RU97109839A - HETTER PUMP MODULE AND SYSTEM - Google Patents

HETTER PUMP MODULE AND SYSTEM

Info

Publication number
RU97109839A
RU97109839A RU97109839/06A RU97109839A RU97109839A RU 97109839 A RU97109839 A RU 97109839A RU 97109839/06 A RU97109839/06 A RU 97109839/06A RU 97109839 A RU97109839 A RU 97109839A RU 97109839 A RU97109839 A RU 97109839A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
aforementioned
getter
elements
pump according
getter pump
Prior art date
Application number
RU97109839/06A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2138686C1 (en
Inventor
Гордон П. Крюгер
Дарси Х. Лоример
Серджио Карелла
Андреа КОНТЕ
Original Assignee
Сэйз Пьюэ Гэз, Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US08/348,798 external-priority patent/US5911560A/en
Priority claimed from US08/521,943 external-priority patent/US5972183A/en
Application filed by Сэйз Пьюэ Гэз, Инк. filed Critical Сэйз Пьюэ Гэз, Инк.
Publication of RU97109839A publication Critical patent/RU97109839A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2138686C1 publication Critical patent/RU2138686C1/en

Links

Claims (71)

1. Геттеронасос, состоящий из a) множества сплошных геттерных элементов из пористого спеченного геттерного материала, в каждом из вышеупомянутых геттерных элементов выполнено сквозное отверстие, и b) нетеплоизолирующего опорного элемента, который пропускается через вышеупомянутые отверстия, служит опорой для упомянутых геттерных элементов и находится в термоконтакте с упомянутыми геттерными элементами.1. A getter pump, consisting of a) a plurality of continuous getter elements of porous sintered getter material, a through hole is made in each of the aforementioned getter elements, and b) a non-insulating support element that is passed through the aforementioned holes serves as a support for said getter elements and is located in thermocontact with the mentioned getter elements. 2. Геттеронасос по п. 1, отличающийся тем, что каждый геттерный элемент геттеронасоса снабжен втулкой, вставленной в вышеупомянутое сквозное отверстие, причем через отверстие каждой из вышеупомянутых втулок пропускается вышеупомянутый опорный элемент. 2. The getter pump according to claim 1, characterized in that each getter element of the getter pump is provided with a sleeve inserted into the aforementioned through hole, and the aforementioned support element is passed through the hole of each of the aforementioned bushings. 3. Геттеронасос по п. 2, отличающийся тем, что вышеупомянутый опорный элемент имеет трубчатую конструкцию, тогда как отверстия в вышеупомянутых втулках являются цилиндрическими. 3. The getter pump according to claim 2, characterized in that the aforementioned support element has a tubular structure, while the holes in the aforementioned bushings are cylindrical. 4. Геттеронасос по п. 3, отличающийся тем, что также предусматриваются промежуточные кольца, входящие в контакт с вышеупомянутым опорным элементом и размещаемые между соседними геттерными элементами. 4. The getter pump according to claim 3, characterized in that intermediate rings are also provided that come into contact with the aforementioned support element and are placed between adjacent getter elements. 5. Геттеронасос по п. 4, отличающийся тем, что вышеупомянутое промежуточное кольцо выполнено зацело с упомянутой втулкой. 5. The getter pump according to claim 4, characterized in that the aforementioned intermediate ring is made integrally with said sleeve. 6. Геттеронасос по п. 5, отличающийся тем, что вышеупомянутая втулка и промежуточное кольцо выполнены из материала, по преимуществу состоящего из титана. 6. The getter pump according to claim 5, characterized in that the aforementioned sleeve and the intermediate ring are made of a material, mainly consisting of titanium. 7. Геттеронасос по п. 2, отличающийся тем, что вышеупомянутый опорный элемент является нагревательным элементом, способным обеспечить нагрев вышеупомянутых геттерных элементов до температуры регенерации. 7. The getter pump according to claim 2, characterized in that the aforementioned support element is a heating element capable of heating the aforementioned getter elements to a regeneration temperature. 8. Геттеронасос по п. 2, отличающийся тем, что вышеупомянутый геттерный материал соответствует составу 82% Zr, 14,8 V и 3,2 Fe по весу и имеет температуру регенерации примерно свыше 400oC.8. The getter pump according to claim 2, characterized in that the aforementioned getter material corresponds to a composition of 82% Zr, 14.8 V and 3.2 Fe by weight and has a regeneration temperature of about 400 ° C. 9. Геттеронасос по п. 2, отличающийся тем, что вышеупомянутый геттерный материал соответствует составу 84% Zr и 16% Al по весу и имеет температуру регенерации примерно свыше 600oC.9. The getter pump according to claim 2, characterized in that the aforementioned getter material corresponds to a composition of 84% Zr and 16% Al by weight and has a regeneration temperature of about 600 ° C. 10. Геттеронасос по п. 2, отличающийся тем, что вышеупомянутый геттерный материал соответствует составу 17% углерода и 83% циркония по весу. 10. The getter pump according to claim 2, characterized in that the aforementioned getter material corresponds to a composition of 17% carbon and 83% zirconium by weight. 11. Геттеронасос по п. 2, отличающийся тем, что вышеупомянутый геттерный материал соответствует составу 10% молибдена, 80% титана и 10% гидрида титана по весу. 11. The getter pump according to claim 2, characterized in that the aforementioned getter material corresponds to a composition of 10% molybdenum, 80% titanium and 10% titanium hydride by weight. 12. Геттеронасос, состоящий из a) множества геттерных элементов со сквозными отверстиями в каждом из упомянутых геттерных элементов, b) устройства для нагрева вышеупомянутого геттерного материала, который размещен в непосредственной близости от вышеупомянутолго геттерного материала, и c) снабжен теплозащитным экраном, установленным в непосредственной близости от вышеупомянутого геттера и по крайней мере частично окружающим вышеупомянутые геттерные элементы. 12. A getter pump consisting of a) a plurality of getter elements with through holes in each of said getter elements, b) a device for heating the aforementioned getter material, which is located in the immediate vicinity of the aforementioned long getter material, and c) is equipped with a heat shield installed in the immediate proximity to the aforementioned getter and at least partially surrounding the aforementioned getter elements. 13. Геттеронасос по п. 12, отличающийся тем, что в качестве вышеупомянутого устройства для нагрева вышеупомянутых геттерных элементов используется резистивный нагревательный элемент. 13. The getter pump according to claim 12, characterized in that a resistive heating element is used as the aforementioned device for heating the aforementioned getter elements. 14. Геттеронасос по п. 13, отличающийся тем, что вышеупомянутый нагревательный элемент пропускается через отверстия вышеупомянутых геттерных элементов и предназначен для обеспечения нагрева вышеупомянутых геттерных элементов и опоры для вышеупомянутых геттерных элементов. 