SU1212772A1 - Абразивное полотно - Google Patents
Абразивное полотно Download PDFInfo
- Publication number
- SU1212772A1 SU1212772A1 SU843726362A SU3726362A SU1212772A1 SU 1212772 A1 SU1212772 A1 SU 1212772A1 SU 843726362 A SU843726362 A SU 843726362A SU 3726362 A SU3726362 A SU 3726362A SU 1212772 A1 SU1212772 A1 SU 1212772A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- abrasive
- fibers
- web
- diameter
- polyvinyl chloride
- Prior art date
Links
Landscapes
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Description
1
Изобретение относитс к абразивной обработке плоских поверхностей деталей и может быть использовано в оптике- и микроэлектронике, в частности, при обработке стекл нных пластин дл прецизионных фотошаблонов и обработке полупроводниковых пластин. . -
Целью изобретени вл етс повышение производител11НО(1ти обработки и у/1уч)аенке качества -обрабатьшаемой noBeipxHocTH.
Натуральные органические волокна по своей структуре резко отличаютс от синтетических волокон и обладают лучшими свойствами сорбировани на свою поверхность мельчайших частиц. Добавка в основу равномерно распределенных натуральнь1х волокон приводит к более полному и равномерному насыщению всего объема полотна абразивными частицами.
Роль св зующего в полотне вьтол- н ют поливинилхлоридные волокна. Дп этого полотно подвергаетс на-; греву до Su c, поливинилхлоридные волокна при этой температуре частично разм гчаютс , происходит их спайка в местах пересечени . При этом органические волокна, вход щие в состав основы, играют роль разрыхлител дл придани объема полотну, что способствует лучшему насьш1еншо его абразивом.
Таким образом, возникает м гкий эластичный каркас полотна, сохран ющий свою структуру, в котором равномерно по всему объему закрепл етс относительно свободный абразив, обладающий высокими режущими способност ми, что приводит к повьш нию скорости съема обрабатьшаемого материала и улучшению качества поверхности . Кроме того, увеличиваетс сро.к службы полотна.
Снижение содержани натуральных волокон ниже 5% уменьшает суммарное сорбирование частиц абразива, умень шает объем полотна, вызывающее плохое насьш;ение полотна абразивом, что приводит к уменьшению скорости съема обрабатьтаемого материала.
11овьш1ение содержани натуральных волокон бол1ее 15% приводит к значительному разрыхлению основы, ослаблению ее, что снижает стойкость полотна к истиранию, уменьшает его прочность, прочность закреплени
212772I
.абразива в полотне и, таким образом, приводит к уменьшению скорости съема материала и сокращает срок службы полотна.
5 Уменьшение- содержани абразива менее 35% приводит к неполному и неравномерному насыщению им полотна что снижает скорость съема материала и ухудшает качество поверхности
10 обрабатьшаемых деталей.
Повышение содержани абразива более 45% приводит к возникновению в объеме полотна локальных участков с моносло ми абразива, не контакти-
15 рующего с волокнами основы, что практически не повътает скорость съема материала, увеличивает расход абразива и снижает прочность полотна. Уменьшение содержани поливинил20 хлоридных.волокон менее 45% вызьша- ет уменьшение количества точек пересечени и спайки волокон, уменьшение прочности полотна и надежности фиксации в нем абразивных частиц, что
25 приводит к уменьшению скорости съема материала и ухудшает качество поверхности обрабатываемых деталей.
Увеличение содержани поливинил- хлоридных волокон более 55% повыша30 ет плотность и жесткость полотна, способствует образованию в его объеме локальных уплотнений и точек, что приводит к ухудшению качества обрабатьшаемой поверхности.
, Уменьшение диаметра волокон
основы менее 10 мкм уменьшает количе - ство частиц абразива, сорбирующихс на поверхности волокна, что рез . ко уменьшает насьшчение полотна абра . зивом и приводит к уменьшению скорое- ти съема материала и ухудшению качества поверхности деталей. Увеличение диаметра волокон основы более 30 мкм вызывает чрезмерное повышение - жесткости полотна, возникновение в его объеме микрообластей с зшлотнен- ным полотном, нарушающих однородность структуры полотна, что приводит к резкому ухудшению качества поверхности обрабатываемых деталей.
