SU581893A3 - Состав и способ изготовлени полупроводникового нагревательного элемента - Google Patents
Состав и способ изготовлени полупроводникового нагревательного элементаInfo
- Publication number
- SU581893A3 SU581893A3 SU7301926698A SU1926698A SU581893A3 SU 581893 A3 SU581893 A3 SU 581893A3 SU 7301926698 A SU7301926698 A SU 7301926698A SU 1926698 A SU1926698 A SU 1926698A SU 581893 A3 SU581893 A3 SU 581893A3
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- semiconductor
- cation
- buffer
- valence
- composition
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 27
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 22
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 21
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 18
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 11
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 5
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YKYOUMDCQGMQQO-UHFFFAOYSA-L cadmium dichloride Chemical compound Cl[Cd]Cl YKYOUMDCQGMQQO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- -1 oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 2
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- DAMJCWMGELCIMI-UHFFFAOYSA-N benzyl n-(2-oxopyrrolidin-3-yl)carbamate Chemical compound C=1C=CC=CC=1COC(=O)NC1CCNC1=O DAMJCWMGELCIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 1
- GKDXQAKPHKQZSC-UHFFFAOYSA-L cadmium(2+);carbonate Chemical class [Cd+2].[O-]C([O-])=O GKDXQAKPHKQZSC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000003181 co-melting Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007590 electrostatic spraying Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 210000003537 structural cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000007725 thermal activation Methods 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N uranium Chemical compound [U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U] DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003245 working effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/84—Heating arrangements specially adapted for transparent or reflecting areas, e.g. for demisting or de-icing windows, mirrors or vehicle windshields
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/10—Heating elements characterised by the composition or nature of the materials or by the arrangement of the conductor
- H05B3/12—Heating elements characterised by the composition or nature of the materials or by the arrangement of the conductor characterised by the composition or nature of the conductive material
- H05B3/14—Heating elements characterised by the composition or nature of the materials or by the arrangement of the conductor characterised by the composition or nature of the conductive material the material being non-metallic
- H05B3/141—Conductive ceramics, e.g. metal oxides, metal carbides, barium titanate, ferrites, zirconia, vitrous compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B2203/00—Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
- H05B2203/017—Manufacturing methods or apparatus for heaters
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Description
(54) СОСТАВ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО НАГРЕВАТЕЛЬНОГО ЭЛЕМЕНТА ности и примесей и способ его изготовлени , включающий нанесение состава на поверхность нагревател и иоследуюшую термическую обработку 3. Недостатком известных составов дл полупроводниковых нагревательных элементов в;1 етс их мала устойчивость к электрически .м нагрузкам. Цель изобретени - повышение термоста бильности нагревател . Поставленна цель достигаетс тем, что смесь дополнительно содержит буфер; буфером вл ютс окиси, галогениды, металлоорганические соединени , карбиды и карбонаты, катион которых имеет ионный радиус на 20% меньше ионного радиуса катиона полулроводника; полупроводник электронного типа содержит буфер, валентность катиона которого ниже максимальной валентности катиона полупроводника на I-3 валентности; полупроводник дырочного типа содержит буфер, валентность катиона которого выше максимальной валентности катиона полуроводника на 1-3 валентности. Перед нанесением смеси на поверхность нагревател ее подвергают активации путем последовательного плавлени и быстрого охлаждени с одновременным интенсивным дроблением . Катионы термоэлектрического буфера должны иметь близкие по размеру ионные радиусы , чтобы они могли взаимно замещатьс в чейках решетки, т. е. образовывать посто нный раствор, а в результате буферовать соето ние электропроводимости. Вследствие небольшого радиуса катиона тер.