RU33581U1 - Устройство для выращивания монокристалла кремния из расплава - Google Patents

Устройство для выращивания монокристалла кремния из расплава Download PDF

Info

Publication number
RU33581U1
RU33581U1 RU2003117169/20U RU2003117169U RU33581U1 RU 33581 U1 RU33581 U1 RU 33581U1 RU 2003117169/20 U RU2003117169/20 U RU 2003117169/20U RU 2003117169 U RU2003117169 U RU 2003117169U RU 33581 U1 RU33581 U1 RU 33581U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
heater
melt
growing
gas
backfill
Prior art date
Application number
RU2003117169/20U
Other languages
English (en)
Inventor
С.В. Алексеев
М.В. Баташов
Х.И. Макеев
М.Х. Макеев
Original Assignee
Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт Научно-производственное объединение "Луч"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт Научно-производственное объединение "Луч" filed Critical Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт Научно-производственное объединение "Луч"
Priority to RU2003117169/20U priority Critical patent/RU33581U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU33581U1 publication Critical patent/RU33581U1/ru

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

УСТРОЙСТВО для ВЫРАЩИВАНИЯ МОНОКРИСТАЛЛА КРЕМНИЯ ИЗ РАСНЛАВА
200511716
МПК с 30 в 15/00,15/20
Полезная модель относится к технологии получения полупроводниковых материалов для электронной техники, в частности кремния, получаемого для этих целей методом Чохральского,
Оснастка печи для выращивания монокристаллов кремния методом Чохральского состоит из множества графитовых и углеродных композитных материалов. Как правило, процесс выращивания осуществляют в протоке чистого аргона с использованием кварцевого тигля для расплава. Газовый поток формируют для создания чистой зоны над расплавом в тигле и удаления из области кристаллизации парогазовой смеси моноокиси кремния SiO и других лет)их примесей.
Моноокись кремния SiO образуется, в основном, в результате химической реакции между расплавленным кремнием и кварцевым тиглем:
Si + SiO2 О 2 SiO.
Отходящая от расплава парогазовая смесь направляется через нижнюю часть камеры, в которой расположены нагреватель и теплоизоляция, для эвакуации. При этом моноокись кремния разрушает элементы теплового узла, в том числе графитовый нагреватель. В результате химической реакции между моноокисью кремния SiO и элементами оснастки печи образуется моноокись углерода СО, карбид кремния Sic и свободный кремний Si:
Свободный кремний Si внитывается в графит и разрушает его, а газообразная окись углерода термоконвективными потоками переносится в область кристаллизации и загрязняет расплав кремния углеродом, что приводит к срыву роста бездислокационного монокристалла. Моноокись углерода СО образуется также в результате химической реакции между кислородом, попадающим внутрь камеры через уплотнения, и элементами оснастки печи:
Наиболее близким по технической сущности к заявляемой полезной модели является устройство для выращивания монокристалла кремния из расплава, содержащее камеру с отверстиями для эвакуации газового потока, в которой размещены тигель для расплава, расположенный в подставке на штоке, верхний газонаправляющий экран, формирующий газовый поток над расплавом, и нагреватель (см. патент РФ № 2102539, оп. 20.01.1998 Бюл. № 2, МПК С 30 В 15/14, 15/00). Отверстия для эвакуации газового потока выполнены в нижней части камеры, ниже элементов теплового узла. Отходящая от расплава парогазовая смесь направляется через горячие (800-г1500°С) элементы теплового узла в нижнюю часть камеры для эвакуации. При этом агрессивные парогазовые потоки разрушают нагреватель и другие графитовые элементы и приводят к загрязнению атмосферы камеры устройства для выращивания. После проведения процесса проводится чистка установки, а перед проведением процесса выращивания - дегазация элементов теплового узла.
Недостатком данного устройства является следующее: контакт моноокиси кремния и других агрессивных компонентов отходящей парогазовой смеси с элементами теплового узла (нагреватель, экраны, теплоизоляция), а также с защитным поддоном приводит к их разрушению, к необходимости разборки теплового узла для очистки после каждой плавки, к значительным затратам на дегазацию графитовых элементов после длительного контакта с атмосферой при замене элементов и их
