SU1191980A1 - Растровый электронный микроскоп - Google Patents
Растровый электронный микроскоп Download PDFInfo
- Publication number
- SU1191980A1 SU1191980A1 SU762399525A SU2399525A SU1191980A1 SU 1191980 A1 SU1191980 A1 SU 1191980A1 SU 762399525 A SU762399525 A SU 762399525A SU 2399525 A SU2399525 A SU 2399525A SU 1191980 A1 SU1191980 A1 SU 1191980A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- specimen
- measured
- measuring system
- grid
- measuring
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
(Г
со
00
Изобретение относитс к электрон . ной микроскопии и может быть использовано дл измерени рассто ний между структурами объекта, преимущественно объектов микроэлектроники, например , полупроводниковых шайб и фотошаблонов .
Целью изобретени вл етс повышение точности ц снижение времени измерени рассто ний.
,На фиг. 1 показана обща схема РЗМ на фиг. 2 - масштабна сетка дл измерени рассто ний.
. В вакуумированной электронно-оптической колонне 1 (фиг. 1) размещены источник 2 .электронов, система уменьшающих электромагнитных линз 3 и 4, электромагнитный стигматор 5 и аперТурна диафрагма 6 дл формировани тонкосфокусированного пучка первичных электронов 7; Внутри рабочего канала линзы 4 размещена основна отклон юща система 8, предназначенна дл растрировани поверхности объекта 9 в направлении осей X и У. Вблизи поверхности объекта установлены детекторы 10 и 11 электронов и датчик 12, имеющие вьгводы 13 из колонны 1. Генератор 14 основной развертки св зан с помощью электрической схемы 15 с отклон ющей системой 8 и с помощью коммутатора 16 с системами 17 отклонени индикаторных блоков 18, 19, 20 С помощью электрической .схемы 15, представл ющей собой управл емьш усилйтель , можно регулировать увеличение , измен токи в катушках основной отклон ющей системы 8.
Электронно-лучева измерительна система содержит позиционирукицее устройство в виде дополнительной отклон ющей системы 21, св занной с генератором 22 цифровых разверток позици .онировани в направлении осей X и У с калиброванным шагом 0,02 мкм в диаиазоне отклонени 10 мкм. Электронно-лучевое позиционирование осуществл етс вручную посредством перемещени стрелки на генераторе 22 развертки , или автоматически при включенном переключателе 23 между генератором развертки 21 и управл кнцим блоком 24. Управл ющий блок может бьггь выполнен на базе малой управл ющей ЭВМ типа KSR4100 1(фирма Роботрон, ГДР Величина отклонени в виде последот вательности целых чисел с шагом, соответствующим величине 0,02 мкм.
.может быть автоматически перенесена с учетом знака на устройство 25 отсчета , которое также может отображат результат измерени лазерной измерительной системы.
Индикаторньй блок 20 выполнен с возможностью проецировани на экра калиброванной масштабной сетки, что реализуетс с помощью добавочного устройства 26. Масштабна сетка выполнена таким образом, что учитьшаетс точна величина увеличени и искажени геометрической формы на кра х изображени .
Камера 27 объектов содержит прецизионный координатный стол 28 с диапазоном перемещени объектодержател до одного дециметра в направлении осей X и Ц. Прецизионные ходовые винты 29, которые соединены с координатным столом 28, и шаговые моторы 30 с блоками управлени обеспечивают дистанционное управление перемещением объектодержател . Шаговые моторы 30 св заны с управл ющим блоком 24, периферическа часть 31 которого служит дл ввода данных.
Управл ющий блок 24 служит дл . полного управлени столом 28 и сравнени заданного значени перемещени объекта со средним истинным значением , измеренным лазерной измерительно системой, подключенной в цепь обратной св зи управлени столом.
Лазерна измерительна система оснащена He-Ne-лазером и образует инкрементальную измерительную систем с инкрементом ,04 мкм.
Две .измерительные призмы 32 лазерной измерительной системы дл Xи У-направлений расположены непосредственно на координатном столе 28. Дв призмы 33 сравнени дл Х- и У-направлений расположены в камере 27 объектов таким образом, чтобы имело место небольшое ртносительное смещение между измерительными призмами и призмами сравнени при изменении температуры камеры объекта. Дополнительно может быть предусмотрено устройство 34 дл стабилизации температуры в камере 27 объектов. Видеоконтрольное устройство содержит также усилитель 35, св занный с коммутатором 16.
