SU1212772A1 - Абразивное полотно - Google Patents

Абразивное полотно Download PDF

Info

Publication number
SU1212772A1
SU1212772A1 SU843726362A SU3726362A SU1212772A1 SU 1212772 A1 SU1212772 A1 SU 1212772A1 SU 843726362 A SU843726362 A SU 843726362A SU 3726362 A SU3726362 A SU 3726362A SU 1212772 A1 SU1212772 A1 SU 1212772A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
abrasive
fibers
web
diameter
polyvinyl chloride
Prior art date
Application number
SU843726362A
Other languages
English (en)
Inventor
Александр Михайлович Мазин
Рем Александрович Родионов
Валентина Андреевна Смирнова
Дмитрий Дмитриевич Мозжухин
Original Assignee
Предприятие П/Я Х-5476
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я Х-5476 filed Critical Предприятие П/Я Х-5476
Priority to SU843726362A priority Critical patent/SU1212772A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1212772A1 publication Critical patent/SU1212772A1/ru

Links

Landscapes

  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Description

1
Изобретение относитс  к абразивной обработке плоских поверхностей деталей и может быть использовано в оптике- и микроэлектронике, в частности, при обработке стекл нных пластин дл  прецизионных фотошаблонов и обработке полупроводниковых пластин. . -
Целью изобретени   вл етс  повышение производител11НО(1ти обработки и у/1уч)аенке качества -обрабатьшаемой noBeipxHocTH.
Натуральные органические волокна по своей структуре резко отличаютс  от синтетических волокон и обладают лучшими свойствами сорбировани  на свою поверхность мельчайших частиц. Добавка в основу равномерно распределенных натуральнь1х волокон приводит к более полному и равномерному насыщению всего объема полотна абразивными частицами.
Роль св зующего в полотне вьтол- н ют поливинилхлоридные волокна. Дп  этого полотно подвергаетс  на-; греву до Su c, поливинилхлоридные волокна при этой температуре частично разм гчаютс , происходит их спайка в местах пересечени . При этом органические волокна, вход щие в состав основы, играют роль разрыхлител  дл  придани  объема полотну, что способствует лучшему насьш1еншо его абразивом.
Таким образом, возникает м гкий эластичный каркас полотна, сохран ющий свою структуру, в котором равномерно по всему объему закрепл етс  относительно свободный абразив, обладающий высокими режущими способност ми, что приводит к повьш нию скорости съема обрабатьшаемого материала и улучшению качества поверхности . Кроме того, увеличиваетс сро.к службы полотна.
Снижение содержани  натуральных волокон ниже 5% уменьшает суммарное сорбирование частиц абразива, умень шает объем полотна, вызывающее плохое насьш;ение полотна абразивом, что приводит к уменьшению скорости съема обрабатьтаемого материала.
11овьш1ение содержани  натуральных волокон бол1ее 15% приводит к значительному разрыхлению основы, ослаблению ее, что снижает стойкость полотна к истиранию, уменьшает его прочность, прочность закреплени 
212772I
.абразива в полотне и, таким образом, приводит к уменьшению скорости съема материала и сокращает срок службы полотна.
5 Уменьшение- содержани  абразива менее 35% приводит к неполному и неравномерному насыщению им полотна что снижает скорость съема материала и ухудшает качество поверхности
10 обрабатьшаемых деталей.
Повышение содержани  абразива более 45% приводит к возникновению в объеме полотна локальных участков с моносло ми абразива, не контакти-
15 рующего с волокнами основы, что практически не повътает скорость съема материала, увеличивает расход абразива и снижает прочность полотна. Уменьшение содержани  поливинил20 хлоридных.волокон менее 45% вызьша- ет уменьшение количества точек пересечени  и спайки волокон, уменьшение прочности полотна и надежности фиксации в нем абразивных частиц, что
25 приводит к уменьшению скорости съема материала и ухудшает качество поверхности обрабатываемых деталей.
Увеличение содержани  поливинил- хлоридных волокон более 55% повыша30 ет плотность и жесткость полотна, способствует образованию в его объеме локальных уплотнений и точек, что приводит к ухудшению качества обрабатьшаемой поверхности.
, Уменьшение диаметра волокон