2С + Ог О 2СО.
обслуживании. В результате имеют место длительные технологические простои устройства, значительные затраты на замену графитовых элементов тенлового узла, на чистку камеры установки, на проведение подготовительных мероприятий перед проведением процесса выращивания.
Перед авторами стояла задача снизить затраты на обслуживание и ремонт устройства, повысить его производительность и уменьшить себестоимость выращивания монокристаллов кремния за счет уменьшения и локализации агрессивных парогазовых потоков и уменьшения степени их воздействия на элементы теплового узла, устранения дополнительного загрязнения атмосферы камеры продуктами взаимодействия парогазовой смеси с элементами теплового узла, а также за счет повышения срока службы теплового узла.
Поставленная задача достигается тем, что устройство для выращивания монокристалла кремния из расплава, содержащее камеру с отверстиями для эвакуации газового потока, в которой размещены тигель для расплава, расположенный в подставке на штоке, верхний газонаправляющий экран, формирующий газовый поток над расплавом, и нагреватель, снабжено нижним газонаправляющим кольцевым экраном с центральным отверстием для перемещения подставки, установленным над нагревателем, отверстия для эвакуации газового потока выполнены в камере между верхним и нижним газонаправляющими экранами, а пространство между корпусом, нижним газонаправляющим кольцевым экраном, нагревателем и штоком заполнено засыпкой.
В качестве материала засыпки может быть использован карбид кремния.
В случае выполнения нагревателя секционным, засыпка может быть зафиксирована между секциями нагревателя при помощи уплотняющих вставок.
Вокруг штока засыпка может быть зафиксирована при помощи уплотняющего кольца.
В качестве материала уплотняющих вставок может быть использован графитовый войлок.
Изменение конструкции теплового узла путем снабжения устройства нижним газонаправляющим кольцевым экраном с центральным отверстием для перемещения подставки и его расположения сверху нагревателя, а также выполнение отверстий для эвакуации газового потока между верхним и нижним газонаправляющими экранами создают в процессе выращивания монокристалла такое направление движения агрессивных парогазовых потоков, при котором исключается их доступ в нижнюю часть теплового узла.
Заполнение пространства между корпусом, нижним газонаправляющим кольцевым экраном, нагревателем и щтоком засыпкой устраняет наличие паразитных пустот внутри камеры устройства. При этом значительно снижается интенсивность конвективных газовых потоков от высокотемпературных элементов устройства, загрязненных моноокисью углерода, уменьшается контакт моноокиси кремния с поверхностями графитовых деталей с последующим образованием свободного кремния. За счет этого повышается срок службы элементов теплового узла. Отпадает необходимость чистки камеры после проведения процесса выращивания. Кроме того, заполнение пространства теплового узла засыпкой значительно уменьшает потери тепла через водоохлаждаемые стенки камеры. Требуемый для проведения процесса выращивания монокристалла расход электроэнергии снижается более, чем на 15%. Дополнительным преимуществом заполнения засыпкой пространства вокруг нагревателя является пассивная защита камеры устройства от возможного (в случае аварии) попадания расплавленного кремния на металлические водоохлаждаемые части установки. При этом
сокращается время восстановительного ремонта устройства, а сами последствия возможной аварии не носят разрушительного характера.
В предложенном устройстве вместо графитовых компонентов теплового узла в качестве засыпки может использоваться карбид кремния в виде сыпучего материала. Карбид кремния является материалом, совместимым со всеми материалами технологического процесса выращивания монокристаллов кремния методом Чохральского. Кроме того, карбид кремния допускает хорошую очистку от примесей, содержит углерод, преимущественно, в связанном состоянии, имеет высокую температуру плавления и является коррозионно-стойким материалом, в том числе по отнощению к расплавленному кремнию.
