SU1551989A1 - Method of checking the shape of reflecting surface of mirror reflectors - Google Patents

Method of checking the shape of reflecting surface of mirror reflectors Download PDF

Info

Publication number
SU1551989A1
SU1551989A1 SU853901465A SU3901465A SU1551989A1 SU 1551989 A1 SU1551989 A1 SU 1551989A1 SU 853901465 A SU853901465 A SU 853901465A SU 3901465 A SU3901465 A SU 3901465A SU 1551989 A1 SU1551989 A1 SU 1551989A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
exposure
cycle
reflector
exposures
duration
Prior art date
Application number
SU853901465A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Владимир Георгиевич Гусев
Original Assignee
Сибирский физико-технический институт им.В.Д.Кузнецова при Томском государственном университете им.В.В.Куйбышева
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Сибирский физико-технический институт им.В.Д.Кузнецова при Томском государственном университете им.В.В.Куйбышева filed Critical Сибирский физико-технический институт им.В.Д.Кузнецова при Томском государственном университете им.В.В.Куйбышева
Priority to SU853901465A priority Critical patent/SU1551989A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU1551989A1 publication Critical patent/SU1551989A1/en

Links

Landscapes

  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к оптическому приборостроению, конкретно к оптическим измерени м на основе спекл-интерферометрии. Цель изобретени  - повышение точности контрол . Способ включает экспонирование фотопластинки диффузным излучением, образованным при пропускании когерентного излучени  через рассеиватель, и последующее отражение его от зеркального отражател , местоположение которого от экспозиции к экспозиции измен ют путем смещени  отражател  параллельно фотопластинке. Провод т нечетное число экспозиций, причем длительность первой экспозиции выбирают из равенства экспозиции обратной величине светочувствительности фотопластинки, а последующие экспозиции провод т циклами, включающими две экспозиции, после размещени  отражател  перед каждой экспозицией в симметричных относительно первоначального положени х, при этом величины смещений отражател  последовательно увеличивают от цикла к циклу на значение, равное первоначальному смещению, а длительность каждой экспозиции в цикле определ ют из математического выражени . 1 з.п. ф-лы, 1 ил.The invention relates to optical instrumentation, specifically to optical measurements based on speckle interferometry. The purpose of the invention is to improve the accuracy of control. The method involves exposing the photographic plate to diffuse radiation produced by passing coherent radiation through a diffuser, and then reflecting it from a specular reflector, whose location from exposure to exposure is changed by displacing the reflector parallel to the photographic plate. An odd number of exposures is carried out, the duration of the first exposure is chosen from the equality of exposure to the inverse photosensitivity of the photoplate, and subsequent exposures are carried out in cycles, including two exposures, after placing the reflector before each exposure in symmetrical positions relative to the initial position from cycle to cycle to a value equal to the initial offset, and the duration of each exposure in the cycle is determined from the mat ny 1 hp f-ly, 1 ill.

Description

Изобретение относитс  к оптическому приборостроению, а более конкретно к оптическим измерени м на основе спекл-интерферометрии.The invention relates to optical instrument making, and more specifically to optical measurements based on speckle interferometry.

Цель изобретени  - повышение точности контрол .The purpose of the invention is to improve the accuracy of control.

На чертеже представлена одна из возможных схем устройства, позвол юща  реализовать предлагаемый способ.The drawing shows one of the possible schemes of the device, allowing the proposed method to be implemented.

Устройство включает когерентный источник 1 света, затвор 2, конденсор 3, диффузный рассеиватель 4, светоделитель 5, контролируемый зеркальный отражатель 6 с механизмом 7 его перемещени , фотопластинку 8.The device includes a coherent light source 1, a shutter 2, a condenser 3, a diffuse diffuser 4, a beam splitter 5, a controlled mirror reflector 6 with its movement mechanism 7, a photographic plate 8.

Способ осуществл етс  следующим образом,The method is carried out as follows.