основы менее 10 мкм уменьшает количе - ство частиц абразива, сорбирующихс  на поверхности волокна, что рез . ко уменьшает насьшчение полотна абра . зивом и приводит к уменьшению скорое- ти съема материала и ухудшению качества поверхности деталей. Увеличение диаметра волокон основы более 30 мкм вызывает чрезмерное повышение - жесткости полотна, возникновение в его объеме микрообластей с зшлотнен- ным полотном, нарушающих однородность структуры полотна, что приводит к резкому ухудшению качества поверхности обрабатываемых деталей.
Пример 1. Из смеси 17% натуральных органических волокон диаметром 10-30 мкм и 83% поливинил хлоридньпс волокон диаметром 10- 30 мкм, Ь3% поливинилхлоридных волокон диаметром 10-30 мкм извест-, ным способом получают объемное нетканое иглопробивное полотно,которое
50
55
пропитьшают абразивной суспензией на основе двуокиси цери  с максимальным размером частиц 5 мкм.Полученное полотно подсушивают на воздухе , а затемподвергают термообработке при в течение 3U мин.
Полученное полотно наклеивают на полировальные диски диаметром 630 мм.
Стекл нные пластины размером 102 Jtl ,4 после операции тонкой шлифовки подвергают полировке. В качестве полировальника используетс  предлагаемое полотно. Врем  полировани  1,5 ч. Чистоту поверхности определ ют после 15-ступен- чатой ультразвуковой отмьшки и сушки в парах изопропилового спирта визуальным контролем в проход щем и отраженном свете УФ-источника. Дефекты маскирующего сло  контролируютс  при 50-кратном увеличении под микроскопом МБС-2.
Пример 2. Из смеси 17% натуральных органических волокон диаметром 10-30 мкм и 83% поливинил- хлоридных волокон диаметром I0- 30 мкм известным способом получают объемное нетканое иглопробивное полотно. Это полотно подвергаетс  термообработке при и наклеиваетс  на иолировальные диски диаметром 120U мм.
Наклеенные диски пропитьюаютс  абразивной суспензией на основе двуокиси цери  с содержанием максимальных частиц до 5 мкм, до содер- :жани  абразива в полотне в количестве 35-45%. Стекл нные заготовки укладьшаютс  в сепараторы на нижний диск. Опускаетс  верхний диск и производитс  полировка, дополнительно дп  поддержани  посто нного соотношени  абразива, св зующего и волоко в процессе обработки на пластины, в зависимости от вида оборудовани  подаетс  абразивна  суспензи  плотностью 1,02-1,06 г/см с расходом 100-150 мл/мин.
Чистоту поверхности определ ют после 15-ступенчатой ультразвуковой отмьшки и сушки в парах изопропилов го спирта визуальным контролем в проход щем и отраженном свете УФ2127724
источника. Дефекты маскирующего сло  контролируютс  при 50-кратном увеличении под микроскопом МБС-2. Пример З.Из смеси 16% на5 туральньк органических волокон диаметром 10-30 мкм и 84% поливинил- хлоридных волокон диаметром 1U- 30 мкм известным способом получают объемное нетканое иглопробивное
10 полотно. Это полотно подвергаетс  термообработке при 80°С.
Из полученного полотна вырезаютс  круги и наклеиваютс  на полировальные диски диаметром 630 мм. Полотно
15 пропитываетс  абразивной суспензией плотностью 1,18-1,24 г/рм с содержанием частиц до 5 мкм.
Стекл нные заготовки укладываютс  в сепараторы на нижний диск стан20 ка двусторонней полировки, сверху прижимаютс  верхним диском. В процессе обработки дл  поддержани  посто нства процентного содержани  абразива в полотне периодически
25 подаетс  суспензи  1 раз через 4 - 5 мин по 25 мл.
Сравнительные данные по предлагаемому абразивному полотну и по известному полотну приведены в таб30 лице.
Примеры 1 - 3 показьшают достижение поставленной цели, примеры 4 и 5 - граничные значени  состава компонентов указанной формулы, примеры 6 и 7 - выход за пределы состава компонентов указанной формулы, пример 8 - по прототипу. Как видно из таблищ.1, использование предлагаемого абразивного полотна, по сравнению с известнь1м, позвол ет получить высококачественные фотошаблонные заготовки с улучшенным качеством поверхности при повышенной скорости съема.
Таким образом, использование предлагаемого полотна повьш1ает производительность и значительно улучшает качество процесса обработки, что позвол ет его рекомендовать к использованию в оптике и микроэлектронике при изготовлении прецизиои- ных фотошаблонных заготовок и обработке полупроводниковых пластин. ;
Составитель Н.Балашова Редактор Г.Волкова Техред О.Неце Корректор О.Лугова 
Заказ 703/22 Тираж 73УПодписное
ВНИИПИ Государственного комитета СССР
по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушска  наб., д.4/5
Филиал ШШ Патент, г.Ужгород, ул.Проектна ,4