14. The getter pump according to claim 13, characterized in that the aforementioned heating element is passed through the holes of the aforementioned getter elements and is designed to provide heating of the aforementioned getter elements and supports for the aforementioned getter elements. 15. Геттеронасос по п. 12, отличающийся тем, что в качестве вышеупомянутого нагревателя используется нагреватель радиационного типа. 15. The getter pump according to claim 12, characterized in that a radiation type heater is used as the aforementioned heater. 16. Геттеронасос по п. 12, отличающийся тем, что вышеупомянутые геттерные элементы по существу имеют форму диска, и вышеупомянутый нагревательный элементы имеет вытянутую трубчатую конструкцию. 16. The getter pump according to claim 12, characterized in that the aforementioned getter elements are essentially disk-shaped, and the aforementioned heating elements have an elongated tubular structure. 17. Геттеронасос по п. 16, отличающийся тем, что вышеупомянутые геттерные элементы представляют собой пористые спеченные диски из геттерного материала и снабжены центрально расположенной втулкой, выполненной не из геттерного материала. 17. The getter pump according to claim 16, characterized in that the aforementioned getter elements are porous sintered disks of getter material and are provided with a centrally located sleeve made of non-getter material. 18. Геттеронасос по п. 14, отличающийся тем, что вышеупомянутый нагревательный элемент по сути является прямым по большей части его длины. 18. The getter pump according to claim 14, characterized in that the aforementioned heating element is essentially straight for the most part of its length. 19. Геттеронасос по п. 14, отличающийся тем, что вышеупомянутый нагревательный элемент является искривленным по большей части его длины. 19. The getter pump according to claim 14, characterized in that the aforementioned heating element is curved for the most part of its length. 20. Геттеронасос по п. 12, отличающийся тем, что вышеупомянутый экран является неподвижным. 20. The getter pump according to p. 12, characterized in that the aforementioned screen is stationary. 21. Геттеронасос по п. 20, отличающийся тем, что вышеупомянутый неподвижный экран имеет отражающую поверхность, обращенную к вышеупомянутым геттерным элементам. 21. The getter pump according to claim 20, characterized in that the aforementioned fixed screen has a reflective surface facing the aforementioned getter elements. 22. Геттеронасос по п. 21, отличающийся тем, что вышеупомянутый неподвижный экран имеет форму вытянутого короба и открыт по крайней мере с одной стороны. 22. The getter pump according to claim 21, characterized in that the aforementioned fixed screen has the shape of an elongated box and is open at least on one side. 23. Геттеронасос по п. 20, отличающийся тем, что вышеупомянутый неподвижный экран приводит не более чем к 25%-ной потере пропускной способности в отношении среды, окружающей вышеупомянутый неподвижный экран, на участке между вышеупомянутыми геттерными элементами. 23. The getter pump according to claim 20, characterized in that the aforementioned fixed screen leads to no more than a 25% loss of throughput in relation to the environment surrounding the aforementioned fixed screen in the area between the aforementioned getter elements. 24. Геттеронасос по п. 12, отличающийся тем, что вышеупомянутый экран является подвижным. 24. The getter pump according to claim 12, characterized in that the aforementioned screen is movable. 25. Геттеронасос по п. 24, отличающийся тем, что вышеупомянутый экран имеет по крайней мере одну подвижную секцию и снабжен механизмом приведения вышеупомянутого экрана в открытое положение, в котором упомянутые геттерные элементы по существу подвергаются воздействию атмосферы вышеупомянутой камеры, и в закрытое положение, в котором упомянутые геттерные элементы являются по сути изолированными от воздействия атмосферы вышеупомянутой камеры. 25. The getter pump according to claim 24, characterized in that the aforementioned screen has at least one movable section and is equipped with a mechanism for bringing the aforementioned screen into an open position in which said getter elements are substantially exposed to the atmosphere of the aforementioned chamber and to a closed position, in wherein said getter elements are substantially isolated from the atmosphere of the aforementioned chamber. 26. Геттеронасос по п. 25, отличающийся тем, что он также включает внутреннюю отражающую поверхность, обращенную к вышеупомянутым геттерным элементам. 26. The getter pump according to p. 25, characterized in that it also includes an internal reflective surface facing the aforementioned getter elements. 27. Геттеронасос по п. 25, отличающийся тем, что вышеупомянутый механизм приведения в движение вышеупомянутого экрана состоит из гибкой трубки, предназначенной для заполнения газом и соединенной с вышеупомянутым экраном таким образом, что при заполнении вышеупомянутой трубки газом вышеупомянутый экран переходит из вышеупомянутого открытого положения в вышеупомянутое закрытое положение, а при выходе газа из вышеупомянутой трубки упомянутый экран переходит из вышеупомянутого закрытого положения в вышеупомянутое открытое положение. 27. The getter pump according to claim 25, characterized in that the aforementioned mechanism for driving the aforementioned screen consists of a flexible tube for filling with gas and connected to the aforementioned screen so that when the aforementioned tube is filled with gas, the aforementioned screen moves from the aforementioned open position to the aforementioned closed position, and when the gas exits the aforementioned tube, said screen shifts from the aforementioned closed position to the aforementioned open position. 28. Геттеронасос по п. 27, отличающийся тем, что в нем также предусматривается механизм зубчатой передачи, связывающий вышеупомянутый экран и вышеупомянутую трубку и предназначенный для приведения упомянутого экрана в вышеупомянутое открытое и закрытое положения при заполнении вышеупомянутой трубки газом или при выпуске газа из вышеупомянутой трубки соответственно. 28. The getter pump according to p. 27, characterized in that it also provides a gear mechanism connecting the aforementioned screen and the aforementioned tube and designed to bring the said screen into the aforementioned open and closed positions when filling the aforementioned tube with gas or when gas is released from the aforementioned tube respectively. 29. Геттеронасос по п. 25, отличающийся тем, что в нем также предусматривается устройство для подачи к вышеупомянутому насосу инертного газа, так что когда вышеупомянутый экран находится в зарытом положении, вышеупомянутые геттерные элементы находятся под воздействием положительного перепада давления упомянутого инертного газа относительно атмосферного давления за пределами вышеупомянутого геттеронасоса. 29. The getter pump according to claim 25, characterized in that it also provides a device for supplying inert gas to the aforementioned pump, so that when the aforementioned screen is in the closed position, the aforementioned getter elements are exposed to a positive pressure drop of the said inert gas relative to atmospheric pressure outside of the above getter pump. 30. Геттеронасос, состоящий из a) геттерного узла, в который входит втулка с выполненным по центру отверстием и множество геттерных элементов, расходящихся от вышеупомянутой втулки по существу в радиальном направлении, и b) не теплоизолирующего опорного элемента, который пропускается через отверстие вышеупомянутой втулки, служит опорой для упомянутых геттерных элементов и находится в термоконтакте с упомянутыми геттерными элементами. 