На фиг. 2 показана масштабна сетка 36 с центром 37 и кра 38, 39 структур объекта.
Изображение кра 38 структуры объекта 9, полученное с помощью РЭМ путем ввода координат в периферическую часть 31 управл ющего блока 24 перемещени стола 28 объектов при . определенном увеличении, вывод т в центр экрана индикаторного блока. Вследствие неточного ввода координат относите.льно нулевой точки координат объекта и погрешности позиционироваНИН стола край 38 структуры не находитс точно в центре экрана, а смеще на рассто ние d, Это рассто ние определ ют с помощью проецируемой масштабной сетки 36, котора в практике при увеличении 10000 вл етс двухмерной решеткой с шагом делени 1 мм и соответствует в плоскости предмета шагу делени 0,1 мкм. Дополнительно считываютс показани D устройства 25 о,тсчета лазерной измерительной системы.
После этого устанавливают, по возможности , изображение кра 39 структуры объекта 9 в центре экрана с помощью ввода соответствующих координат и последующего перемещени стола 28. Край 30 структуры расположен в общем случае на рассто нии d, ,которое также определ ют с помощью проецируемой на отражение масштабной сетки 36.
Дополнительно снимают показани D2 устройства 25 отсчета лазерной измерительной системы и.вычисл ютрассто ние между кра ми структур 38 и 39 по формуле
A D2-D +d2-d;.
Величину d целесообразно привест к нулю перемещением кра 38 структуры с помощью электронно-лучевого позиционирующего устройства в центр 37 экрана, а величину D - занулением устройства 25 отсчета лазерной измерительной системы. Тогда искомое рассто ние рассчитывают следующим образом
,
где величина D вл етс перемещением объекта, измеренным с помощью лазерной измерительной системы,а величина d определена с помощью масштабной сетки, или благодар перемещению кра структуры 39 посредством позиционирующего устройства в центр экрана и отсчету соответствующих шагов перемещени . При этом кра структуры всегда перемещаютс в центрэкрана до перекрыти с центром 37 мэсштабной сетки 36.
При автоматическом сложении измер емой величины D лазерной измерительной системы дл перемещени объекта с величиной d электронно-лучевото позиционировани вывод т кра структур 38 и 39 с помощью позиционирующего устройства по очереди до совмещени с центром 37 экрана. Тогда измер ема величина рассто ни получаетс автоматически и считываетс с устройства 25 отсчета управл ющего блока 24.
Дл определени рассто ний между структурами объекта, которые можно полностью представить на экране, служит только электронно-лучева измерительна система, работающа с высокой точностью. Дл этого кра структур 38 и 39 привод т соответствующим числом шагов в позиционирующем устройстве последовательно до перекрыти краев с центром масштабной сетки в то врем как объект остаетс неподвижным. Разница в количестве шагов перемещени дл достижени перекрыти краев структур с центром сетки определ ет искомое рассто ние.
Таким образом, комбинированное использование лазерной измерительной системы и электронно-л.учевого позиционирующего устройства позвол ет измер ть рассто ни с высокой точностью в широком диапазоне величин 0,1 10000 мкм при минимальных затратах времени.