моэлектрического буфера, он не соответствует размерам структурной чейки решетки, не укладываетс в углах решетки, а занимает пространство в середине кристаллографической чейки, в результате чего он действует в качестве примеси, уменьшающей работу выхода носителей тока, повыша тем самым проводимость . При высокой температуре электрические услови позвол ют ему зан ть место в освобожденных узлах рещетки, вследствие чего образуютс носители тока, по своему типу противоположные основным показател м. Дальше наступает частична рекомбинаци и число носителей тока уменьшаетс , возвраща сь в исходное состо ние. Как сами примеси, так и буферные вещества только тогда про вл ют свое действие, если их ввод т путе.м смешивани и совместного плавлени или плавлени и размельчени , а затем все вещество вновь подвергают нескольким подогревам до температуры, близкой те.мпературе плавлени смеси, и интенсивному дроблению при одновременном быстром охлаждении . Тогда наступает равномерное и,активное раз.мещение при.месей буфера Б основной решетке базового материала. Из приготовленной таким образом смеси можно получить электропровод щие пленки с сопротивленим до 1 ом на квадратную единицу и нагрузку мощности свыще 20 вт/цм. Приготовление и активаци полупроводника с электрически.м буфером осуществл етс носредством предварительного смешивани комионентов изготовл емой смеси либо путем предварительного плавлени , или растворени в растворителе, либо путем диспергировани в разбавителе, таком как вода, спирты, кислоты , эфиры. После тщательного смешивани растворов жидкость подвергают выпариванию либо дистилл ции, а далее провод т процесс термоактивации, несколько раз расплавл , а затем быстро охлажда при одновременном быстром дроблении. В качестве основного вещества может быть использовано большинство химических соединений, катион которых обладает Переменной валентностью и которые достаточно устойчивы, например галогениды, окиси, металлические соединени , карбонаты инди , кадми , ниоби , ванади , олова, висмута , урана. В качестве электротермического буфера используют химическое соединение, катион которого имеет ионный радиус по меньщей мере на 20% .меньше ионного радиуса катиона базового материала. Причем в случае проводимости электронного типа примен ют химические соединени , катион которых обладает валентностью ниже максимальной валентности катиона базового полупроводника, а в случае проводимости дырочного типа - химические соединени , валентность катиона которых выше валентности катиона базового полупроводника . Наиболее выгодно примен ть такие соединени , как окиси, галогениды, металлоорганические соединени - карбиды и карбонаты. Примесные полупроводники, изготовленные согласно изобретению, могут наноситьс на поверхность стекла, фарфора и им подобных материалов путем покрывани , сублимации , электростатического напылени , причем нанос т два полупроводниковых сло : первый слой без примеси, а второй с примесью и термоэлектрическим буфером. Вертикальна пол ризаци , образовавша с в этих двух сло х, содействует стабилизации и долговечности нагревательных элементов . Они впаиваютс в разогретую поверхность термостойкого материала и создают мономолекул рную поверхность - прозрачный провод щий слой. Это свойство сохранени прозрачности при небольшом стабильном сопротивлении сло создает широкие возможности применени в стекл нной и кварцевой нагревательой химической аппаратуре, дл обогрева оконных стекол в автомобил х, самолетах, кораб х , а также в обширном ассотрименте нагревательных приборов до.машнего обихода, суилок , отогрева .чо;1одильников и отоплени омов Ниже приведены при.меры приготовлени и активации примесных полупроводников основного и с термоэлектрическим буфером. Пример 1. Состав основной смеси, при .мен емой в качестве основы полупроводник, вес.ч.: Гидратированный хлорид олова 150 Примеси: треххлориста сурьма10 фтористый аммоний2
Пример 2. Состав смеси с примес ми и буфером, вес.ч.:
Гидратированиый хлорид олова120 Трсххлориста сурьма9
Фтористый аммоний2
Закись меди1
Хлорид кадми 1
Смеси, каждую отдельно, плав т, а затем, охлажда , тщательно размельчают. Размельченные смеси нанос т путем покрывани , сублимации или напылени на поверхность стекл нных изделий, подогретых до температуры, отвечающей температурному диапазону отжига данного стекла. Причем сначала накладывают основной слой в качестве основы, пользу сь смесью согласно примеру 1, а затем на него накладывают второй слой с примес ми и буфером , пользу сь смесью согласно примеру 2.
