SU775760A1 - Способ изготовлени регистрирующей среды на основе халькогенидного стекла - Google Patents

Description

Изобретение относитс  к регистрирующим средс1М дл  использовани  их в системах оптической записи информации . Оно может быть использовано голографической записи, как элемент пам ти в системах оптической обработки, а также в других област х современной оптоэлектроники. Известны способы получени  регист рирующих сред-полупроводниковых мате риалов путем их нанесени  на подложку в вакууме fl. Ближайшим известным техническим решением  вл етс  способ изготовлени  регистрирующей среды на основе халькогенидного стекла путем нанесени  сло  халькогенидного стекла на подложку напылением в вакууме 2, При напылении, в данно;.-. случае материала Ae.Sj , получаетс  регист рирующий слой, при засветке которог ( необходимо освещение светом с А. 500 нм, н.п. аргоновым лазером) произойдет негативна  запись, т. е. засвеченные участки потемнеют, что соответствует сдвигу кра  пропускан VB длинноволновую область спектра. Недостаток такой записи состоит в том, что по мере записи слой темнеет и соответственно уменьшаетс  е пропускание Т в местах попадани  света , т. е. толщина сло , где происход т индуцированные светом изменени  коэффициента поглощени  Л , а также показател  преломлени  n сильно ограничиваетс  в процессе записи самопоглощением сло . С другой стороны, при считывании слой будет засвечиватьс  и в силу неизменной чувствительности контраст записи будет быс-тро падать, практически до нул . Целью изобретени   вл етс  возможность получени  позитивной записи. Дл  достижени  цели напыление производитс  при температуре 600-800 С. В предложенном способе инициирующую роль в процессе фотозаписи играют электронно-дырочные процессы с участием локализованных состо ний в запрещенной зоне халькогенидного стекла . В результате определенных изменений св зей происходит изменение «t и И стекла. Учитыва  приготовление сло  в описываемом случае форсированным режимом напылени  при высокой температуре, можно предположить св зь начальной конфигурации св зей, равновесного состо ни  электронов и дырок с характером записи и величиной изменений и n .

Как показали опыты, дл  стекла AujS оптимальные температуры Hcnsipeни , при которых реализуетс  позитивна  запись на получаемых сло х, наход тс  в пределах 600-800°С, что в два раза превышает обычно npHwejin:емые температуры-400 С, при которых получаютс  слои с негативной чуЕ1Ствительностью .

Край поглощени  позитивных слоев сдвинут в длинноволновую область по сравнению с негативными на величину 0,8 мкм, что обеспечивает некоторую чувствительность на ,633 мкм уже при комнатных температурах при подогреве такого сло  чувствительност на этой длине волны резко возрастает и по вл етс  возможность позитивной записи.

На чертеже показана схема квазиэамкнутого испарител , позвол ющего производить напыление -при повышенных температурах без заметного разбрызгивани  вещества.

Он состоит из трубки 1, свернутой из танталовой фольги со щелевым зазором между витками, кварцевого теплоизолирующего стержн  2, зажимной муфты 3 и конуса 4, а также медного токоввода 5.

Claims (1)

1.Холлэнд Л. Нанесение тонких пленок в вакууме, М., Госэнергоиздат, 1963, с. 561.

2,Регистрирукхцие среды дл  голографии , под ред. Кириллова Н.И., Барачевского В.А., Л., Наука, 1975, с. 145-147 (прототип).