RU2790303C1 - Способ изготовления стеклянных пластин для фотопреобразователей космического назначения - Google Patents

Способ изготовления стеклянных пластин для фотопреобразователей космического назначения Download PDF

Info

Publication number
RU2790303C1
RU2790303C1 RU2022119208A RU2022119208A RU2790303C1 RU 2790303 C1 RU2790303 C1 RU 2790303C1 RU 2022119208 A RU2022119208 A RU 2022119208A RU 2022119208 A RU2022119208 A RU 2022119208A RU 2790303 C1 RU2790303 C1 RU 2790303C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
glass
glass plates
etching
layer
silicone rubber
Prior art date
Application number
RU2022119208A
Other languages
English (en)
Inventor
Борис Николаевич Самсоненко
Наталья Александровна Королева
Original Assignee
Акционерное общество "Сатурн" (АО "Сатурн")
Filing date
Publication date
Application filed by Акционерное общество "Сатурн" (АО "Сатурн") filed Critical Акционерное общество "Сатурн" (АО "Сатурн")
Application granted granted Critical
Publication of RU2790303C1 publication Critical patent/RU2790303C1/ru

Links

Images

Abstract

Изобретение относится к электротехнике, в частности, к технологии изготовления фотоэлементов с радиационно-стойким защитным стеклом. Способ изготовления стеклянных пластин для фотопреобразователей космического назначения включает создание слоя поверхностного сжатия на стеклянной пластине, кислотное травление в растворе плавиковой кислоты на глубину, равную или большую глубины сжатого слоя стекла, защиту травленной поверхности стекла химической закалкой, кислотное травление выполняют при вертикальном поступательно-возвратном перемещении стеклянных пластин в растворе, а после химической закалки выполняют одностороннее капельное нанесение на стеклянные пластины защитного слоя силиконового каучука, причем в качестве растворителя силиконового каучука используют смесь Сольвента и бензина Нефрас. Изобретение обеспечивает повышение выхода годных стеклянных пластин, фотоэлементов на операциях сборки и монтажа за счет обеспечения однородности травления стеклянных пластин в процессе химико-динамического травления; увеличение механической прочности стеклянных пластин за счет стравливания дефектов скрайберной резки и полимерной защиты тыльной стороны стеклянных пластин после химической закалки. 8 ил., 1 табл.