Claims (4)
1. Состав дл изготовлени полупроводникового нагревательного элемента, представл ющий собой смесь полупроводника переменной валентности и примесей, отличающийс те.м что,с целью повышени термостабильности нагревател , смесь допо;1нительпо содержит буфер .
2. Состав по п. 1, отличаюи ийс тем, что буфером вл ютс окиси, галогсниды, металлоорганическ е соединени , карбиды и карбонаты , катион которых имеет ионный радиус на 20VG меньше ионного радиуса катиона иолугфовол .ника.
3.Состав по п. 1, отличающийс тем, что полупроводник электронного тина содержит буфер , валентность катиона которого ниже максимальной валентности катиона полупр()К)дника на 1-3 валентности.
4.Состав по п. 1, отличающийс гем, что полупроводник дырочного типа содержит буфер , валентность катиона которого выше максимальной валентности катиона полупроводника на 1-3 валентности.
5, Способ изгото, ;ени состава по п. 1, включающий Haneceiiiie состава на новерхность нагревател и пос.чедующую термическую обработку , отличающийс тем, что перед нанесением смеси на поверхность нагревател ее подвергают активации путем последовате,пьного плавлени и быстрого охлаждени с одновременным интенсивным дроблением.
Источники информации, нрип тые во внимание при экспертизе:
1.Barta К., lilawac J. «Sklarstwi SXTL Praha, 1963, p. 163-164.
2.Espew «Werkstoffkunde der Kochrakuiimtechnik Band 11 VEB Deutscher Verlag der XVissenschaften Berlin, 1966, s. 253- 257
3.Fritzsche Ch. Технологи полупроводниковых материалов. PWN, Warszawa, 1963.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PL1972156060A PL95493B1 (pl) | 1972-06-17 | 1972-06-17 | Sposob wytwarzania polprzewodnikow niesamoist zejnictwa elektrycznego |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU581893A3 true SU581893A3 (ru) | 1977-11-25 |
Family
ID=19958976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU7301926698A SU581893A3 (ru) | 1972-06-17 | 1973-06-11 | Состав и способ изготовлени полупроводникового нагревательного элемента |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3953372A (ru) |
BE (1) | BE801000A (ru) |
CS (1) | CS180617B2 (ru) |
DD (1) | DD104675A5 (ru) |
FR (1) | FR2190023A7 (ru) |
GB (1) | GB1442638A (ru) |
HU (1) | HU169124B (ru) |
IT (1) | IT990649B (ru) |
NL (1) | NL7308374A (ru) |
PL (1) | PL95493B1 (ru) |
SU (1) | SU581893A3 (ru) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107949080A (zh) * | 2017-11-17 | 2018-04-20 | 广东中科智道热源科技有限公司 | 一种电热转换体涂层及制备方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2687395A (en) * | 1951-03-06 | 1954-08-24 | Du Pont | Methyl methacrylate polymer of improved electrical conductivity |
US3669907A (en) * | 1966-12-07 | 1972-06-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Semiconductive elements |
US3654187A (en) * | 1968-01-30 | 1972-04-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Conductive film for electric heater |
US3719609A (en) * | 1970-12-08 | 1973-03-06 | North American Rockwell | Synthesis of ionically conductive compositions of matter |
US3692573A (en) * | 1971-04-05 | 1972-09-19 | Alexander G Gurwood | Electroconductive and heat barrier coatings for ceramic bodies |
-
1972
- 1972-06-17 PL PL1972156060A patent/PL95493B1/pl unknown
-
1973
- 1973-06-11 SU SU7301926698A patent/SU581893A3/ru active
- 1973-06-12 CS CS7300004235A patent/CS180617B2/cs unknown
