RU93044948A - Плазматрон - Google Patents

Плазматрон

Info

Publication number
RU93044948A
RU93044948A RU93044948/25A RU93044948A RU93044948A RU 93044948 A RU93044948 A RU 93044948A RU 93044948/25 A RU93044948/25 A RU 93044948/25A RU 93044948 A RU93044948 A RU 93044948A RU 93044948 A RU93044948 A RU 93044948A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
plasmatron
power source
sprayed material
low
power
Prior art date
Application number
RU93044948/25A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2071188C1 (ru
Inventor
И.К. Батрак
Г.П. Сорока
Original Assignee
И.К. Батрак
Г.П. Сорока
Filing date
Publication date
Application filed by И.К. Батрак, Г.П. Сорока filed Critical И.К. Батрак
Priority to RU93044948A priority Critical patent/RU2071188C1/ru
Priority claimed from RU93044948A external-priority patent/RU2071188C1/ru
Publication of RU93044948A publication Critical patent/RU93044948A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2071188C1 publication Critical patent/RU2071188C1/ru

Links

Claims (1)

  1. Плазматрон относится к технике низкотемпературной плазмы, конкретно к плазматронам (П) малой мощности, и используется для нанесения покрытий на материалы и изделия. Изобретение решает проблему создания П мощностью 0,1-0,5 кВт, который может эксплуатироваться в бытовых условиях. П содержит катод и анод, соединенные с источником электропитания и размещенные в корпусе, имеющем также входы плазмообразующего газа и напыляемого материала. Отличительными признаками плазматрона являются расположение входа напыляемого материала с той же стороны корпуса, что и вход газа, а также выполнение источника питания с напряжением разомкнутой цепи Uxx, которые устанавливают из соотношения
    Figure 00000001

    где U0, K1, К1, К2, n -экспериментальные величины, U0=50oC500 В; К1= 0,8oC0,9; К2=20oC50; n=0,5oC2,0; P и Pm -необходимая и максимальная мощности П.
RU93044948A 1993-09-16 1993-09-16 Плазменная установка RU2071188C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93044948A RU2071188C1 (ru) 1993-09-16 1993-09-16 Плазменная установка

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU93044948A RU2071188C1 (ru) 1993-09-16 1993-09-16 Плазменная установка

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU93044948A true RU93044948A (ru) 1995-12-27
RU2071188C1 RU2071188C1 (ru) 1996-12-27

Family

ID=20147501

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU93044948A RU2071188C1 (ru) 1993-09-16 1993-09-16 Плазменная установка

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2071188C1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1764822A3 (en) RF powered plasma enhanced chemical vapour deposition reactor and methods of effecting plasma enhanced chemical vapour deposition
ATE368936T1 (de) Zwei-frequenz-plasmaätzreaktor mit unabhangiger kontrolle für dichte, chemie und ionenenergie
EP0817237A3 (en) Methods and apparatus for treating workpieces with plasmas
KR930017103A (ko) 드라이 에칭 방법 및 그 장치
SE9904295D0 (sv) Device for Hybrid Plasma Processing
DE3777425D1 (de) Vorrichtung zur plasmabehandlung von substraten in einer durch hochfrequenz angeregten plasmaentladung.
US6328760B1 (en) Pulsed plasma radiation device for emitting light in biologically significant spectral bands
EP1030345A3 (en) Plasma treatment equipment and impedance measurement tool
GB9825722D0 (en) Plasma chip
DE69207616T2 (de) Schnelle Atomstrahlquelle
RU93044948A (ru) Плазматрон
ATE387008T1 (de) Kalte elektrode für gasentladungen
MY133009A (en) Method and apparatus for operating discharge lamp.
DE59109184D1 (de) Schaltungsanordnung zur stromversorgung für gepulst betriebene vakuumbögen
JPS56145634A (en) Ultrahigh-frequency electron tube
Chen This research was supported in part by SDI0/IST under the managment of Harry Diamond Laboratories, in part by the Department of Energy High Energy Physics Division, and
RU2000130091A (ru) Способ стерилизации
RU96110833A (ru) Вакуумно-дуговой источник плазмы
JPS56158874A (en) Plasma etching method
SU1466260A1 (ru) Устройство для обработки подложек в вакууме
RU93030904A (ru) Виркатор
SU1552687A1 (ru) Электродуговой испаритель
JPS5591980A (en) Plasma treating apparatus
PI Gas injected washer plasma gun
JPS641226A (en) Plasma generator