Description

Изобретение относится к электротехнике, в частности, к технологии изготовления фотоэлементов с радиационно стойким защитным стеклом.
Известен метод лазерного термораскалывания стекла (см. статью В.К. Сысоев, П.А. Вятлев «Технологические характеристики процесса лазерного термораскалывания», Изв. вузов. Приборостроение, 2008 г, т. 51, №4), принятый за аналог, в котором вытянутое в ленту стекло разрезают на формы необходимой конфигурации за счет термических напряжений, возникающих между разогретым и охлажденным участками.
Недостаток данного метода заключается в том, что лазерное термораскалывание стеклянных пластин толщиной менее 170 мкм неэффективно из-за невоспроизводимого развития микротрещины от начального дефекта.
Признаки аналога, общие с предлагаемым способом изготовления стеклянных пластин для фотопреобразователей космического назначения: резка стеклянных пластин на формы необходимой конфигурации.
Известен способ изготовления стеклянных пластин с утолщенным краем для фотопреобразователей космического назначения (см. патент РФ №2687875, опубл. 16.05.2019 г), принятый за прототип, включающий создание слоя поверхностного сжатия на стеклянной пластине, кислотное травление поверхности на глубину, равную или большую глубины сжатого стекла и защиту травленной поверхности стекла химической закалкой, при этом стеклянные пластины вырезают из стеклянных заготовок, которые предварительно располагают вертикально и покрывают защитным слоем путем погружения в расплав воска, формируя при этом за пределами защитного покрытия участок поверхности с геометрической конфигурацией фотопреобразователя, причем с меньшими на 2÷10 мм габаритными размерами, далее покрывают сплошным защитным слоем воска одну из сторон стеклянных заготовок, а затем выполняют травление стеклянных заготовок на 30÷60 мкм в водном растворе плавиковой и серной кислот, после чего удаляют восковое покрытие и вырезают стеклянные пластины с утолщенным краем.
Недостаток способа прототипа заключается в том, что при наклейке стеклянной пластины возникает нежелательный жесткий прижим поверхности стекла к выступам выводных шин фотопреобразователя, приводящий к дополнительным механическим напряжениям и повышающий вероятность трещинообразования стекла, в результате чего, увеличивается объем ремонтных работ по наклейке второго стекла. Длительное кислотное травление стеклянных пластин на значительную глубину 20÷30 мкм в статическом положении приводит к неоднородности толщины верхних и нижних участков пластины, кроме того, на поверхности стеклянных пластин при кислотном травлении могут формироваться участки матирования, связанные с недостаточно полным удалением продуктов реакции, что снижает выход годных стеклянных пластин.
Технический результат, достигаемый в предлагаемом способе изготовления стеклянных пластин для фотопреобразователей космического назначения заключается: в повышении выхода годных стеклянных пластин, фотоэлементов на операциях сборки и монтажа за счет обеспечения однородности травления стеклянных пластин в процессе химико-динамического травления, в увеличении механической прочности стеклянных пластин за счет стравливания дефектов скрайберной резки и полимерной защиты тыльной стороны стеклянных пластин после химической закалки.
Признаки прототипа, общие с предлагаемым способом изготовления стеклянных пластин для фотопреобразователей космического назначения следующие: создание слоя поверхностного сжатия на стеклянной пластине, кислотное травление в растворе плавиковой кислоты на глубину равную или большую глубины сжатого слоя стекла, защиту травленной поверхности стекла химической закалкой.
Отличительные признаки предлагаемого способа изготовления стеклянных пластин для фотопреобразователей космического назначения, обуславливающие его соответствие критерию «новизна», следующие: выполнение кислотного травления происходит при вертикальном поступательно-возвратном перемещении стеклянных пластин в растворе; после химической закалки выполняют одностороннее капельное нанесение на стеклянные пластины защитного слоя силиконового каучука; в качестве растворителя силиконового каучука используют смесь Сольвента и бензина Нефрас.
Достигается это тем, что в способе изготовления стеклянных пластин для фотопреобразователей космического назначения, включающем создание слоя поверхностного сжатия на стеклянной пластине, кислотное травление в растворе плавиковой кислоты на глубину равную или большую глубины сжатого слоя стекла, защиту травленной поверхности стекла химической закалкой, кислотное травление выполняют при вертикальном поступательно-возвратном перемещении стеклянных пластин в растворе, а после химической закалки выполняют одностороннее капельное нанесение на стеклянные пластины защитного слоя силиконового каучука, причем в качестве растворителя силиконового каучука используют смесь Сольвента и бензина Нефрас.