30. A getter pump, consisting of a) a getter assembly, which includes a sleeve with a hole made in the center and a plurality of getter elements diverging from the aforementioned sleeve in a substantially radial direction, and b) a non-insulating support element that passes through the hole of the aforementioned sleeve, serves as a support for said getter elements and is in thermal contact with said getter elements. 31. Геттеронасос по п. 30, отличающийся тем, что вышеупомянутый геттерный узел является одним из множества геттерных узлов, опирающихся на вышеупомянутый опорный элемент. 31. The getter pump according to claim 30, wherein the aforementioned getter assembly is one of a plurality of getter assemblies based on the aforementioned support element. 32. Геттеронасос по п. 31, отличающийся тем, что в нем также предусматривается теплозащитный экран, окружающий по крайней мере частично вышеупомянутые геттерные элементы. 32. The getter pump according to p. 31, characterized in that it also provides a heat shield surrounding at least partially the aforementioned getter elements. 33. Геттеронасос по п. 32, отличающийся тем, что в нем вышеупомянутый экран имеет форму вытянутого короба. 33. The getter pump according to claim 32, wherein the aforementioned screen has the shape of an elongated box. 34. Геттеронасос по п. 30, отличающийся тем, что в нем также предусматривается электродвигатель для вращения вышеупомянутого множества геттерных элементов. 34. The getter pump according to p. 30, characterized in that it also provides an electric motor for rotating the aforementioned set of getter elements. 35. Геттеронасос по п. 34, отличающийся тем, что вышеупомянутый электродвигатель подсоединен к вышеупомянутому опорному элементу. 35. The getter pump according to p. 34, characterized in that the aforementioned electric motor is connected to the aforementioned supporting element. 36. Геттеронасос в соответствии с п. 35, отличающийся тем, что вышеупомянутый электродвигатель снабжен магнитным механизмом привода так, что вышеупомянутый электродвигатель выведен за пределы вышеупомянутой камеры. 36. The getter pump in accordance with p. 35, characterized in that the aforementioned electric motor is equipped with a magnetic drive mechanism so that the aforementioned electric motor is outside the aforementioned chamber. 37. Геттеронасос, состоящий из: a) множества геттерных элементов, каждый из которых выполнен со сквозным отверстием, причем противоположные поверхности соседних геттерных элементов не являются параллельными друг другу, b) не теплоизолирующего опорного элемента, который пропускается через вышеупомянутые отверстия вдоль вышеупомянутой оси, служит опорой для упомянутых геттерных элементов и находится в термоконтакте с упомянутыми геттерными элементами. 37. A getter pump, consisting of: a) a set of getter elements, each of which is made with a through hole, and the opposite surfaces of the adjacent getter elements are not parallel to each other, b) a non-insulating support element, which is passed through the aforementioned holes along the aforementioned axis, serves a support for said getter elements and is in thermal contact with said getter elements. 38. Геттеронасос по п. 37, отличающийся тем, что в нем вышеупомянутые отверстия отцентрованы и составляют ось, и в котором каждый геттерный элемент имеет поверхность, составляющую плоскость, не перпендикулярную вышеупомянутой оси. 38. The getter pump according to claim 37, characterized in that the aforementioned openings are centered therein and constitute an axis, and in which each getter element has a surface constituting a plane not perpendicular to the aforementioned axis. 39. Геттеронасос по п. 38, отличающийся тем, что в нем отверстия соседних геттерных элементов расположены по отношению к вышеупомянутому осевому элементу под противоположными углами. 39. The getter pump according to claim 38, characterized in that the openings of adjacent getter elements therein are located in opposite angles to the aforementioned axial element. 40. Геттеронасос по п. 37, отличающийся тем, что вышеупомянутое отверстие перпендикулярно вышеупомянутой оси и вышеупомянутые поверхности соседних геттерных элементов наклонены под противоположными углами. 40. The getter pump according to claim 37, characterized in that the aforementioned hole is perpendicular to the aforementioned axis and the aforementioned surfaces of adjacent getter elements are inclined at opposite angles. 41. Система для технологической обработки полупроводников, состоящая из a) рабочей камеры, и b) "встроенного" геттеронасоса, расположенного в упомянутой рабочей камере и состоящего из I) множества геттерных элементов, каждый из которых выполнен со сквозным отверстием, и II) опорного элемента, пропускаемого через упомянутые отверстия и обеспечивающего опору для упомянутых геттерных элементов, c) вышеупомянутого геттеронасоса, обеспечивающего действительную скорость откачки вышеупомянутой рабочей камеры, которая по крайней мере соответствует 75% от теоретического значения скорости откачки вышеупомянутой рабочей камеры при помощи вышеупомянутого множества геттерных элементов. 41. A system for processing semiconductors, consisting of a) a working chamber, and b) an “integrated” getter pump located in said working chamber and consisting of I) a plurality of getter elements, each of which is provided with a through hole, and II) a support element passing through said openings and providing support for said getter elements, c) the aforementioned getter pump, providing an actual pumping speed of the aforementioned working chamber, which is at least consistent t 75% of the theoretical value of the pumping speed of the aforementioned working chamber using the aforementioned set of getter elements. 42. Система для технологической обработки полупроводников по п. 41, отличающаяся тем, что в ней упомянутые геттерные элементы представляют собой пористые спеченные диски из геттерного материала. 42. The system for the technological processing of semiconductors according to claim 41, characterized in that said getter elements in it are porous sintered disks made of getter material. 43. Система для технологической обработки полупроводников по п. 42, отличающаяся тем, что в ней вышеупомянутые геттерные элементы снабжены втулкой, вставленной в вышеупомянутые отверстия в геттерных элементах, причем через каждое отверстие такой втулки пропускается вышеупомянутый опорный элемент. 43. The system for processing semiconductors according to claim 42, characterized in that the aforementioned getter elements are provided with a sleeve inserted into the aforementioned holes in the getter elements, and the aforementioned supporting element is passed through each hole of such a sleeve. 44. Система для технологической обработки полупроводников по п. 43, отличающаяся тем, что в ней предусматривается промежуточное кольцо, входящее в контакт с вышеупомянутым опорным элементом, которое устанавливается между соседними геттерными элементами. 