Пример 1. Из смеси 17% натуральных органических волокон диаметром 10-30 мкм и 83% поливинил хлоридньпс волокон диаметром 10- 30 мкм, Ь3% поливинилхлоридных волокон диаметром 10-30 мкм извест-, ным способом получают объемное нетканое иглопробивное полотно,которое
50
55
пропитьшают абразивной суспензией на основе двуокиси цери с максимальным размером частиц 5 мкм.Полученное полотно подсушивают на воздухе , а затемподвергают термообработке при в течение 3U мин.
Полученное полотно наклеивают на полировальные диски диаметром 630 мм.
Стекл нные пластины размером 102 Jtl ,4 после операции тонкой шлифовки подвергают полировке. В качестве полировальника используетс предлагаемое полотно. Врем полировани 1,5 ч. Чистоту поверхности определ ют после 15-ступен- чатой ультразвуковой отмьшки и сушки в парах изопропилового спирта визуальным контролем в проход щем и отраженном свете УФ-источника. Дефекты маскирующего сло контролируютс при 50-кратном увеличении под микроскопом МБС-2.
Пример 2. Из смеси 17% натуральных органических волокон диаметром 10-30 мкм и 83% поливинил- хлоридных волокон диаметром I0- 30 мкм известным способом получают объемное нетканое иглопробивное полотно. Это полотно подвергаетс термообработке при и наклеиваетс на иолировальные диски диаметром 120U мм.
Наклеенные диски пропитьюаютс абразивной суспензией на основе двуокиси цери с содержанием максимальных частиц до 5 мкм, до содер- :жани абразива в полотне в количестве 35-45%. Стекл нные заготовки укладьшаютс в сепараторы на нижний диск. Опускаетс верхний диск и производитс полировка, дополнительно дп поддержани посто нного соотношени абразива, св зующего и волоко в процессе обработки на пластины, в зависимости от вида оборудовани подаетс абразивна суспензи плотностью 1,02-1,06 г/см с расходом 100-150 мл/мин.
Чистоту поверхности определ ют после 15-ступенчатой ультразвуковой отмьшки и сушки в парах изопропилов го спирта визуальным контролем в проход щем и отраженном свете УФ2127724
источника. Дефекты маскирующего сло контролируютс при 50-кратном увеличении под микроскопом МБС-2. Пример З.Из смеси 16% на5 туральньк органических волокон диаметром 10-30 мкм и 84% поливинил- хлоридных волокон диаметром 1U- 30 мкм известным способом получают объемное нетканое иглопробивное
10 полотно. Это полотно подвергаетс термообработке при 80°С.
Из полученного полотна вырезаютс круги и наклеиваютс на полировальные диски диаметром 630 мм. Полотно
15 пропитываетс абразивной суспензией плотностью 1,18-1,24 г/рм с содержанием частиц до 5 мкм.
Стекл нные заготовки укладываютс в сепараторы на нижний диск стан20 ка двусторонней полировки, сверху прижимаютс верхним диском. В процессе обработки дл поддержани посто нства процентного содержани абразива в полотне периодически
25 подаетс суспензи 1 раз через 4 - 5 мин по 25 мл.
Сравнительные данные по предлагаемому абразивному полотну и по известному полотну приведены в таб30 лице.
Примеры 1 - 3 показьшают достижение поставленной цели, примеры 4 и 5 - граничные значени состава компонентов указанной формулы, примеры 6 и 7 - выход за пределы состава компонентов указанной формулы, пример 8 - по прототипу. Как видно из таблищ.1, использование предлагаемого абразивного полотна, по сравнению с известнь1м, позвол ет получить высококачественные фотошаблонные заготовки с улучшенным качеством поверхности при повышенной скорости съема.
