SU1191980A1 - Растровый электронный микроскоп - Google Patents

Растровый электронный микроскоп Download PDF

Info

Publication number
SU1191980A1
SU1191980A1 SU762399525A SU2399525A SU1191980A1 SU 1191980 A1 SU1191980 A1 SU 1191980A1 SU 762399525 A SU762399525 A SU 762399525A SU 2399525 A SU2399525 A SU 2399525A SU 1191980 A1 SU1191980 A1 SU 1191980A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
specimen
measured
measuring system
grid
measuring
Prior art date
Application number
SU762399525A
Other languages
English (en)
Inventor
Хох Вольфганг
Вильд Герхард
Original Assignee
Volfgang Khokh
Gerkhard Vild
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Volfgang Khokh, Gerkhard Vild filed Critical Volfgang Khokh
Application granted granted Critical
Publication of SU1191980A1 publication Critical patent/SU1191980A1/ru

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/20Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

со
00
Изобретение относитс  к электрон . ной микроскопии и может быть использовано дл  измерени  рассто ний между структурами объекта, преимущественно объектов микроэлектроники, например , полупроводниковых шайб и фотошаблонов .
Целью изобретени   вл етс  повышение точности ц снижение времени измерени  рассто ний.
,На фиг. 1 показана обща  схема РЗМ на фиг. 2 - масштабна  сетка дл  измерени  рассто ний.
. В вакуумированной электронно-оптической колонне 1 (фиг. 1) размещены источник 2 .электронов, система уменьшающих электромагнитных линз 3 и 4, электромагнитный стигматор 5 и аперТурна  диафрагма 6 дл  формировани  тонкосфокусированного пучка первичных электронов 7; Внутри рабочего канала линзы 4 размещена основна  отклон юща  система 8, предназначенна  дл  растрировани  поверхности объекта 9 в направлении осей X и У. Вблизи поверхности объекта установлены детекторы 10 и 11 электронов и датчик 12, имеющие вьгводы 13 из колонны 1. Генератор 14 основной развертки св зан с помощью электрической схемы 15 с отклон ющей системой 8 и с помощью коммутатора 16 с системами 17 отклонени  индикаторных блоков 18, 19, 20 С помощью электрической .схемы 15, представл ющей собой управл емьш усилйтель , можно регулировать увеличение , измен   токи в катушках основной отклон ющей системы 8.
Электронно-лучева  измерительна  система содержит позиционирукицее устройство в виде дополнительной отклон ющей системы 21, св занной с генератором 22 цифровых разверток позици .онировани  в направлении осей X и У с калиброванным шагом 0,02 мкм в диаиазоне отклонени  10 мкм. Электронно-лучевое позиционирование осуществл етс  вручную посредством перемещени  стрелки на генераторе 22 развертки , или автоматически при включенном переключателе 23 между генератором развертки 21 и управл кнцим блоком 24. Управл ющий блок может бьггь выполнен на базе малой управл ющей ЭВМ типа KSR4100 1(фирма Роботрон, ГДР Величина отклонени  в виде последот вательности целых чисел с шагом, соответствующим величине 0,02 мкм.
.может быть автоматически перенесена с учетом знака на устройство 25 отсчета , которое также может отображат результат измерени  лазерной измерительной системы.
Индикаторньй блок 20 выполнен с возможностью проецировани  на экра калиброванной масштабной сетки, что реализуетс  с помощью добавочного устройства 26. Масштабна  сетка выполнена таким образом, что учитьшаетс  точна  величина увеличени  и искажени  геометрической формы на кра х изображени .
Камера 27 объектов содержит прецизионный координатный стол 28 с диапазоном перемещени  объектодержател  до одного дециметра в направлении осей X и Ц. Прецизионные ходовые винты 29, которые соединены с координатным столом 28, и шаговые моторы 30 с блоками управлени  обеспечивают дистанционное управление перемещением объектодержател . Шаговые моторы 30 св заны с управл ющим блоком 24, периферическа  часть 31 которого служит дл  ввода данных.
Управл ющий блок 24 служит дл  . полного управлени  столом 28 и сравнени  заданного значени  перемещени  объекта со средним истинным значением , измеренным лазерной измерительно системой, подключенной в цепь обратной св зи управлени  столом.
