SU614133A1 - Испаритель электропровод щих материалов - Google Patents
Испаритель электропровод щих материаловInfo
- Publication number
- SU614133A1 SU614133A1 SU762343773A SU2343773A SU614133A1 SU 614133 A1 SU614133 A1 SU 614133A1 SU 762343773 A SU762343773 A SU 762343773A SU 2343773 A SU2343773 A SU 2343773A SU 614133 A1 SU614133 A1 SU 614133A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- cathode
- evaporator
- coil
- arc
- anode
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
I
Изобретение ОТНОСИТСЯ к технологии вакуумных покрытий н тойкнх пленок н может быть использовано в качестве испарител дл получени различных электропровод щих покрытий н тонких пленок.
Известен испа жтель электропровод щих материалов, испарение в котором осуществл етс катодньм п тном вакуумной дуги fl .
Однако срок службы испарител небольшой из-за отсутстви стабилизации катодных п тен дуги на рабочей поверхности катода.
Известен сильноточный плазменный испаритель электропровод щих материалов , содержащий катод,..анод и магнитную систему с полюсными .наконечниками f расположенную под катодом и создак дую на рабочей поверхности катода неоднсюодное тангенциальное магнитное поле 2j.
Однако в указанном устройстве обес печиваетс стабилизгщи разр да в выг деленной зоне рабочей поверхности к тода, где индукци внешнего магнитнб го пол имеет только один компонент, параллельный поверхности катода. При этом зона испар емой поверхности зависит от жесткости стабилизации ка тодных п тен на рабочей поверхности катода, котора определ етс величи ной индукции магнитного пол . Мала ишрина зоны испар емой поверхности 5 ограничивает срок службы испарител , снижает коэффициент использованн материала и эффективность охлги цвни , что приводит к перегреву материала и возрастанию доли генерируемых катодным п тне дугн мйкрокапель, ухудшающих качества покрытий.
цель изобретени - увеличение сро ка службы испарител .
Достигаетс это тем, что в предлаS гаемом испарителе электропровод щих материалов, содержащих анод, катод и магнитную систему с полюсными наконечниками , расположенную под катодами, полюсные наконечники выполнены в виде
0 чередующихс впадин и выступов, маг-; нитна система содержит катушку, включенную в цепь питани испарител .
Claims (2)
- На чертеже изображен описываемый испаритель. Он содержит принуднтель- но охлаждаемый плоский катод 1, выполненный из испар емого материала, водоохлаждаемы анод 2, изол тор 3, раздел ющий участком поверхности 4 рабочую поверхность катода 1 от поверхности анода 2, и азимутально замкнутую магнитную систему, выполнен ную в виде рма (фланца) 5, полюсных наконечников 6 и 7, образующих между собой зазор 8 в виде чередующихс впадин и выступов. Магиит-на систем снабжена встречно включенными- электромагнитными катушками 9 и 10, приче катушка 9 питаетс от отдельного источника .питани 11, а катушка 10 включена последовательно в цепь дуги, питаемой от источника 12 однопол рных импульсов напр жени с р егулируемой амплитудой, длительностью и частотой следовани . Плоский катод 1, охлаждаекклй системой охлаждени 13 (вход и выход охлаждакн ей жидкости показан на чертеАсе стрелками) , расположен над полюсными наконечниками (5 и 7 магнитной системы и изолирован от нее при помощи изол тора 14. Подача охлаждающей жидкости в анод 2 осуществл етс через токовводы 15 и 16. Испаритель работает следующим образом . При подаче напр жени на катод 1 и анод 2 происходит пробой по поверхности 4 изол тора 3, на которую предварительно нанесена провод ща пленка , и на границе раздела катод-изол тор , вынесенной из области максимума неоднородного магнитного пол , создаваемого полюсными наконечниками 6 и 7, возбуждаетс катодное п тно. Под действием неоднородного магнитного пол рассе ни на рабочей порерхност. катода катодное п тно совершает сложное движение, быстро перемеща сь в зону максимума пол (вблизи оси зазо ра между полюсными наконечниками 6 и 7) и поперек силовых линий магнитного пол . Достигнув зоны максимума пол , катодное п тно движе гс только лишь поперек силовых линий пол , т.