Таким образом, использование предлагаемого полотна повьш1ает производительность и значительно улучшает качество процесса обработки, что позвол ет его рекомендовать к использованию в оптике и микроэлектронике при изготовлении прецизиои- ных фотошаблонных заготовок и обработке полупроводниковых пластин. ;
Составитель Н.Балашова Редактор Г.Волкова Техред О.Неце Корректор О.Лугова
Заказ 703/22 Тираж 73УПодписное
ВНИИПИ Государственного комитета СССР
по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушска наб., д.4/5
Филиал ШШ Патент, г.Ужгород, ул.Проектна ,4
Claims (2)
- (,54). 1 . АБРАЗИВНОЕ ПОЛОТНО, содержащее объемную иглопробивную основу из синтетических волокон и абразив, отличающееся тем, что, с целью повышения производительности обработки и улучшения качества обрабатываемой поверхности, оно дополнительно содержит натуральные органические волокна, а в качечестве синтетических волокон - поливинилхлоридные при следующем соотношении компонентов, мас.%:Абразив35-45Натуральные органические волокна5-15Поливинилхлоридные волокна45-55
- 2. Полотно по π.1, о т л и чага щ е е с я тем, что использованы волокна диаметром 10-30 мкм.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU843726362A SU1212772A1 (ru) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | Абразивное полотно |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU843726362A SU1212772A1 (ru) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | Абразивное полотно |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1212772A1 true SU1212772A1 (ru) | 1986-02-23 |
Family
ID=21113491
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU843726362A SU1212772A1 (ru) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | Абразивное полотно |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1212772A1 (ru) |
-
1984
- 1984-04-16 SU SU843726362A patent/SU1212772A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Патент FR № 1602106, кл. В 24 d,1970. За вка FR № 2058171, кл. В 24 D 3/00, 1971 . Авторское свидетельство СССР № 588110, кл. В 24 Р 11/02, 1978. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW474856B (en) | Vitrified bond tool and method of manufacturing the same | |
KR100504098B1 (ko) | 실리콘 반도체웨이퍼 및 다수 반도체웨이퍼의 제조방법 | |
JPH0625654A (ja) | 改良されたゾル−ゲルアルミナ研摩粒および製法 | |
CA2672146C (en) | Methods for machining inorganic, non-metallic workpieces | |
JP5907081B2 (ja) | 合成石英ガラス基板の製造方法 | |
JPS62297061A (ja) | 多孔質パツド材料およびその製造方法 | |
DE69938510T2 (de) | Verfahren zur herstellung eines einkristallsiliziumkarbids | |
CN1857867A (zh) | 用于平板超薄玻璃研磨工序的装载取出装置及其方法 | |
DE10344602A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Halbleiterscheiben | |
US3485608A (en) | Slurry for polishing silicon slices | |
CN114523340B (zh) | 研磨抛光成套装备、研磨抛光方法 | |
DE3148957A1 (de) | "verfahren zur rueckseitengetternden oberflaechenbehandlung von halbleiterscheiben" | |
SU1212772A1 (ru) | Абразивное полотно | |
CN114290132A (zh) | 碳化硅晶片的表面处理方法 | |
JPH0356870B2 (ru) | ||
JPH11172236A (ja) | 研削懸濁液を再生利用する方法 | |
JP5977606B2 (ja) | ワークの表面を処理するための研磨粒子付き表面処理用シート | |
CA1106611A (en) | Process and apparatus for free polishing | |
KR20010049927A (ko) | 콜로이드상 실리카 광택용 연마제 | |
US7367865B2 (en) | Methods for making wafers with low-defect surfaces, wafers obtained thereby and electronic components made from the wafers | |
JP2000343440A (ja) | 研磨砥石及び研磨砥石の製造方法 | |
JPH03234475A (ja) | 研磨布 | |
JP2007109777A (ja) | GaN化合物半導体基板のメカノケミカル研磨方法及び研磨装置 | |
JPS62292367A (ja) | ダイヤモンド被覆弾性粒研磨シ−ト | |
US4108716A (en) | Polishing of CdS crystals |