SU138791A1

SU138791A1 - Method for producing multicomponent ferromagnetic films by cathode sputtering

Info

Publication number: SU138791A1
Application number: SU682125A
Authority: SU
Inventors: Р.Д. Иванов; И.Г. Сиротенко; Г.В. Спивак
Original assignee: Р.Д. Иванов; И.Г. Сиротенко; Г.В. Спивак
Priority date: 1960-10-14
Filing date: 1960-10-14
Publication date: 1960-11-30

Description

Известны способы получени многокомпонентных пленок катодным распылением. Однако эти способы не позвол ют получить пленки однородного состава.Methods are known for producing multi-component films by cathode sputtering. However, these methods do not allow films of uniform composition to be obtained.

Дл получени более однородного состава пленки и ускорени процесса распылени предлагаетс способ, в котором исходный ферромагнитный материал подвергают катодному распылению в магнитном поле.To obtain a more uniform film composition and accelerate the sputtering process, a method is proposed in which the ferromagnetic source material is subjected to cathode sputtering in a magnetic field.

По предлагаемому способу ферромагнитные пленки получают в газоразр дной плазме при большой плотности тока и низком давлении. Плазма в инертном газе - криптоне создаетс в трехэлектродной трубке , куда в пространство между катодом и анодом ввод т образцы. На образцы подают отрицательные относительно катода потенциалы. На рассто нии 2-3 см от распыл емого образца помещают стекл нную подложку, на которую осаждают распыл емый материал. Подложку подогревают спиралью, питаемую электрическим током. Дл того, чтобы задать направление оси намагничени пленки, осаждение ее ведут в. магнитном поле (около 175-200 эрст), которое дополнительно концентрирует плазму, стагива ее в область распыл емого образца. Это увеличивает плотность тока и ускор ет процесс распылени .In the proposed method, ferromagnetic films are obtained in a gas discharge plasma with a high current density and low pressure. Plasma in an inert gas — krypton is created in a three-electrode tube, where samples are introduced into the space between the cathode and the anode. The samples are fed negative relative to the cathode potentials. At a distance of 2–3 cm from the sprayed sample, a glass substrate is placed on which the sprayed material is deposited. The substrate is heated by a spiral, fed by electric current. In order to set the direction of the magnetization axis of the film, its deposition is carried out in. a magnetic field (about 175–200 hp), which additionally concentrates the plasma, stagging it into the region of the sprayed sample. This increases the current density and speeds up the spraying process.

Предложенным способом были получены качественные пленки ко бальта, кремнистого железа, молибденового пермолло с доменной структурой. Петли гистерезиса, сн тые с полученных пленок, оказались пр моугольными при величинах коэрцитивной силы, соответствующих требовани м.The proposed method was used to obtain high-quality films of cobalt, siliceous iron, and molybdenum permollo with a domain structure. The hysteresis loops removed from the films obtained turned out to be rectangular at coercive force values corresponding to the requirements.

Предмет изобретени Subject invention

Способ получени многокомпонентных ферромагнитных пленок катодным распылением, отличающийс тем, что, с целью получени более однородного состава пленки и ускорени процесса раопылени , исходный ферромагнитный материал подвергают катодному распылению в магнитном поле.A method for producing multicomponent ferromagnetic films by cathode sputtering, characterized in that, in order to obtain a more uniform film composition and speed up the sputtering process, the initial ferromagnetic material is subjected to cathode sputtering in a magnetic field.