Использование секционного нагревателя является более предпочтительным, прежде всего, из-за его лучшей ремонтопригодности и, как следствие, большего срока службы. В этом случае засыпка может быть зафиксирована между секциями нагревателя при помощи уплотняющих вставок, например, из графитового войлока. Вокруг щтока засыпка может быть зафиксирована при помощи уплотняющего кольца. Уплотняющие вставки и кольцо необходимы для фиксации засыпки в пространстве, образованном корпусом, нижним газонаправляющим кольцевым экраном, нагревателем и щтоком. Причем, после первого процесса выращивания монокристалла засыпка в виде карбида кремния несколько осаживается и приобретает устойчивую форму, которая сохраняется в последующих процессах выращивания.
Использование графитового войлока в качестве материала уплотняющих вставок целесообразно по двум причинам. Во-первых, этот материал совместим с материалами технологического процесса выращивания, и, во-вторых, графитовый войлок характеризуется достаточным электрическим сопротивлением для сохранения направления тока вдоль секций нагревателя, что обеспечивает его необходимую электрическую мощность для проведения процесса выращивания.
в предложенном устройстве исключается необходимость разборки, чистки, сборки теплового узла после каждого процесса выращивания. Это значительно сокращает технологический простой устройства между процессами, а именно: не требуется выдерживать устройство для снижения температуры элементов, не требуется проводить дегазацию высокотемпературных элементов после их остывания до начала процесса. В среднем технологический простой устройства сокращается по времени более чем на 5-J-6 часов при средней длительности самого процесса до 30-г35 часов. В предложенном устройстве разборка и чистка теплового узла проводится в среднем через 10 процессов, в то время как для устройства, принятого за прототип, необходимость разборки теплового узла существует после каждого процесса выращивания монокристалла.
В предложенном устройстве лучше сохраняется от разрушения графитовая основа нагревателя за счёт значительного снижения химического воздействия моноокиси кремния на графит при высокой температуре. В среднем экономия от уменьшения расхода графитовых элементов составляет при этом 30%.
Локализация в предложенном устройстве агрессивного парогазового потока и сушественное снижение количества образующихся в пространстве теплового узла вредных для процесса выращивания примесей за счет предложенной совокупности отличительных признаков позволяет устранить источник дополнительного загрязнения атмосферы камеры продуктами взаимодействия парогазовой смеси с элементами теплового узла и получить значительный экономический эффект.
Указанная совокупность отличительных признаков свидетельствует о соответствии заявляемого технического решения критерию «новизна.
Все перечисленные преимущества предложенного устройства характеризуются следующими технико-экономическими результатами:
Значительно уменьшается объем работ, улучшаются условия труда обслуживаюшего персонала, практически исключены опасные операции по обслуживанию устройства.
Таким образом, реализация предложенного устройства позволяет повысить срок службы теплового узла, снизить затраты на его обслуживание, исключить дополнительное загрязнение атмосферы камеры продуктами взаимодействия парогазовой смеси с элементами теплового узла.
Предложенное устройство для вырашивания монокристалла кремния из расплава поясняется чертежом, на котором схематично представлены общий вид камеры для вырашивания и часть элементов устройства, необходимых для раскрытия сущности предложенного изобретения.
Устройство для выращивания монокристалла кремния из расплава содержит камеру 1 с отверстиями 2 для эвакуации газового потока, в которой размещены тигель 3 для расплава, расположенный в подставке 4 на штоке, верхний газонаправляющий экран 5 (например, выполненный составным, как показано на чертеже), формируюший газовый поток над расплавом и нагреватель 6. Устройство снабжено нижним газонаправляющим кольцевым экраном 7 с центральным отверстием для перемещения подставки 4, установленным сверху нагревателя 6. Отверстия 2 для эвакуации газового потока выполнены в корпусе камеры 1 между верхним 5 и нижним 7 газонаправляющими экранами. Пространство между корпусом 1, нижним газонаправляющим кольцевым экраном 7, нагревателем 6 и штоком заполнено засыпкой 8, например, из карбида кремния. Нагреватель 6 может быть выполнен секционным и засыпка 8 зафиксирована между секциями нагревателя при помощи уплотняющих вставок (на чертеже не показаны), например, из графитового войлока. Вокруг щтока подставки 4 засыпка 8 может быть зафиксирована при помощи уплотняющего кольца 9. Подаваемый газовый поток аргона изображен на чертеже сплошными стрелками 10. Образуюшийся в
