SU614133A1 - Испаритель электропровод щих материалов - Google Patents

Испаритель электропровод щих материалов

Info

Publication number
SU614133A1
SU614133A1 SU762343773A SU2343773A SU614133A1 SU 614133 A1 SU614133 A1 SU 614133A1 SU 762343773 A SU762343773 A SU 762343773A SU 2343773 A SU2343773 A SU 2343773A SU 614133 A1 SU614133 A1 SU 614133A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
cathode
evaporator
coil
arc
anode
Prior art date
Application number
SU762343773A
Other languages
English (en)
Inventor
Андрей Михайлович Дороднов
Сергей Артемович Мубояджян
Ярослав Азарьевич Помелов
Виктор Егорович Минайчев
Станислав Иванович Мирошкин
Original Assignee
Московское Высшее Техническое Училище Имени Н.Э.Баумана
Предприятие П/Я В-8495
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Московское Высшее Техническое Училище Имени Н.Э.Баумана, Предприятие П/Я В-8495 filed Critical Московское Высшее Техническое Училище Имени Н.Э.Баумана
Priority to SU762343773A priority Critical patent/SU614133A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU614133A1 publication Critical patent/SU614133A1/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325Electric arc evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

I
Изобретение ОТНОСИТСЯ к технологии вакуумных покрытий н тойкнх пленок н может быть использовано в качестве испарител  дл  получени  различных электропровод щих покрытий н тонких пленок.
Известен испа жтель электропровод щих материалов, испарение в котором осуществл етс  катодньм п тном вакуумной дуги fl .
Однако срок службы испарител  небольшой из-за отсутстви  стабилизации катодных п тен дуги на рабочей поверхности катода.
Известен сильноточный плазменный испаритель электропровод щих материалов , содержащий катод,..анод и магнитную систему с полюсными .наконечниками f расположенную под катодом и создак дую на рабочей поверхности катода неоднсюодное тангенциальное магнитное поле 2j.
Однако в указанном устройстве обес печиваетс  стабилизгщи  разр да в выг деленной зоне рабочей поверхности к тода, где индукци  внешнего магнитнб го пол  имеет только один компонент, параллельный поверхности катода. При этом зона испар емой поверхности зависит от жесткости стабилизации ка тодных п тен на рабочей поверхности катода, котора  определ етс  величи ной индукции магнитного пол . Мала  ишрина зоны испар емой поверхности 5 ограничивает срок службы испарител , снижает коэффициент использованн  материала и эффективность охлги цвни , что приводит к перегреву материала и возрастанию доли генерируемых катодным п тне дугн мйкрокапель, ухудшающих качества покрытий.
цель изобретени  - увеличение сро ка службы испарител .
Достигаетс  это тем, что в предлаS гаемом испарителе электропровод щих материалов, содержащих анод, катод и магнитную систему с полюсными наконечниками , расположенную под катодами, полюсные наконечники выполнены в виде
0 чередующихс  впадин и выступов, маг-; нитна  система содержит катушку, включенную в цепь питани  испарител .

Claims (2)