44. The system for the processing of semiconductors according to claim 43, characterized in that it provides an intermediate ring that comes into contact with the aforementioned support element, which is installed between adjacent getter elements. 45. Система для технологической обработки полупроводников по п. 44, отличающаяся тем, что в ней упомянутое промежуточное кольцо выполнено зацело с упомянутой втулкой. 45. The system for the technological processing of semiconductors according to claim 44, characterized in that said intermediate ring is integral with said sleeve. 46. Система для технологической обработки по п. 45, отличающаяся тем, что вышеупомянутая втулка и промежуточное кольцо выполнены из материала, по существу состоящего из титана. 46. The processing system according to claim 45, wherein the aforementioned sleeve and the intermediate ring are made of a material essentially consisting of titanium. 47. Система для технологической обработки полупроводников по п. 41, отличающаяся тем, что вышеупомянутый опорный элемент является нагревательным элементом, способным обеспечить нагрев вышеупомянутых геттерных элементов до температуры регенерации. 47. A system for processing semiconductors according to claim 41, wherein the aforementioned support element is a heating element capable of heating the aforementioned getter elements to a regeneration temperature. 48. Система для технологической обработки полупроводников по п. 41, отличающаяся тем, что вышеупомянутый геттерный материал соответствует составу 82% Zr, 14,8 V и 3,2 Fe по весу и имеет температуру регенерации примерно свыше 400oC.48. The system for the processing of semiconductors according to claim 41, characterized in that the aforementioned getter material corresponds to a composition of 82% Zr, 14.8 V and 3.2 Fe by weight and has a regeneration temperature of about 400 o C. 49. Система для технологической обработки полупроводников по п. 41, отличающаяся тем, что вышеупомянутый геттерный материал соответствует составу 84% Zr и 16% Al по весу и имеет температуру регенерации примерно свыше 600oC.49. The system for the processing of semiconductors according to claim 41, characterized in that the aforementioned getter material corresponds to a composition of 84% Zr and 16% Al by weight and has a regeneration temperature of about 600 o C. 50. Система для технологической обработки полупроводников по п. 41, отличающаяся тем, что вышеупомянутый геттерный материал соответствует составу 17% углерода и 83% циркония по весу. 50. A system for the processing of semiconductors according to claim 41, characterized in that the aforementioned getter material corresponds to a composition of 17% carbon and 83% zirconium by weight. 51. Система для технологической обработки полупроводников по п. 41, отличающаяся тем, что вышеупомянутый геттерный материал соответствует составу 10% молибдена, 80% титана и 10% гидрида титана по весу. 51. The system for processing semiconductors according to claim 41, characterized in that the aforementioned getter material corresponds to a composition of 10% molybdenum, 80% titanium and 10% titanium hydride by weight. 52. Система для технологической обработки полупроводников по п. 41, отличающаяся тем, что в ней также предусматривается теплозащитный экран, окружающий, по крайней мере частично, вышеупомянутые геттерные элементы. 52. The system for processing semiconductors according to claim 41, characterized in that it also provides a heat shield surrounding at least partially the aforementioned getter elements. 53. Система для технологической обработки полупроводников по п. 52, отличающаяся тем, что вышеупомянутый экран представляет собой неподвижный экран в форме вытянутого короба, открытого по крайней мере с одной стороны. 53. The system for processing semiconductors according to claim 52, wherein the aforementioned screen is a fixed screen in the form of an elongated box, open at least on one side. 54. Система для технологической обработки полупроводников по п. 52, отличающаяся тем, что вышеупомянутый неподвижный экран приводит не более чем к 25%-ной потере пропускной способности в отношении среды, окружающей вышеупомянутый неподвижный экран, на участке между вышеупомянутыми геттерными элементами. 54. The system for processing semiconductors according to claim 52, characterized in that the aforementioned fixed screen results in no more than a 25% loss in throughput with respect to the environment surrounding the aforementioned fixed screen in the region between the aforementioned getter elements. 55. Метод технологической обработки подложки, который состоит из стадий: a) размещения подложки в рабочую камеру, включающую "встроенный" гетеронасос со множеством геттерных элементов, пропускная способность которого выше, чем примерно 75% от пропускной способности камеры технологической обработки подложки, b) герметизации камеры, и c) обработки вышеупомянутой подложки в вышеупомянутой камере в процессе откачки вышеупомянутой камеры при помощи вышеупомянутого "встроенного" геттеронасоса. 55. A method of processing a substrate, which consists of the steps of: a) placing the substrate in a working chamber, including an “integrated” hetero pump with many getter elements, the throughput of which is higher than about 75% of the throughput of the processing chamber of the substrate, b) sealing chamber, and c) processing the aforementioned substrate in the aforementioned chamber during pumping out of the aforementioned chamber using the aforementioned “built-in” getter pump. 56. Метод технологической обработки подложки по п. 55, отличающийся дополненными нижеперечисленными стадиями, осуществляемыми до стадии c) вышеупомянутого метода: a) теплоизоляция вышеупомянутого геттеронасоса от внутренней поверхности упомянутой камеры, и b) нагрев внутренней части вышеупомянутой камеры до температуры, обеспечивающей эффективное обезгаживание упомянутой камеры прогревом. 56. The substrate processing method according to claim 55, characterized by the aforementioned additional steps, carried out prior to step c) of the aforementioned method: a) thermal insulation of the aforementioned getter pump from the inner surface of the said chamber, and b) heating of the inner part of the aforementioned chamber to a temperature that effectively degasses the cameras warming up. 57. Метод технологической обработки подложки по п. 55, отличающийся тем, что он дополнен после стадии d) нижеперечисленными стадиями: a) теплоизоляция вышеупомянутого геттеронасоса от внутренней поверхности упомянутой камеры, и b) нагрев вышеупомянутых геттерных элементов до температуры, обеспечивающей эффективную регенерацию сорбционной способности вышеупомянутых геттерных элементов. 57. The substrate processing method according to claim 55, characterized in that it is supplemented after stage d) with the following stages: a) thermal insulation of the aforementioned getter pump from the inner surface of the said chamber, and b) heating of the aforementioned getter elements to a temperature that ensures effective regeneration of sorption ability the above getter elements. 58. Подложка, выполняемая с помощью метода по п. 41. 58. The substrate, performed using the method according to p. 41. 