процессе роста монокристалла 11 парогазовый поток изображен на чертеже прерывистыми стрелками 12.
Предложенное устройство может быть выполнено следующим образом.
На стадии подготовки устройства для выращивания монокристалла кремния из расплава в камере 1 размещены кварцевый тигель 3 диаметром 356 мм, расположенный в графитовой подставке 4 с внешним диаметром 370 мм, зафиксированной на щтоке, верхний газонаправляющий экран 5 и нагреватель 6, выполненный из плоских графитовых пластин (секционный нагреватель), установленных вертикально по периметру правильного многоугольника. Каждая пластина имеет прорези, образующие токоведущие ветви. Пластины нагревателя 6 соединены между собой и с токовводами графитовыми винтами и сегментами.
Между секциями нагревателя 6 вставлены уплотняющие вставки из графитового войлока. Па щтоке подставки 4 установлено уплотняющее кольцо 9. Уплотняющие вставки и уплотняющее кольцо 9 использованы для фиксации засыпки.
Пространство между корпусом 1, нагревателем 6 с уплотняющими вставками и штоком с уплотняющим кольцом 9 заполняется засыпкой 8 до верхней кромки нагревателя 6. В качестве материала засыпки 8 использован карбид кремния.
Устройство снабжается нижним газонаправляющим кольцевым экраном 7 с центральным отверстием диаметром 390 мм для вертикального перемещения подставки 4 с кварцевым тиглем 3. Нижний газонаправляющий кольцевой экран 7 установлен над нагревателем 6.
Отверстия 2 для эвакуации газового потока выполнены в корпусе камеры 1 между верхним 5 и нижним 7 газонаправляющими экранами.
области кристаллизации расплава и свободного пространства воьфуг подставки 4 и уносит её к отверстиям 2 для эвакуации.
Устройство работает следующим образом.
Кварцевый тигель 3, загруженный поликристаллическим кремнием (масса загрузки 40 кг) с лигатурой, размещают в подставке 4 на щтоке в тепловом узле, включающем также нагреватель 6, засыпку 8, верхний 5 и нижний 7 газонаправляющие экраны. После герметизации и вакуумирования камеры начинают подачу в устройство инертного газа 10 (аргона) с расходом 20 л/мин. Поток подаваемого газа формируют с помощью верхнего газонаправляющего экрана 5, а эвакуацию отходящей агрессивной парогазовой смеси 12 из камеры осуществляют через отверстия 2, выполненные между верхним 5 и нижним 7 газонаправляющими экранами. Нагревают тепловой узел до образования расплава кремния в кварцевом тигле 3, проводят стабилизацию температуры расплава, осуществляют затравление и начинают процесс выращивания монокристалла 11.
Мощность нагревателя 6 устанавливают на 15% ниже по сравнению с устройством, принятым за прототип.
В результате осуществления процесса получают бездислокационный монокристалл кремния со средним диаметром 152,5 мм и длиной цилиндрической части до 800 мм.
После остывания теплового узла устройство вскрывают, извлекают монокристалл и тигель с остатками расплава из камеры, в горячую зону помещают новый кварцевый тигель с загрузкой и повторяют процесс.
Чистку теплового узла камеры проводят в среднем через 10 процессов выращивания.
Все перечисленные работы дали следующие экономические результаты:
Значительно сокращен объем работ по перегрузке устройства и облегчен труд персонала, практически исключены вредные и опасные вспомогательные операции,
За счет сокращения технологических потерь, времени перегрузки и обслуживания устройства и уменьшения затрат на расходные материалы себестоимость продукции снижена на 10%.
Таким образом, предложенное устройство позволяет значительно повысить производительность устройства для выращивания и снизить себестоимость монокристаллов кремния, а также продлить срок службы теплового узла, уменьшить затраты на его обслуживание и ремонт. При этом качественные характеристики выращенных монокристаллов улучшаются за счет устранения источника дополнительного загрязнения атмосферы камеры продуктами взаимодействия агрессивной парогазовой смеси с элементами теплового узла.