е. совершает круговое движение вдоль полю ных наконечников. За врем установле ни тока дуги величина магнитного пол на поверхности катода, создаваемого катушкой 9, подбираетс таким образом чтобы обеспечить быстрый увод катодного п тна из зоны контакта катодизол тор . При установившемс токе дуги катушка 10, включенна встречно катушке 9, обеспечивает ослабление напр женности магнитного пол на поверхности катода, что уменьшает жесткость стабилизации катодного п тна и увеличивает ширину зоны испарени . При горении вакуумной дуги происходит испарение материала катода катодным п тном дуги, генерируетс плазма катодного материала, котора , конденсиру сь на поверхности конденсации , образует покрытие. Часть плазмы (доли процента обще.го расхода), генерируемой в период горени импульсной вакуумной дуги, осаждаетс на поверхности 4 изол тора 3 и восстанавливает на ней провод щую пленку, необходимую дл периодического возбуждени дуги переменного тока (при естественном прохождении тока дуги через ноль), Использование указанной конфигурации полюсных наконечников и применение дополнительной электромагнитной катушки позвол ет в несколько раз увеличить область испарени и тем самым повысить срок службы испарител Формула изобретени 1.Испаритель электропровод щих материалов , содержавши анод, катод и магнитную систему с полюсными наконечниками , расположенную под катодом, , отличающийс тем, что, с целью его увеличени срока службы, полюсные наконечники выполнены в виде чередующихс впадин и выступов, 2.Испаритель поп.1, отлич а щ.и и с тем,что магнитна системасодержит катушку, включенную в цепь питани испарител .Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе: 1.Патент ОНА 3437260, кл. 230-69, 1969.
- 2.Журнал технической физики, том 29, вып. 3, с. 278-288, 1959.гч-. 16
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762343773A SU614133A1 (ru) | 1976-04-05 | 1976-04-05 | Испаритель электропровод щих материалов |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762343773A SU614133A1 (ru) | 1976-04-05 | 1976-04-05 | Испаритель электропровод щих материалов |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU614133A1 true SU614133A1 (ru) | 1978-06-05 |
Family
ID=20655560
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU762343773A SU614133A1 (ru) | 1976-04-05 | 1976-04-05 | Испаритель электропровод щих материалов |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU614133A1 (ru) |
-
1976
- 1976-04-05 SU SU762343773A patent/SU614133A1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0396603B1 (en) | Procedure and apparatus for the coating of materials by means of a pulsating plasma beam | |
US3793179A (en) | Apparatus for metal evaporation coating | |
US4551221A (en) | Vacuum-arc plasma apparatus | |
US4430184A (en) | Evaporation arc stabilization | |
US20080210545A1 (en) | Method and Apparatus for Producing Electric Discharges | |
JPH0627323B2 (ja) | スパツタリング方法及びその装置 | |
JPH09512304A (ja) | イオン支援された真空コーティング方法並びに装置 | |
JPH11273580A (ja) | イオン源 | |
SU614133A1 (ru) | Испаритель электропровод щих материалов | |
JP2006169630A (ja) | 基体上への材料の陰極アーク堆積方法 | |
Batrakov et al. | Increasing the electric strength of vacuum insulation by irradiating the electrodes with a low-energy high-current electron beam | |
US3883679A (en) | Vapor source assembly | |
SU661042A1 (ru) | Устройство дл испарени электропровод щих материалов в вакууме | |
SU1199807A1 (ru) | Способ поверхностной обработки токопровод щих материалов | |
SU1123313A1 (ru) | Электродуговой испаритель | |
SU1053525A1 (ru) | Устройство возбуждени дугового разр да в вакууме | |
Eltchaninov et al. | Electron beam accelerator with high pulse recurrence frequency | |
SU761603A1 (ru) | Устройство для электродугового испарения в вакууме 1 | |
RU2098512C1 (ru) | Вакуумно-дуговой источник плазмы | |
JP2769506B2 (ja) | イオン源 | |
JPS6348931Y2 (ru) | ||
SU953004A1 (ru) | Электродуговой испаритель металлов | |
SU529712A1 (ru) | Источник ионов металлов | |
SU1144417A1 (ru) | Устройство дл обработки изделий в вакууме | |
RU2037559C1 (ru) | Способ нанесения покрытий на изделия методом ионного распыления и устройство для его осуществления |