59. Метод откачки камеры, состоящий из стадий: a) герметизации вышеупомянутой камеры с целью защиты от воздействия внешней атмосферы, b) откачки вышеупомянутой камеры до первого значения давления с помощью первого насоса, и c) откачки вышеупомянутой камеры с помощью "встроенного" геттеронасоса, расположенного внутри упомянутой камеры, причем пропускная способность вышеупомянутого "встроенного" геттеронасоса соответствует значению свыше 75%, а сам насос состоит из множества сплошных пористых геттерных элементов, опорой для которых служит нагревательный элемент. 59. A chamber evacuation method consisting of the steps of: a) sealing the aforementioned chamber in order to protect it from exposure to the external atmosphere, b) pumping out the aforementioned chamber to a first pressure value using the first pump, and c) pumping out the aforementioned chamber using an “integrated” getter pump, located inside the said chamber, and the throughput of the aforementioned "built-in" getter pump corresponds to a value of more than 75%, and the pump itself consists of many solid porous getter elements, the support of which is revatelny element. 60. Метод откачки камеры по п. 59, отличающийся тем, что используются в качестве вышеупомянутых геттерных элементов, как правило, геттерные диски с центральными отверстиями, через которые пропускается вышеупомянутый нагревательный элемент. 60. The chamber evacuation method according to claim 59, characterized in that getter disks with central openings through which the aforementioned heating element is passed are used as the aforementioned getter elements. 61. Метод откачки камеры по п. 60, отличающийся тем, что используются вышеупомянутые геттерные элементы со втулкой, входящей в контакт с вышеупомянутым нагревательным элементом. 61. The method of pumping the chamber according to p. 60, characterized in that the aforementioned getter elements are used with a sleeve in contact with the aforementioned heating element. 62. Геттеронасос, состоящий из множества сплошных пористых геттерных элементов, выполненных из пористого спеченного материала, с нагревателем, устанавливаемым в непосредственной близости от упомянутого геттерного материала, для нагрева вышеупомянутых геттерных элементов, причем вышеупомянутые геттерные элементы и вышеупомянутый нагреватель по крайней мере частично экранируются теплозащитным экраном, тогда как стенки вышеупомянутого экрана располагаются в непосредственной близости к вышеупомянутым геттерным элементам и упомянутому нагревателю, причем вышеупомянутый геттерный насос обладает по крайней мере 75%-ной пропускной способностью по отношению к приближенному откачиваемому объему. 62. A getter pump, consisting of a plurality of continuous porous getter elements made of porous sintered material, with a heater installed in the immediate vicinity of said getter material, for heating the aforementioned getter elements, the aforementioned getter elements and the aforementioned heater being shielded at least partially by a heat shield while the walls of the aforementioned screen are located in close proximity to the aforementioned getter elements and mentioned from the heater, the aforementioned getter pump has at least 75% capacity with respect to the approximate volume of the pumped out. 63. Геттеронасос по п. 62, отличающийся тем, что в качестве нагревателя используется резистивный нагревательный элемент. 63. The getter pump according to p. 62, characterized in that a resistive heating element is used as a heater. 64. Геттеронасос по п. 63, отличающийся тем, что в нем каждый из вышеупомянутых геттерных элементов выполнен со сквозным отверстием, и через каждое из упомянутых отверстий пропускается вышеупомянутый резистивный нагревательный элемент, выполняющий к тому же роль опорного элемента. 64. The getter pump according to claim 63, characterized in that each of the aforementioned getter elements is provided with a through hole, and the aforementioned resistive heating element is passed through each of the openings, which also serves as a support element. 65. Геттеронасос по п. 62, отличающийся тем, что в нем в качестве вышеупомянутого нагревателя используется нагреватель радиационного типа. 65. The getter pump according to p. 62, characterized in that it uses a radiation type heater as the aforementioned heater. 66. Геттеронасос, состоящий из множества сплошных пористых геттерных элементов из пористого спеченного геттерного материала и включающий нагреватель, устанавливаемый в непосредственной близости к упомянутому геттерному материалу для обеспечения нагрева вышеупомянутого геттерного материала, причем вышеупомянутый нагреватель располагается поблизости от фокусирующего экрана, отражающего тепловую энергию, излучаемую упомянутым нагревателем на вышеупомянутый геттерный материал, при этом вышеупомянутый геттерный насос обладает по крайней мере 75%-ный пропускной способностью по отношению к приближенному значению откачиваемого объема. 66. A getter pump, consisting of a plurality of continuous porous getter elements of a porous sintered getter material and including a heater installed in close proximity to said getter material to provide heating of the aforementioned getter material, the aforementioned heater being located near the focusing screen reflecting the thermal energy emitted by the aforementioned a heater for the aforementioned getter material, while the aforementioned getter pump has a cr yney least 75% solution of bandwidth with respect to the approximate value of the volume pumped. 67. Геттеронасос по п. 66, отличающийся тем, что его пропускная способность, по крайней мере приблизительно соответствует 80%. 67. The getter pump according to claim 66, characterized in that its throughput is at least approximately 80%. 68. Геттеронасос по п. 67, отличающийся тем, что его пропускная способность, по крайней мере приблизительно соответствует 90%. 68. The getter pump according to p. 67, characterized in that its throughput is at least approximately 90%. 69. Геттеронасос по п. 66, отличающийся тем, что вышеупомянутые геттерные элементы и вышеупомянутый нагревательный элемент крепятся к теплоизолирующей стенке. 69. The getter pump according to claim 66, characterized in that the aforementioned getter elements and the aforementioned heating element are attached to a heat insulating wall. 70. Геттеронасос по п. 69, отличающийся тем, что вышеупомянутая теплоизолирующая стенка является частью "L-образного" экрана. 70. The getter pump according to p. 69, characterized in that the aforementioned heat-insulating wall is part of the "L-shaped" screen. 71. Геттеронасос по п. 69, отличающаяся тем, что поверхность упомянутой теплоизолирующей стенки, обращенная к вышеупомянутому нагревательному элементу, является теплоотражающей, так что тепловая энергия, исходящая от вышеупомянутого нагревательного элемента, отражается от упомянутой теплоотражающей стенки на вышеупомянутые геттерные элементы. 71. The getter pump according to claim 69, characterized in that the surface of said heat insulating wall facing the aforementioned heating element is heat-reflecting, so that thermal energy emanating from the aforementioned heating element is reflected from said heat-reflecting wall to the aforementioned getter elements.