- 1973-06-13 US US05/369,610 patent/US3953372A/en not_active Expired - Lifetime
- 1973-06-14 HU HUSA2500A patent/HU169124B/hu unknown
- 1973-06-15 IT IT25452/73A patent/IT990649B/it active
- 1973-06-15 GB GB2849373A patent/GB1442638A/en not_active Expired
- 1973-06-15 BE BE132343A patent/BE801000A/xx unknown
- 1973-06-15 DD DD171581A patent/DD104675A5/xx unknown
- 1973-06-15 NL NL7308374A patent/NL7308374A/xx unknown
- 1973-06-18 FR FR7322067A patent/FR2190023A7/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2331011B2 (de) | 1976-07-15 |
US3953372A (en) | 1976-04-27 |
CS180617B2 (en) | 1978-01-31 |
NL7308374A (ru) | 1973-12-19 |
GB1442638A (en) | 1976-07-14 |
FR2190023A7 (ru) | 1974-01-25 |
HU169124B (ru) | 1976-09-28 |
DE2331011A1 (de) | 1974-01-03 |
BE801000A (fr) | 1973-10-01 |
DD104675A5 (ru) | 1974-03-12 |
PL95493B1 (pl) | 1977-10-31 |
IT990649B (it) | 1975-07-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0280362B1 (de) | Dünnschicht-Heizelement | |
Wang et al. | Centimeter‐Sized Single Crystals of Two‐Dimensional Hybrid Iodide Double Perovskite (4, 4‐Difluoropiperidinium) 4AgBiI8 for High‐Temperature Ferroelectricity and Efficient X‐Ray Detection | |
Greenblatt | Molybdenum oxide bronzes with quasi-low-dimensional properties | |
Wang et al. | High temperature thermoelectric response of electron-doped CaMnO3 | |
Chester | Cross‐Doping Agents for Rutile Masers | |
SU581893A3 (ru) | Состав и способ изготовлени полупроводникового нагревательного элемента | |
Agnihotri et al. | The effect of tin additions on indium oxide selective coatings | |
Zhao et al. | Enhanced electrical and photocurrent characteristics of sol-gel derived Ni-doped PbTiO3 thin films | |
Henderson et al. | Optical Spectrum of Single‐Crystal Nd2S3 | |
Attou et al. | Predicting the structural, optoelectronic, dynamical stability and transport properties of Boron-doped CaTiO3: DFT based study | |
CN104486849A (zh) | 一种用于制备半导体电热膜的饱和溶液 | |
Sundaram et al. | High-temperature annealing effects on tin oxide films | |
DE2642161C2 (de) | Stromleitender Film für elektrische Heizgeräte | |
Dissanayake et al. | Structure and conductivity of an Li 4 SiO 4–Li 2 SO 4 solid solution phase | |
Fotsing et al. | Annealing and doping effects in layered In2Se3 compounds | |
Phillips et al. | X-Ray crystal structure of the organic conductor from 2, 2′-bi-(2, 4-diselenabicyclo [3.3. 0] octylidene) and 7, 7, 8, 8-tetracyano-p-quinodimethane (HMTSF–TCNQ) | |
US3305486A (en) | Semiconductor material and method of making the same | |
WO1999045571A2 (es) | Frita dopante adecuada para la fabricacion de esmaltes ceramicos conductores | |
Kato et al. | Rapid preparation of high-Tc superconductors of the Bi-2212 phase using a domestic microwave oven | |
El-Fadl | Effect of divalent-ions-doping on the absorption spectra and optical parameters of triglycine sulphate crystals | |
Wang et al. | Active and passive defects in tetragonal tungsten bronze relaxor ferroelectrics | |
GB1088958A (en) | Improvements relating to the treatment of semi-conductor materials | |
US3306857A (en) | Solid solution of w-v sc and thermoelectric element consisting of same | |
US3137587A (en) | Method and apparatus for the manufacture of semiconductor film-type hall generators | |
Zhou et al. | Effect of polarization on photoexcited carrier dynamics in ferroelectric thin films |