Лазерна  измерительна  система оснащена He-Ne-лазером и образует инкрементальную измерительную систем с инкрементом ,04 мкм.
Две .измерительные призмы 32 лазерной измерительной системы дл  Xи У-направлений расположены непосредственно на координатном столе 28. Дв призмы 33 сравнени  дл  Х- и У-направлений расположены в камере 27 объектов таким образом, чтобы имело место небольшое ртносительное смещение между измерительными призмами и призмами сравнени  при изменении температуры камеры объекта. Дополнительно может быть предусмотрено устройство 34 дл  стабилизации температуры в камере 27 объектов. Видеоконтрольное устройство содержит также усилитель 35, св занный с коммутатором 16.
На фиг. 2 показана масштабна  сетка 36 с центром 37 и кра  38, 39 структур объекта.
Изображение кра  38 структуры объекта 9, полученное с помощью РЭМ путем ввода координат в периферическую часть 31 управл ющего блока 24 перемещени  стола 28 объектов при . определенном увеличении, вывод т в центр экрана индикаторного блока. Вследствие неточного ввода координат относите.льно нулевой точки координат объекта и погрешности позиционироваНИН стола край 38 структуры не находитс  точно в центре экрана, а смеще на рассто ние d, Это рассто ние определ ют с помощью проецируемой масштабной сетки 36, котора  в практике при увеличении 10000  вл етс  двухмерной решеткой с шагом делени  1 мм и соответствует в плоскости предмета шагу делени  0,1 мкм. Дополнительно считываютс  показани  D устройства 25 о,тсчета лазерной измерительной системы.
После этого устанавливают, по возможности , изображение кра  39 структуры объекта 9 в центре экрана с помощью ввода соответствующих координат и последующего перемещени  стола 28. Край 30 структуры расположен в общем случае на рассто нии d, ,которое также определ ют с помощью проецируемой на отражение масштабной сетки 36.
Дополнительно снимают показани  D2 устройства 25 отсчета лазерной измерительной системы и.вычисл ютрассто ние между кра ми структур 38 и 39 по формуле
A D2-D +d2-d;.
Величину d целесообразно привест к нулю перемещением кра  38 структуры с помощью электронно-лучевого позиционирующего устройства в центр 37 экрана, а величину D - занулением устройства 25 отсчета лазерной измерительной системы. Тогда искомое рассто ние рассчитывают следующим образом
,
где величина D  вл етс  перемещением объекта, измеренным с помощью лазерной измерительной системы,а величина d определена с помощью масштабной сетки, или благодар  перемещению кра  структуры 39 посредством позиционирующего устройства в центр экрана и отсчету соответствующих шагов перемещени . При этом кра  структуры всегда перемещаютс  в центрэкрана до перекрыти  с центром 37 мэсштабной сетки 36.
При автоматическом сложении измер емой величины D лазерной измерительной системы дл  перемещени  объекта с величиной d электронно-лучевото позиционировани  вывод т кра  структур 38 и 39 с помощью позиционирующего устройства по очереди до совмещени  с центром 37 экрана. Тогда измер ема  величина рассто ни  получаетс  автоматически и считываетс  с устройства 25 отсчета управл ющего блока 24.
Дл  определени  рассто ний между структурами объекта, которые можно полностью представить на экране, служит только электронно-лучева  измерительна  система, работающа  с высокой точностью. Дл  этого кра  структур 38 и 39 привод т соответствующим числом шагов в позиционирующем устройстве последовательно до перекрыти  краев с центром масштабной сетки в то врем  как объект остаетс  неподвижным. Разница в количестве шагов перемещени  дл  достижени  перекрыти  краев структур с центром сетки определ ет искомое рассто ние.
Таким образом, комбинированное использование лазерной измерительной системы и электронно-л.учевого позиционирующего устройства позвол ет измер ть рассто ни  с высокой точностью в широком диапазоне величин 0,1 10000 мкм при минимальных затратах времени.
38 36

Claims (1)