  1. На чертеже изображен описываемый испаритель. Он содержит принуднтель- но охлаждаемый плоский катод 1, выполненный из испар емого материала, водоохлаждаемы  анод 2, изол тор 3, раздел ющий участком поверхности 4 рабочую поверхность катода 1 от поверхности анода 2, и азимутально замкнутую магнитную систему, выполнен ную в виде  рма (фланца) 5, полюсных наконечников 6 и 7, образующих между собой зазор 8 в виде чередующихс  впадин и выступов. Магиит-на  систем снабжена встречно включенными- электромагнитными катушками 9 и 10, приче катушка 9 питаетс  от отдельного источника .питани  11, а катушка 10 включена последовательно в цепь дуги, питаемой от источника 12 однопол рных импульсов напр жени  с р егулируемой амплитудой, длительностью и частотой следовани . Плоский катод 1, охлаждаекклй системой охлаждени  13 (вход и выход охлаждакн ей жидкости показан на чертеАсе стрелками) , расположен над полюсными наконечниками (5 и 7 магнитной системы и изолирован от нее при помощи изол тора 14. Подача охлаждающей жидкости в анод 2 осуществл етс  через токовводы 15 и 16. Испаритель работает следующим образом . При подаче напр жени  на катод 1 и анод 2 происходит пробой по поверхности 4 изол тора 3, на которую предварительно нанесена провод ща  пленка , и на границе раздела катод-изол тор , вынесенной из области максимума неоднородного магнитного пол , создаваемого полюсными наконечниками 6 и 7, возбуждаетс  катодное п тно. Под действием неоднородного магнитного пол  рассе ни  на рабочей порерхност. катода катодное п тно совершает сложное движение, быстро перемеща сь в зону максимума пол  (вблизи оси зазо ра между полюсными наконечниками 6 и 7) и поперек силовых линий магнитного пол . Достигнув зоны максимума пол , катодное п тно движе гс  только лишь поперек силовых линий пол , т.е. совершает круговое движение вдоль полю ных наконечников. За врем  установле ни  тока дуги величина магнитного пол на поверхности катода, создаваемого катушкой 9, подбираетс  таким образом чтобы обеспечить быстрый увод катодного п тна из зоны контакта катодизол тор . При установившемс  токе дуги катушка 10, включенна  встречно катушке 9, обеспечивает ослабление напр женности магнитного пол  на поверхности катода, что уменьшает жесткость стабилизации катодного п тна и увеличивает ширину зоны испарени . При горении вакуумной дуги происходит испарение материала катода катодным п тном дуги, генерируетс  плазма катодного материала, котора , конденсиру сь на поверхности конденсации , образует покрытие. Часть плазмы (доли процента обще.го расхода), генерируемой в период горени  импульсной вакуумной дуги, осаждаетс  на поверхности 4 изол тора 3 и восстанавливает на ней провод щую пленку, необходимую дл  периодического возбуждени  дуги переменного тока (при естественном прохождении тока дуги через ноль), Использование указанной конфигурации полюсных наконечников и применение дополнительной электромагнитной катушки позвол ет в несколько раз увеличить область испарени  и тем самым повысить срок службы испарител  Формула изобретени  1.Испаритель электропровод щих материалов , содержавши анод, катод и магнитную систему с полюсными наконечниками , расположенную под катодом, , отличающийс  тем, что, с целью его увеличени  срока службы, полюсные наконечники выполнены в виде чередующихс  впадин и выступов, 2.Испаритель поп.1, отлич а щ.и и с   тем,что магнитна  системасодержит катушку, включенную в цепь питани  испарител .Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе: 1.Патент ОНА 3437260, кл. 230-69, 1969.
  2. 2.Журнал технической физики, том 29, вып. 3, с. 278-288, 1959.
    г
    ч-. 16
SU762343773A 1976-04-05 1976-04-05 Испаритель электропровод щих материалов SU614133A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762343773A SU614133A1 (ru) 1976-04-05 1976-04-05 Испаритель электропровод щих материалов

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762343773A SU614133A1 (ru) 1976-04-05 1976-04-05 Испаритель электропровод щих материалов

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU614133A1 true SU614133A1 (ru) 1978-06-05

Family

ID=20655560

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU762343773A SU614133A1 (ru) 1976-04-05 1976-04-05 Испаритель электропровод щих материалов

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU614133A1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0396603B1 (en) Procedure and apparatus for the coating of materials by means of a pulsating plasma beam
US3793179A (en) Apparatus for metal evaporation coating
US4551221A (en) Vacuum-arc plasma apparatus
US4430184A (en) Evaporation arc stabilization
US20080210545A1 (en) Method and Apparatus for Producing Electric Discharges
JPH0627323B2 (ja) スパツタリング方法及びその装置
JPH09512304A (ja) イオン支援された真空コーティング方法並びに装置
JPH11273580A (ja) イオン源
SU614133A1 (ru) Испаритель электропровод щих материалов
JP2006169630A (ja) 基体上への材料の陰極アーク堆積方法
Batrakov et al. Increasing the electric strength of vacuum insulation by irradiating the electrodes with a low-energy high-current electron beam
US3883679A (en) Vapor source assembly
SU661042A1 (ru) Устройство дл испарени электропровод щих материалов в вакууме
SU1199807A1 (ru) Способ поверхностной обработки токопровод щих материалов
SU1123313A1 (ru) Электродуговой испаритель
SU1053525A1 (ru) Устройство возбуждени дугового разр да в вакууме
Eltchaninov et al. Electron beam accelerator with high pulse recurrence frequency
SU761603A1 (ru) Устройство для электродугового испарения в вакууме 1
RU2098512C1 (ru) Вакуумно-дуговой источник плазмы
JP2769506B2 (ja) イオン源
JPS6348931Y2 (ru)
SU953004A1 (ru) Электродуговой испаритель металлов
SU529712A1 (ru) Источник ионов металлов
SU1144417A1 (ru) Устройство дл обработки изделий в вакууме
RU2037559C1 (ru) Способ нанесения покрытий на изделия методом ионного распыления и устройство для его осуществления