Claims (2)

  1. (,54). 1 . АБРАЗИВНОЕ ПОЛОТНО, содержащее объемную иглопробивную основу из синтетических волокон и абразив, отличающееся тем, что, с целью повышения производительности обработки и улучшения качества обрабатываемой поверхности, оно дополнительно содержит натуральные органические волокна, а в качечестве синтетических волокон - поливинилхлоридные при следующем соотношении компонентов, мас.%:
    Абразив35-45
    Натуральные органические волокна5-15
    Поливинилхлоридные волокна45-55
  2. 2. Полотно по π.1, о т л и чага щ е е с я тем, что использованы волокна диаметром 10-30 мкм.
SU843726362A 1984-04-16 1984-04-16 Абразивное полотно SU1212772A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU843726362A SU1212772A1 (ru) 1984-04-16 1984-04-16 Абразивное полотно

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU843726362A SU1212772A1 (ru) 1984-04-16 1984-04-16 Абразивное полотно

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1212772A1 true SU1212772A1 (ru) 1986-02-23

Family

ID=21113491

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU843726362A SU1212772A1 (ru) 1984-04-16 1984-04-16 Абразивное полотно

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1212772A1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Патент FR № 1602106, кл. В 24 d,1970. За вка FR № 2058171, кл. В 24 D 3/00, 1971 . Авторское свидетельство СССР № 588110, кл. В 24 Р 11/02, 1978. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW474856B (en) Vitrified bond tool and method of manufacturing the same
KR100504098B1 (ko) 실리콘 반도체웨이퍼 및 다수 반도체웨이퍼의 제조방법
JPH0625654A (ja) 改良されたゾル−ゲルアルミナ研摩粒および製法
CA2672146C (en) Methods for machining inorganic, non-metallic workpieces
JP5907081B2 (ja) 合成石英ガラス基板の製造方法
JPS62297061A (ja) 多孔質パツド材料およびその製造方法
DE69938510T2 (de) Verfahren zur herstellung eines einkristallsiliziumkarbids
CN1857867A (zh) 用于平板超薄玻璃研磨工序的装载取出装置及其方法
DE10344602A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Halbleiterscheiben
US3485608A (en) Slurry for polishing silicon slices
CN114523340B (zh) 研磨抛光成套装备、研磨抛光方法
DE3148957A1 (de) "verfahren zur rueckseitengetternden oberflaechenbehandlung von halbleiterscheiben"
SU1212772A1 (ru) Абразивное полотно
CN114290132A (zh) 碳化硅晶片的表面处理方法
JPH0356870B2 (ru)
JPH11172236A (ja) 研削懸濁液を再生利用する方法
JP5977606B2 (ja) ワークの表面を処理するための研磨粒子付き表面処理用シート
CA1106611A (en) Process and apparatus for free polishing
KR20010049927A (ko) 콜로이드상 실리카 광택용 연마제
US7367865B2 (en) Methods for making wafers with low-defect surfaces, wafers obtained thereby and electronic components made from the wafers
JP2000343440A (ja) 研磨砥石及び研磨砥石の製造方法
JPH03234475A (ja) 研磨布
JP2007109777A (ja) GaN化合物半導体基板のメカノケミカル研磨方法及び研磨装置
JPS62292367A (ja) ダイヤモンド被覆弾性粒研磨シ−ト
US4108716A (en) Polishing of CdS crystals