  1. ' РАСТРОВЫЙ ЭЛЕКТРОННЫЙ МИКРОСКОП, содержащий последовательно размещенные внутри Колонны источник электронов, систему электромагнитных линз, стигматор, апертурную диафрагму, основную отклоняющую систему и механизм перемещения объектодержателя с ходовыми винтами, связанными с шаговыми электродвигателями, а также двухкоординатную лазерную измерительную систему перемещения объектодержателя и видеоконтрольное устройство, включающее детектор электронов, усилитель и индикаторный блок с электронно-лучевой трубкой, отличающ и й с я тем, что, с целью повышения точности, и снижения времени измерения расстояний, он снабжен электронно-лучевой измерительной системой, содержащей позиционирующее устройство в виде дополнительной отклоняющей системы, связанной с генератором цифровых разверток, и управляющим β блоком, соединенным с генератором S цифровых разверток, выходом лазерной измерительной системы и шаговыми электродвигателями, а индикаторный блок выполнен с возможностью проецирования масштабной сетки.
SU762399525A 1975-09-24 1976-09-20 Растровый электронный микроскоп SU1191980A1 (ru)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD18851275A DD124091A1 (ru) 1975-09-24 1975-09-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1191980A1 true SU1191980A1 (ru) 1985-11-15

Family

ID=5501778

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU762399525A SU1191980A1 (ru) 1975-09-24 1976-09-20 Растровый электронный микроскоп

Country Status (5)

Country Link
DD (1) DD124091A1 (ru)
DE (1) DE2635356C2 (ru)
FR (1) FR2326030A1 (ru)
GB (1) GB1532862A (ru)
SU (1) SU1191980A1 (ru)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU534811B2 (en) * 1979-07-03 1984-02-16 Unisearch Limited Atmospheric scanning electron microscope
JPS5795056A (en) * 1980-12-05 1982-06-12 Hitachi Ltd Appearance inspecting process
JPS59112217A (ja) * 1982-11-29 1984-06-28 Toshiba Corp 寸法測定方法
JPS59163506A (ja) * 1983-03-09 1984-09-14 Hitachi Ltd 電子ビ−ム測長装置
EP0177566B1 (en) * 1984-03-20 1991-12-27 Bio-Rad Micromeasurements (Canada) Inc. Method for precision sem measurements
US4677296A (en) * 1984-09-24 1987-06-30 Siemens Aktiengesellschaft Apparatus and method for measuring lengths in a scanning particle microscope
DE3802598C1 (ru) * 1988-01-29 1989-04-13 Karl Heinz 3057 Neustadt De Stellmann

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3876879A (en) * 1973-11-09 1975-04-08 Calspan Corp Method and apparatus for determining surface characteristics incorporating a scanning electron microscope

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Патент DE № 2236530, кл. Н 01 J 37/20, опублик. 1975. Патент US № 3648048, кл. Н 01 J 37/20, опублик. 1972.. *

Also Published As

Publication number Publication date
DD124091A1 (ru) 1977-02-02
FR2326030B1 (ru) 1982-03-19
GB1532862A (en) 1978-11-22
FR2326030A1 (fr) 1977-04-22
DE2635356C2 (de) 1984-08-16
DE2635356A1 (de) 1977-04-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3876883A (en) Method and system for focusing and registration in electron beam projection microfabrication
US4567364A (en) Method and apparatus for measuring dimension of secondary electron emission object
US3894271A (en) Method and apparatus for aligning electron beams
EP0024884B1 (en) Method of detecting the position of a substrate using an electron beam
US4766311A (en) Method and apparatus for precision SEM measurements
US5747816A (en) Charged particle beam apparatus
US6583430B1 (en) Electron beam exposure method and apparatus
CA1103813A (en) Apparatus for electron beam lithography
US5155359A (en) Atomic scale calibration system
SU1191980A1 (ru) Растровый электронный микроскоп
JP2840801B2 (ja) 座標変換係数の自動設定方法
JPH0324771B2 (ru)
US4164658A (en) Charged-particle beam optical apparatus for imaging a mask on a specimen
US4264822A (en) Electron beam testing method and apparatus of mask
US3855023A (en) Manufacture of masks
US4152599A (en) Method for positioning a workpiece relative to a scanning field or a mask in a charged-particle beam apparatus
Tarui et al. Electron beam exposure system for integrated circuits
JP3260513B2 (ja) 荷電ビーム描画装置
JPS62149127A (ja) 荷電ビ−ム露光装置
JPH0375507A (ja) パターン検査方法およびその装置
JP2794606B2 (ja) 荷電粒子光学系のビーム軸の調整方法
JP2786662B2 (ja) 荷電ビーム描画方法
JP3252851B2 (ja) 電子線測長方法
JPS6312146A (ja) パタ−ン寸法計測方法
JPH034884Y2 (ru)