RU97109839A 1994-12-02 1995-11-30 Getter pump module RU2138686C1 (en)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/348798 1994-12-02
US08/348,798 US5911560A (en) 1994-10-31 1994-12-02 Getter pump module and system
US08/521943 1995-09-01
US08/521,943 US5972183A (en) 1994-10-31 1995-09-01 Getter pump module and system
PCT/US1995/015598 WO1996017171A2 (en) 1994-12-02 1995-11-30 Getter pump module and system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU97109839A true RU97109839A (en) 1999-05-20
RU2138686C1 RU2138686C1 (en) 1999-09-27

Family

ID=26995895

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU97109839A RU2138686C1 (en) 1994-12-02 1995-11-30 Getter pump module

Country Status (12)

Country Link
US (4) US5972183A (en)
EP (1) EP0795084B1 (en)
JP (1) JP3574661B2 (en)
KR (1) KR100302178B1 (en)
CN (1) CN1097163C (en)
AT (1) ATE207189T1 (en)
AU (1) AU4505896A (en)
BR (1) BR9509847A (en)
CA (2) CA2485918A1 (en)
DE (1) DE69523333T2 (en)
RU (1) RU2138686C1 (en)
WO (1) WO1996017171A2 (en)

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5935395A (en) * 1995-11-08 1999-08-10 Mitel Corporation Substrate processing apparatus with non-evaporable getter pump
IT1290548B1 (en) * 1997-02-24 1998-12-10 Getters Spa GETTER PUMP WITH SUPPORT ARMOR IN A SINGLE PIECE OF A MULTIPLICITY OF NON-EVAPORABLE GETTER ELEMENTS BETWEEN THEIR PARALLELS
IT1292175B1 (en) * 1997-06-17 1999-01-25 Getters Spa GETTER PUMP PARTICULARLY SUITABLE FOR UPSTREAM USE, IN PROXIMITY AND COAXIALLY TO A TURBOMOLECULAR PUMP
IT1295340B1 (en) * 1997-10-15 1999-05-12 Getters Spa HIGH SPEED GAS ABSORPTION GETTER PUMP
US6191011B1 (en) * 1998-09-28 2001-02-20 Ag Associates (Israel) Ltd. Selective hemispherical grain silicon deposition
US6440261B1 (en) 1999-05-25 2002-08-27 Applied Materials, Inc. Dual buffer chamber cluster tool for semiconductor wafer processing
JP2001132638A (en) * 1999-11-10 2001-05-18 Ebara Corp Trap device
JP4827294B2 (en) * 1999-11-29 2011-11-30 株式会社半導体エネルギー研究所 Film forming apparatus and method for manufacturing light emitting apparatus
TW490714B (en) * 1999-12-27 2002-06-11 Semiconductor Energy Lab Film formation apparatus and method for forming a film
EP1127954A1 (en) * 2000-02-24 2001-08-29 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for shielding a device from a semiconductor wafer process chamber
AU2001241919A1 (en) * 2000-03-03 2001-09-17 Midwest Research Institute A1 processing for impurity gettering in silicon
KR20010087664A (en) * 2000-03-08 2001-09-21 손명호 conductive metal coating method and apparatus thereof
US20020011205A1 (en) * 2000-05-02 2002-01-31 Shunpei Yamazaki Film-forming apparatus, method of cleaning the same, and method of manufacturing a light-emitting device
US7517551B2 (en) * 2000-05-12 2009-04-14 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of manufacturing a light-emitting device
US7053589B2 (en) * 2000-08-10 2006-05-30 Gabrys Christopher W Long-life vacuum system for energy storage flywheels
SG113448A1 (en) * 2002-02-25 2005-08-29 Semiconductor Energy Lab Fabrication system and a fabrication method of a light emitting device
DE10209423A1 (en) 2002-03-05 2003-09-18 Schwerionenforsch Gmbh Coating from a getter metal alloy and arrangement and method for producing the same
US7309269B2 (en) * 2002-04-15 2007-12-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of fabricating light-emitting device and apparatus for manufacturing light-emitting device
US20030221620A1 (en) * 2002-06-03 2003-12-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Vapor deposition device
US20040123804A1 (en) * 2002-09-20 2004-07-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Fabrication system and manufacturing method of light emitting device
US7297055B2 (en) * 2004-03-16 2007-11-20 Raytheon Company Vacuum-insulating system and method for generating a high-level vacuum
US20060046269A1 (en) * 2004-09-02 2006-03-02 Thompson Allen C Methods and devices for processing chemical arrays
CN100412362C (en) * 2005-09-05 2008-08-20 中国科学院物理研究所 Low temperature absorption combined exhaust device for maintaining high vacuum degree in sealed container
US8197222B2 (en) * 2006-07-05 2012-06-12 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Getter pump and vacuum coating installation comprising a getter pump
ITMI20080282A1 (en) 2008-02-22 2009-08-23 Getters Spa LITHOGRAPHY APPARATUS WITH EXTREME UV RADIATION WITH AN ABSORBER ELEMENT OF HYDROCARBONS INCLUDING A GETTER MATERIAL
WO2009149751A1 (en) * 2008-06-11 2009-12-17 R&B Energy Research Sarl Evacuated solar panel with a non evaporable getter pump
US20100163724A1 (en) * 2008-12-30 2010-07-01 University Of North Texas Applications of hydrogen gas getters in mass spectrometry
ES2360326B1 (en) * 2009-10-05 2012-03-30 Abengoa Solar New Technologies, S.A. VACCINE TUNER SYSTEM OR NON-EVAPORABLE GETTER.
