linear dimensions of parts | |
| SU1656365A1 (en) | Aligning device |