Когерентное излучение от источника 1, пройд  конденсор 3, при открытом затворе 2 освещает диффузный рассеиватель 4. Диффузное излучение, отразившись от светоделител  5 и зеркального отражател  6, поступает на фотопластинку 8 и регистрируетс  на ней за врем  первой экспозиции. Перед второй экспозицией зеркальный отражатель 6 с помощью механизма 7 его перемещени  смещаетс  в плоскости, проход щей через его вершину и параллельной плоскости фотопластинки 8,The coherent radiation from source 1, after passing through the condenser 3, illuminates diffuse diffuser 4 with open shutter 2. Diffuse radiation reflected from the beam splitter 5 and mirror reflector 6 enters the photographic plate 8 and is recorded on it during the first exposure. Before the second exposure, the mirror reflector 6 is displaced in the plane passing through its top and parallel to the plane of the photographic plate 8 by means of the mechanism 7,

ел елate

со оо соco oo co

мл пслнчину а Перед третьей экспо- (ицней зеркальный отражатель 6 сме- 1лаетс   на величину а симметрично относительно с оего первоначального положени  и так далее, причем перед каждой последующей экспозицией величина перемещени  кратна величине а.ml of baseline Before the third expo- sure (the mirror reflector 6 is displaced by a and symmetrically relative to its initial position, and so on, with the displacement value being a multiple of a before each subsequent exposure.

При восстановлении записи про вленную фотопластинку освещают плос- кой когерентной волной от источника, используемого при записи, и в фокальной плоскости линзы, установленной за фотопластинкой, получают картину периодически чередующихс  узких ин- терференционных полос. По результатам измерени  периода повторени  ДХ определ етс  радиус кривизны сферического зеркала R 2аДХ1/(flf ), где 1 - рассто ние от плоскости, проход щей че- рез вершину отражател  6, до плоскости фотопластинки 8; 1- длина волны используемого источника света; f - фокусное рассто ние используемой линзы .When the recording is restored, the developed photographic plate is illuminated with a flat coherent wave from the source used during recording and in the focal plane of the lens mounted behind the photographic plate, a picture of periodically alternating narrow interference fringes is obtained. Based on the results of measuring the repetition period DF, the radius of curvature of the spherical mirror R 2aDX1 / (flf) is determined, where 1 is the distance from the plane passing through the top of the reflector 6 to the plane of the photographic plate 8; 1 is the wavelength of the light source used; f is the focal length of the lens used.

Нарушение эквидистантности интерференционных полос характеризует отклонение поверхности от сферической формы или волновые аберрации сферических зеркал. Точность измерени  определ етс  точностью определени  центра интерференционных полос и возрастает с увеличением числа экспозиций „ Общее число экспозиций выбирают нечетным, длительность первой экспозиции выбирают из равенства экспозиции обратной величине светочувствительности фотопластинки, а последующие провод т циклами, включающими две экспозиции, после размещени  отражател  перед каждой экспозицией в симметричньк относительно первоначального положени х, при этом величины смещений отражател  последовательно увеличивают от никла к циклу на значение,равное первоначальному смеж щению, а длительность каждой экспозиции в цикле выбирают равнойViolation of equidistance of interference fringes characterizes the deviation of the surface from a spherical shape or wave aberrations of spherical mirrors. The measurement accuracy is determined by the accuracy of determining the center of interference fringes and increases with increasing number of exposures. in symmetrical with respect to the initial positions, while the magnitudes of the displacement of the reflector successively increase t from nickel to cycle to a value equal to the initial contiguity, and the duration of each exposure in the cycle is chosen equal to

N -1N -1

-т j - N- л. -t j - N-l.

N- LCN-LC

СWITH

М-1M-1

- длительность 1-й экспозиции; - общее число экспозиций; - пор дковый номер цикла экспозиций;- the duration of the 1st exposure; - total number of exposures; is the sequence number of the exposure cycle;

- число сочетаний из N-1 по --- - m и из N-1 по --- соответственно.- the number of combinations from N-1 to --- - m and from N-1 to ---, respectively.