JP5711898B2 (en) * 2010-04-02 2015-05-07 正雄 無漏田 Ultra-high vacuum hydrogen pump and thermionic controller
KR101864132B1 (en) * 2010-10-05 2018-07-13 에바텍 아크티엔게젤샤프트 In-situ conditioning for vacuum processing of polymer substrates
US20130256522A1 (en) * 2012-03-28 2013-10-03 Luke T. Perkins Titanium based gas reservoir for low power sealed tube neutron generators
JP2014118940A (en) * 2012-12-19 2014-06-30 High Energy Accelerator Research Organization Getter pump
DE102013016774A1 (en) * 2013-07-31 2015-02-05 Liebherr-Hausgeräte Lienz Gmbh Vakuumdämmkörper
CN103899511B (en) * 2014-03-07 2016-04-06 中国科学院等离子体物理研究所 Compel stream built-in type liquid helium cryo pump
CN104947039B (en) * 2014-03-24 2017-07-04 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 Thermal baffle and reaction chamber
US9685308B2 (en) * 2014-06-26 2017-06-20 Saes Getters S.P.A. Getter pumping system
US20160090976A1 (en) * 2014-09-30 2016-03-31 Honeywell International Inc. Systems and methods for a dual purpose getter container
WO2017046886A1 (en) 2015-09-16 2017-03-23 株式会社日立ハイテクノロジーズ Vacuum device
US10153282B1 (en) * 2017-08-11 2018-12-11 Lam Research Corporation Ultra-high vacuum transport and storage
RU185109U1 (en) * 2017-10-17 2018-11-22 Общество С Ограниченной Ответственностью "Изовак" MOBILE TARGET ASSEMBLY FOR VACUUM SPRAY CAMERA

Family Cites Families (60)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB277487A (en) * 1926-09-08 1927-09-22 William Holroyd Improvements in stop motion mechanism for steam engines
DE1011996B (en) * 1952-12-01 1957-07-11 Siemens Reiniger Werke Ag Vacuum vessel with a getter arrangement that can be heated to bind gases
US2965218A (en) * 1956-08-16 1960-12-20 Rand Dev Corp Getter
US3085739A (en) * 1960-09-20 1963-04-16 Ibm Vacuum method
US3203901A (en) * 1962-02-15 1965-08-31 Porta Paolo Della Method of manufacturing zirconiumaluminum alloy getters
US3316386A (en) * 1964-05-20 1967-04-25 Bendix Corp Multiple evaporation rate monitor and control
GB1168263A (en) * 1966-03-04 1969-10-22 James C Ii Hobbs Apparatus for Injecting Radio Opaque Liquid into a Vascular System
US3589953A (en) * 1968-02-14 1971-06-29 Gen Motors Corp Vapor diffusion system for semiconductors
NL163054C (en) * 1968-08-10 1980-07-15 Getters Spa NON-EVAPORATING GETTERING DEVICE.
US3603704A (en) * 1968-10-28 1971-09-07 Getters Spa Radiant heat reflection in devices such as getter pumps
DE2034633C3 (en) * 1969-07-24 1979-10-25 S.A.E.S. Getters S.P.A., Mailand (Italien) Cartridge for a getter pump
DE2062992A1 (en) * 1970-12-21 1972-06-29 Siemens Ag Getter body made of a zirconium-carbon sintered part for operation at room temperatures
DE2204714C3 (en) * 1972-02-01 1979-10-18 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Process for the production of getter bodies
IT963874B (en) * 1972-08-10 1974-01-21 Getters Spa IMPROVED GETTER DEVICE CONTAINING NON-EVAPORABLE MATERIAL
US3892650A (en) * 1972-12-29 1975-07-01 Ibm Chemical sputtering purification process
IT998681B (en) * 1973-10-01 1976-02-20 Getters Spa GETTER PUMP
IT1037196B (en) * 1975-04-10 1979-11-10 Getters Spa FUEL ELEMENT FOR NUCLEAR REACTOR USING ZR2NI AS GETTERANT METAL
US4022939A (en) * 1975-12-18 1977-05-10 Western Electric Company, Inc. Synchronous shielding in vacuum deposition system
CH621714A5 (en) * 1976-06-08 1981-02-27 Balzers Hochvakuum
US4137012A (en) * 1976-11-03 1979-01-30 S.A.E.S. Getters S.P.A. Modular getter pumps
US4181161A (en) * 1977-02-02 1980-01-01 Balzers Aktiengesellschaft Fur Hochvakuumtechnik Und Dunne Schichten Method of producing a high vacuum in a container
IT1110271B (en) * 1979-02-05 1985-12-23 Getters Spa NON-EVAPORABLE TERNARY GETTERING ALLOY AND METHOD OF ITS USE FOR THE ABSORPTION OF WATER, WATER VAPOR, OTHER GASES
IT1110109B (en) * 1979-02-05 1985-12-23 Getters Spa METHOD FOR THE PRODUCTION OF NON-EVAPORABLE TERNARY GETTERING ALLOYS
IT1110295B (en) * 1979-02-05 1985-12-23 Getters Spa NON-EVAPORABLE TERNARY GETTERING ALLOY PARTICULARLY FOR THE ABSORPTION OF WATER AND WATER VAPOR IN FUEL BARS OF NUCLEAR REACTORS
IT1115156B (en) * 1979-04-06 1986-02-03 Getters Spa ZR-FE ALLOYS FOR HYDROGEN ABSORPTION AT LOW TEMPERATURES
IT1198325B (en) * 1980-06-04 1988-12-21 Getters Spa STRUCTURE AND COMPOSITION GETTERANTS, PARTICULARLY SUITABLE FOR LOW TEMPERATURES
US4460673A (en) * 1981-06-03 1984-07-17 Fuji Electric Company, Ltd. Method of producing amorphous silicon layer and its manufacturing apparatus
AU562614B2 (en) * 1981-06-12 1987-06-18 Richard L. Edelson External treatment of blood with uv radiation
FR2511709A1 (en) * 1981-08-21 1983-02-25 Thomson Csf Epitaxial reactor with molecular jets - using an oxygen reactive layer to give a high vacuum