38 36
Claims (1)
- ' РАСТРОВЫЙ ЭЛЕКТРОННЫЙ МИКРОСКОП, содержащий последовательно размещенные внутри Колонны источник электронов, систему электромагнитных линз, стигматор, апертурную диафрагму, основную отклоняющую систему и механизм перемещения объектодержателя с ходовыми винтами, связанными с шаговыми электродвигателями, а также двухкоординатную лазерную измерительную систему перемещения объектодержателя и видеоконтрольное устройство, включающее детектор электронов, усилитель и индикаторный блок с электронно-лучевой трубкой, отличающ и й с я тем, что, с целью повышения точности, и снижения времени измерения расстояний, он снабжен электронно-лучевой измерительной системой, содержащей позиционирующее устройство в виде дополнительной отклоняющей системы, связанной с генератором цифровых разверток, и управляющим β блоком, соединенным с генератором S цифровых разверток, выходом лазерной измерительной системы и шаговыми электродвигателями, а индикаторный блок выполнен с возможностью проецирования масштабной сетки.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD18851275A DD124091A1 (ru) | 1975-09-24 | 1975-09-24 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1191980A1 true SU1191980A1 (ru) | 1985-11-15 |
Family
ID=5501778
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU762399525A SU1191980A1 (ru) | 1975-09-24 | 1976-09-20 | Растровый электронный микроскоп |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
DD (1) | DD124091A1 (ru) |
DE (1) | DE2635356C2 (ru) |
FR (1) | FR2326030A1 (ru) |
GB (1) | GB1532862A (ru) |
SU (1) | SU1191980A1 (ru) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU534811B2 (en) * | 1979-07-03 | 1984-02-16 | Unisearch Limited | Atmospheric scanning electron microscope |
JPS5795056A (en) * | 1980-12-05 | 1982-06-12 | Hitachi Ltd | Appearance inspecting process |
JPS59112217A (ja) * | 1982-11-29 | 1984-06-28 | Toshiba Corp | 寸法測定方法 |
JPS59163506A (ja) * | 1983-03-09 | 1984-09-14 | Hitachi Ltd | 電子ビ−ム測長装置 |
EP0177566B1 (en) * | 1984-03-20 | 1991-12-27 | Bio-Rad Micromeasurements (Canada) Inc. | Method for precision sem measurements |
US4677296A (en) * | 1984-09-24 | 1987-06-30 | Siemens Aktiengesellschaft | Apparatus and method for measuring lengths in a scanning particle microscope |
DE3802598C1 (ru) * | 1988-01-29 | 1989-04-13 | Karl Heinz 3057 Neustadt De Stellmann |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3876879A (en) * | 1973-11-09 | 1975-04-08 | Calspan Corp | Method and apparatus for determining surface characteristics incorporating a scanning electron microscope |
-
1975
- 1975-09-24 DD DD18851275A patent/DD124091A1/xx unknown
-
1976
- 1976-08-06 DE DE19762635356 patent/DE2635356C2/de not_active Expired
- 1976-08-25 GB GB3538476A patent/GB1532862A/en not_active Expired
- 1976-09-20 SU SU762399525A patent/SU1191980A1/ru active
- 1976-09-21 FR FR7628344A patent/FR2326030A1/fr active Granted
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Патент DE № 2236530, кл. Н 01 J 37/20, опублик. 1975. Патент US № 3648048, кл. Н 01 J 37/20, опублик. 1972.. * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DD124091A1 (ru) | 1977-02-02 |
FR2326030B1 (ru) | 1982-03-19 |
GB1532862A (en) | 1978-11-22 |
FR2326030A1 (fr) | 1977-04-22 |
DE2635356C2 (de) | 1984-08-16 |
DE2635356A1 (de) | 1977-04-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3876883A (en) | Method and system for focusing and registration in electron beam projection microfabrication | |
US4567364A (en) | Method and apparatus for measuring dimension of secondary electron emission object | |
US3894271A (en) | Method and apparatus for aligning electron beams | |
EP0024884B1 (en) | Method of detecting the position of a substrate using an electron beam | |
US4766311A (en) | Method and apparatus for precision SEM measurements | |
US5747816A (en) | Charged particle beam apparatus | |
US6583430B1 (en) | Electron beam exposure method and apparatus | |
CA1103813A (en) | Apparatus for electron beam lithography | |
US5155359A (en) | Atomic scale calibration system | |
SU1191980A1 (ru) | Растровый электронный микроскоп | |
JP2840801B2 (ja) | 座標変換係数の自動設定方法 | |
JPH0324771B2 (ru) | ||
US4164658A (en) | Charged-particle beam optical apparatus for imaging a mask on a specimen | |
US4264822A (en) | Electron beam testing method and apparatus of mask | |
US3855023A (en) | Manufacture of masks | |
US4152599A (en) | Method for positioning a workpiece relative to a scanning field or a mask in a charged-particle beam apparatus | |
Tarui et al. | Electron beam exposure system for integrated circuits | |
JP3260513B2 (ja) | 荷電ビーム描画装置 | |
JPS62149127A (ja) | 荷電ビ−ム露光装置 | |
JPH0375507A (ja) | パターン検査方法およびその装置 | |
JP2794606B2 (ja) | 荷電粒子光学系のビーム軸の調整方法 | |
JP2786662B2 (ja) | 荷電ビーム描画方法 | |
JP3252851B2 (ja) | 電子線測長方法 | |
JPS6312146A (ja) | パタ−ン寸法計測方法 | |
JPH034884Y2 (ru) |