SU348132A1 - Способ присоединени монокристаллических пластин кремни к инородным подложкам - Google Patents

Способ присоединени монокристаллических пластин кремни к инородным подложкам

Info

Publication number
SU348132A1
SU348132A1 SU6901305098A SU1305098A SU348132A1 SU 348132 A1 SU348132 A1 SU 348132A1 SU 6901305098 A SU6901305098 A SU 6901305098A SU 1305098 A SU1305098 A SU 1305098A SU 348132 A1 SU348132 A1 SU 348132A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
foreign
plates
crystal
monocrystaline
substrata
Prior art date
Application number
SU6901305098A
Other languages
English (en)
Inventor
Э.А. Клименко
А.В. Ржанов
Л.Н. Александров
А.Г. Клименко
Original Assignee
Институт Физики Полупроводников Со Ан Ссср
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт Физики Полупроводников Со Ан Ссср filed Critical Институт Физики Полупроводников Со Ан Ссср
Priority to SU6901305098A priority Critical patent/SU348132A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU348132A1 publication Critical patent/SU348132A1/ru

Links

Landscapes

  • Recrystallisation Techniques (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

Изобретение относитс  к области полупроводниковой технологии, в част ности к технологии изготовлени  моно кристаллических слоев полупроводнико на различных инородных подложках. В известных способах эпитаксиального наращивани  мЬнбкрйсталлических слоев на инородных монокристаллических подложках и- электроннолучевой перекристаллизации и реотаксиальнрго наращивани  на инородных поликристал лических подложках имеют место ограниченность выбора подложек и наличие в сло х больших механических напр жений вследствие значительного различи  в коэффициентах термического расширени , а также несоответстви  параметров решетки материалов сло  и подложки. Цель изобретени  - разработка спо соба присоединени  монокристаллических пластин к инородным подложкам, n которому не происходило бы заметного изменени  электрофизических и структурных свойств присоедин емых к подложкам монокристаллических пластин. риала, имеющего меньшую температуру ; плавлени ,- чем температура плавлени  материала пластины, н способного об- . разовывать с материалом пластины непрерывную систему равновесных твердых растворов. В результате прочно соедин ютс  подложка с промежуточным слоем при расплавлении последнего, а также промежуточный слой с монокристаллической пластиной при температурах, при которых материал пластины еще относительно мало химически активен, Примером реализации предлагаемого способа может служить присоединение пластины кремни  к подложке из муллитовой керамики посредством промежуточного сло  из германи . На пластину кремни  нанос т слой германи , сверху накладывают плоскую керамическую подложку и в вакууме мм.рт.ст. разогревают до 9371420 С , т.е. в диапазоне температур, соответствующих образованию равновесных pacTBOpQB системы германий-крем ний . Скорость нагрева составл ет не более 15 град/мин. При этом между пластиной кремни  и подложкой образуетс  жидкий слой равновесного раствора CHc-itMiiMiiiiiiijiM|iiMi H i . Затем
снижают температуру со скоростью не более 15 град/мин, в результате чего жидкий слой раствора германий-кремний кристаллизуетс  в внде монокристалла, а кремнева  пластинка оказываетс  прочно соединенной с инородно подложкой
Нанесение сло  гех лани производ т либо путем его напылени  в вакууме, либо наложением тонкой {30-40 мкм) пластинки германи  на пластину кремни .

Claims (1)

  1. Формула изобретени  Способ присоединени  монокристаллическИх пластин кремни  к инородным подложкам посредством монокристаллических прослоек равновесных твердых растворов вещества присоедин емого кристалла, отличающийс  тем, что, с целью сохранени  свойств и структуры монокристаллических пластин в области их контакта с подложкой , в качестве прослойки используют ге рманий близкий по своим свойствам к присоедин емому кремнию.
SU6901305098A 1969-02-04 1969-02-04 Способ присоединени монокристаллических пластин кремни к инородным подложкам SU348132A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU6901305098A SU348132A1 (ru) 1969-02-04 1969-02-04 Способ присоединени монокристаллических пластин кремни к инородным подложкам

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU6901305098A SU348132A1 (ru) 1969-02-04 1969-02-04 Способ присоединени монокристаллических пластин кремни к инородным подложкам

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU348132A1 true SU348132A1 (ru) 1979-01-25

Family

ID=20444644

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU6901305098A SU348132A1 (ru) 1969-02-04 1969-02-04 Способ присоединени монокристаллических пластин кремни к инородным подложкам

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU348132A1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU565091B2 (en) Thin film photovoltaic cell
CA2075020A1 (en) Method for preparing semiconductor member
ATE522930T1 (de) Herstellungsverfahren von epitaxial gewachsenen schichten auf einer verbundstruktur
JPS6466929A (en) Method of forming defect-free single crystal thin layer of semiconductor material
US3484302A (en) Method of growing semiconductor crystals
CA2030484A1 (en) Semiconductor pressure sensor and method for manufacturing the same
US3621565A (en) Fabrication of single-crystal film semiconductor devices
FR2391561A1 (fr) Procede de formation de couches de silicium polycristallin sur une pastille semi-conductrice
JPS5993000A (ja) 単結晶薄膜製造用基板
SU348132A1 (ru) Способ присоединени монокристаллических пластин кремни к инородным подложкам
Nakamura On the Domain Structure of Rochelle Salt Crystal
JPS6046539B2 (ja) シリコン結晶膜の製造方法
JPS6314449A (ja) 誘電体分離基板の製造方法
JP3350972B2 (ja) 半導体結晶の接着方法
JPH04267518A (ja) 半導体薄膜素子の製造方法
JP2608443B2 (ja) 半導体ウエハの製造方法
JPH01230255A (ja) 半導体基板の製造方法
JPS62260358A (ja) Soi基板及びその製造方法
JPH01146322A (ja) 固体結合体の製造方法
JP2802439B2 (ja) 半導体基板
SU270076A1 (ru) Способ получени монокристаллических пленок на аморфной подложке
JPH0235716B2 (ru)
JPS60255698A (ja) 化合物半導体製造用部材及びその製造法
JPH034028Y2 (ru)
JPS61121478A (ja) 半導体圧力センサの製造方法