JPS58117372A (en) * 1981-12-30 1983-07-12 Ulvac Corp Superhigh vacuum pump using cryogenic pump and bulk getter pump in combination
US4405487A (en) * 1982-04-29 1983-09-20 Harrah Larry A Combination moisture and hydrogen getter
US4428856A (en) * 1982-09-30 1984-01-31 Boyarina Maya F Non-evaporable getter
US4449373A (en) * 1983-02-28 1984-05-22 Helix Technology Corporation Reduced vacuum cryopump
US4479361A (en) * 1983-03-02 1984-10-30 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Gas pump with movable gas pumping panels
US4515528A (en) * 1983-07-05 1985-05-07 General Electric Company Hydrocarbon getter pump
DE3332606A1 (en) * 1983-09-09 1985-03-28 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München GETTER SORPTION PUMP WITH HEAT STORAGE FOR HIGH VACUUM AND GAS DISCHARGE SYSTEMS
IT1173866B (en) * 1984-03-16 1987-06-24 Getters Spa PERFECT METHOD FOR MANUFACTURING NON-VARIABLE PORTABLE GETTER DEVICES AND GETTER DEVICES SO PRODUCED
JPS60222572A (en) * 1984-04-18 1985-11-07 Anelva Corp Cryopump
EP0187882B1 (en) * 1985-01-17 1989-04-05 Ibm Deutschland Gmbh Process for the production of low-resistance contacts
JPS62113876A (en) * 1985-11-13 1987-05-25 Hitachi Ltd Cryogenic pump
JPS62222572A (en) * 1986-03-24 1987-09-30 Toshiba Corp Electric power supply system
JPS62258176A (en) * 1986-05-02 1987-11-10 Toshiba Corp Cryopump
FR2601252B1 (en) * 1986-05-14 1990-06-08 Piani Jean MEDICATION INJECTION PUMP.
EP0348351A1 (en) * 1988-06-22 1989-12-27 Ciba-Geigy Ag Process for the preparation of substituted anilides
DE3837298C1 (en) * 1988-11-03 1990-03-29 Fresenius Ag, 6380 Bad Homburg, De
JPH03189380A (en) * 1989-12-20 1991-08-19 Jeol Ltd Getter pump
JPH0830260B2 (en) * 1990-08-22 1996-03-27 アネルバ株式会社 Vacuum processing equipment
DE4110588A1 (en) * 1991-04-02 1992-10-08 Leybold Ag ION SPRAYER PUMP WITH GETTER MODULE
JPH0599538A (en) * 1991-10-11 1993-04-20 Daikin Ind Ltd Adsorption type heat exchanger
US5238469A (en) * 1992-04-02 1993-08-24 Saes Pure Gas, Inc. Method and apparatus for removing residual hydrogen from a purified gas
JPH05318884A (en) * 1992-05-25 1993-12-03 Hitachi Ltd Printing control system
IT1255438B (en) * 1992-07-17 1995-10-31 Getters Spa NON-EVAPORABLE GETTER PUMP
IT1255439B (en) * 1992-07-17 1995-10-31 Getters Spa NON-EVAPORABLE GETTER PUMP
US5254096A (en) * 1992-09-23 1993-10-19 Becton, Dickinson And Company Syringe pump with graphical display or error conditions
JP2662757B2 (en) * 1992-10-07 1997-10-15 鹿島建設株式会社 Positioning connection method of beam steel frame
US5357760A (en) * 1993-07-22 1994-10-25 Ebara Technologies Inc. Hybrid cryogenic vacuum pump apparatus and method of operation
US5369139A (en) * 1993-08-17 1994-11-29 Cook Composites And Polymers Company Radiation and peroxide curable emulsified coatings
JPH07249500A (en) * 1994-03-11 1995-09-26 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd Supporting structure of non-evaporative getter pump
JPH08203830A (en) * 1994-07-20 1996-08-09 Applied Materials Inc Vacuum processing chamber for high-temperature ultra high vacuum
US5685963A (en) * 1994-10-31 1997-11-11 Saes Pure Gas, Inc. In situ getter pump system and method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU97109839A (en) HETTER PUMP MODULE AND SYSTEM
US5972183A (en) Getter pump module and system
US6247830B1 (en) Heat shield for agricultural light bulb
US4183351A (en) Solar heat collecting apparatus
US20020030453A1 (en) High brightness microwave lamp
US4080954A (en) Solar collector apparatus
EP0753663B1 (en) Improved getter pump, particularly for a portable chemical analysis instrument
JPS5914712B2 (en) Equipment for gas pressure bonding, hot isostatic pressing and similar applications
US5911560A (en) Getter pump module and system
CN110299308B (en) Substrate heating device and substrate processing device using the same
JPS6142388B2 (en)
US6142742A (en) Getter pump module and system
US5340346A (en) Double-ended metal halide arc discharge lamp with electrically isolated containment shroud
JP3382064B2 (en) Heat treatment equipment
JPH04227478A (en) Manufacture of heat accumulation means
JP3112672B1 (en) Vertical heating device
JPH0685395B2 (en) Heating device for semiconductor manufacturing equipment
JPH0693429A (en) Crucible for vacuum vapor deposition device
JPS595808B2 (en) solar heat collector
JP3285982B2 (en) Equipment for sintering capacitor chips in solid electrolytic capacitors
AU778355B2 (en) Getter flash shield
GB2180984A (en) Getter retainer for ring laser gyro
JPH0517143Y2 (en)
JPH063795B2 (en) Heat treatment equipment for semiconductor manufacturing
JPH02184020A (en) Vapor growth device