Claims (5)

1. Устройство для выращивания монокристалла кремния из расплава, содержащее камеру с отверстиями для эвакуации газового потока, в которой размещены тигель для расплава, расположенный в подставке на штоке, верхний газонаправляющий экран, формирующий газовый поток над расплавом, и нагреватель, отличающееся тем, что устройство снабжено нижним газонаправляющим кольцевым экраном с центральным отверстием для перемещения подставки, установленным над нагревателем, отверстия для эвакуации газового потока выполнены в камере между верхним и нижним газонаправляющими экранами, а пространство между корпусом, нижним газонаправляющим кольцевым экраном, нагревателем и штоком заполнено засыпкой.
2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что в качестве материала засыпки использован карбид кремния.
3. Устройство по п.1, отличающееся тем, что нагреватель выполнен секционным, при этом засыпка зафиксирована между секциями нагревателя при помощи уплотняющих вставок.
4. Устройство по п.1, отличающееся тем, что засыпка зафиксирована вокруг штока при помощи уплотняющего кольца.
5. Устройство по п.3, отличающееся тем, что в качестве материала уплотняющих вставок использован графитовый войлок.
Figure 00000001
RU2003117169/20U 2003-06-17 2003-06-17 Устройство для выращивания монокристалла кремния из расплава RU33581U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2003117169/20U RU33581U1 (ru) 2003-06-17 2003-06-17 Устройство для выращивания монокристалла кремния из расплава

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2003117169/20U RU33581U1 (ru) 2003-06-17 2003-06-17 Устройство для выращивания монокристалла кремния из расплава

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU33581U1 true RU33581U1 (ru) 2003-10-27

Family

ID=36048461

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2003117169/20U RU33581U1 (ru) 2003-06-17 2003-06-17 Устройство для выращивания монокристалла кремния из расплава

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU33581U1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101370180B1 (ko) 용융물 오염물 저감 및 웨이퍼 오염물 저감을 위한 방향성 응고로
KR101975735B1 (ko) 조절된 압력하에서 헬륨을 사용하는 고온 처리 방법
KR101540225B1 (ko) 단결정 제조장치 및 단결정의 제조방법
KR20070042971A (ko) 용융기 어셈블리, 및 결정 형성 장치를 용융된 원재료로충전하는 방법
CN105887186B (zh) 硅单晶提拉设备与生长方法
KR970059321A (ko) Cz 실리콘 결정 성장 시스템의 급속냉각법
JP2011219286A (ja) シリコン及び炭化珪素の製造方法及び製造装置
JP3671562B2 (ja) 単結晶の製造装置および製造方法
JPS62138386A (ja) 単結晶の引上装置
JP2005053722A (ja) 単結晶製造装置及び単結晶の製造方法
RU33581U1 (ru) Устройство для выращивания монокристалла кремния из расплава
RU2241079C1 (ru) Устройство для выращивания монокристалла кремния из расплава
US6246029B1 (en) High temperature semiconductor crystal growing furnace component cleaning method
KR20100042506A (ko) 정제 기능을 가지는 실리콘 잉곳 제조장치
KR101111681B1 (ko) 단결정 실리콘 잉곳 제조장치
US6764547B2 (en) Crystal growth apparatus
JP3832536B2 (ja) シリコン単結晶の製造方法および引上げ機
RU2472875C1 (ru) Способ выращивания монокристалла кремния из расплава
JP2015048295A (ja) 多結晶シリコンの掻き取り装置および掻き取り方法
JP2006044962A (ja) シリコン単結晶引上装置
KR20110010249A (ko) 태양전지용 고순도 실리콘 제조 방법 및 그를 위한 장치
JP2013173646A (ja) 単結晶製造装置及び単結晶製造方法
JP2010006657A (ja) シリコン単結晶の製造装置およびシリコン単結晶の製造方法
JP2005200279A (ja) シリコンインゴットの製造方法、太陽電池
WO2012011159A1 (ja) シリコンインゴットの連続鋳造方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM1K Utility model has become invalid (non-payment of fees)

Effective date: 20040618