Claims (2)

1.Способ контрол  формы отражающей поверхности зеркальных отражателей , включающий освещение отражател  диффузионно-рассе нным излучением, последовательную экспозицию фотопластинки излучением, отраженным от зеркального отражател  при различных его положени х, отличающий- с   тем, что, с целью повышени  точности контрол , используют когерентный источник излучени  и экспозиции, начина  с второй, производ т циклами при смещении отражател  в положении, симметричные относительно первоначального , и в плоскости, параллельной плоскости фотопластинки, при этом величину смещений отражател  последовательно от цикла к циклу увеличивают .1. A method of controlling the shape of the reflecting surface of mirror reflectors, which includes illuminating the reflector with diffusion-scattered radiation, sequential exposure of the photographic plate with radiation reflected from the specular reflector at its different positions, characterized in that, to improve the accuracy of control, a coherent source radiation and exposure, starting from the second, are performed in cycles when the reflector is displaced in a position symmetrical with respect to the initial one and in a plane parallel to the plane photographic plates, while the magnitude of the displacement of the reflector sequentially from cycle to cycle increases. 2.Способ по п. 1, отличающийс  тем, что длительность каждой экспозиции в цикле выбирают равной2. The method according to claim 1, characterized in that the duration of each exposure in the cycle is chosen equal to N-N- с-г--sg-- л NH / СШ Т Vl NH / SShT V СWITH N-N- N mN m общее число экспозиций; пор дковый номер цикла экспозиций;total number of exposures; the sequence number of the exposure cycle; -- V, иV, and СWITH N-N- гдеWhere - число сочетаний из N-1 по- the number of combinations of N-1 N-1 м . N-1N-1 m. N-1 - m и из N-1 по --22 - m and from N-1 to --22 соответственно jrespectively j С0 - длительность первой экспозиции .C0 - the duration of the first exposure.
SU853901465A 1985-05-27 1985-05-27 Method of checking the shape of reflecting surface of mirror reflectors SU1551989A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU853901465A SU1551989A1 (en) 1985-05-27 1985-05-27 Method of checking the shape of reflecting surface of mirror reflectors

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU853901465A SU1551989A1 (en) 1985-05-27 1985-05-27 Method of checking the shape of reflecting surface of mirror reflectors

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1551989A1 true SU1551989A1 (en) 1990-03-23

Family

ID=21179369

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU853901465A SU1551989A1 (en) 1985-05-27 1985-05-27 Method of checking the shape of reflecting surface of mirror reflectors

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1551989A1 (en)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство СССР № 593070, кл. G 01 В 11/24, 1977. Авторское свидетельство СССР № 664022, кл. G 01 В 11/24, 1978. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0135282B2 (en)
SU1551989A1 (en) Method of checking the shape of reflecting surface of mirror reflectors
JPH01124434A (en) Optical apparatus
US3797938A (en) Optical apparatus for measuring deformation of parabolic antennas
US3934461A (en) Multiple exposure holographic interferometer method
SU1712776A1 (en) Method of testing concave elliptic surface shape
US3533675A (en) Small-angle interferometer for making holograms
RU215245U1 (en) Device for testing the dynamics of shrinkage of a holographic photosensitive material
SU1182255A1 (en) Method of interference measurements
RU1772608C (en) Holographic method of testing lenses and objective lenses for wave aberrations
SU450077A1 (en) Device for controlling the shape of a parabolic surface
Abramson Holography as a teaching tool
JPS5444579A (en) Vibration measuring method by pulse laser holography
RU2025691C1 (en) Method of holographic check of wave aberrations of lenses and objectives
SU1705706A1 (en) Holographic measurement of amplitude of oscillations
JP2621792B2 (en) Method and apparatus for measuring spatial coherence
SU1562687A1 (en) Method of determining object surface shape
RU2624981C1 (en) Holographic method of studying non-stationary processes
SU1011505A1 (en) Device for measuring displacement of surface of object
SU1523909A1 (en) Method and apparatus for checking shape of surface
Puntambekar et al. A simple inverting interferometer
RU1772617C (en) Holographic interferometers for checking the shape of hole inner surface
SU1649260A1 (en) Method for testing optical aspheric second-order surfaces of revolution
SU1566201A1 (en) Method of determining displacements
SU1645809A1 (en) Method of inspecting quality of lenses and objectives