Вертикальное поступательно-возвратное перемещение стеклянных пластин в кислотном растворе обеспечивает однородность травления и увеличение механической прочности стеклянных пластин за счет стравливания дефектов скрайберной резки; позволяет избежать матирования, связанного с накоплением продуктов травления на поверхности стеклянных пластин, снижающего светопропускание. Слой эластичного силиконового каучука холодного отверждения СКТНФ предотвращает непосредственный контакт поверхности стеклянных пластин с выступающими элементами металлизации фотоэлемента, снижает механическое напряжение и риск трещинообразования стеклянной пластины.
Конкретный пример изготовления стеклянных пластин иллюстрирован на фиг. 1÷8 и таблицей 1. На фиг. 1 представлен вид загрузочного устройства для химико-динамического травления стеклянных пластин. На фиг. 2 представлен вид стеклянной пластины: а) - с матовыми пятнами на поверхности при недостаточной очистке и стационарном травлении; б) - с чистой поверхностью после химико-динамического травления. На фиг. 3 представлены спектры пропускания (а,б) и отражения (в,г) стеклянной пластины: а,в) - до; б,г) - после травления. На фиг. 4 представлены спектры пропускания (а,б) и отражения (в,г) стеклянной пластины: а,в) - до; б,г) - после нанесения слоя силиконового полимера СКТНФ. На фиг. 5 представлен вид стеклянной пластины: а) - до; б) - в процессе выполнения испытания на механическую прочность методом центрально-симметричного изгиба. На фиг. 6 представлен вид стеклянной пластины после нанесения полимерного покрытия: а) - с микросгустками; б) - с укрупненными каплями в полимерном слое. На фиг. 7 представлен вид стеклянной пластины после нанесения полимерного покрытия с однородной структурой. На фиг. 8 представлен вид фотопреобразователя с наклеенной стеклянной пластиной.
В таблице 1 представлены результаты испытаний стеклянных пластин на механическую прочность методом центрально-симметричного изгиба.
Для конкретного примера изготовления стеклянных пластин для фотопреобразователей космического назначения применяют радиационно-стойкое стекло К-208. Формируют вытягиванием из расплава стеклянную ленту толщиной 140 мкм, разделяют стеклянную ленту на заготовки, выравнивают стеклянные заготовки термическим отжигом под прессом. Вырезают с помощью алмазного скрайбирования стеклянные формы трапецеидальной конфигурации с габаритными размерами 40,5×80,5 мм. Создают слой поверхностного сжатия на поверхности стеклянных пластин путем обработки в расплаве калийной селитры при температуре ~425°С в течение 40 мин с целью сдавливания микротрещин на торцевых гранях стекла.
Обрабатывают стеклянные пластины в водном растворе на основе 0,4% тринатрийфосфата (Na3PO3) с добавлением аммиака при нагревании до 70÷80°С, что необходимо для очистки поверхности и последующего травления стекла без образования матовых пленок. Выполняют двухстороннее химико-динамическое травление стеклянных пластин с исходной толщиной ~140 мкм в водном растворе плавиковой кислоты HF÷H2O=1÷5 в течение 50 мин (см. фиг. 1). При этом стеклянные пластины, находящиеся в кассете, совершают в растворе вертикальное поступательно-возвратное перемещение с частотой 55 циклов в минуту с амплитудой колебания ~5 см (средняя скорость перемещения в растворе ~9 см/с). В результате скорость травления составляет ~0,8 мкм/мин. Однородность травления составляет 1÷2 мкм по площади стеклянной пластины с габаритными размерами 40,5×80,5 мм и результирующей толщиной ~100 мкм. При этом происходит вытравливание поверхностных микротрещин стекла, привнесенных скрайберной резкой. Кроме того, химико-динамический характер травления обеспечивает интенсивное удаление продуктов травления с поверхности стекла, что необходимо для предотвращения матирования (см. фиг. 2а, б) при отсутствии в растворе дополнительного компонента серной кислоты. Оптическое пропускание стеклянной пластины после травления не ухудшается (см. фиг. 3а, б). Далее осуществляют защиту травленной поверхности стекла химической закалкой в расплаве калийной селитры при температуре ~425°С в течение ~40 мин. Затем выполняют одностороннее нанесение, в том числе на поверхность торцев стеклянных пластин, слоя силиконового полимера холодного отверждения марки СКТНФ (ТУЗ 8.103129-77) на основе низкомолекулярного фенилметилсилоксанового каучука со стандартным катализатором полимеризации №18 (ТУ6-02-805-78) (раствор оловоорганических соединений в эфирах ортокремниевой кислоты) методом капельного распыления. Для разбавления силиконового каучука СКТНФ используют смесь растворителей: Сольвента (ТУ 2415-010-57859009-2015) и бензина Нефрас-С2-80/120, взятых, например, в соотношении объемных частей (мл) соответственно: от 1 до 2 частей Сольвента на 1 часть бензина Нефрас. Разбавление силиконового каучука СКТНФ выполняют в соотношении объемных частей (мл): на 1 часть СКТНФ берется 10 частей смеси растворителей Сольвент и Нефрас. Оптическое пропускание стеклянной пластины после нанесения полимерного покрытия возрастает (см. фиг. 4а, б) в связи с промежуточным значением (по отношению к стеклу и воздуху) коэффициента преломления полимерного слоя. Толщина силиконового покрытия составляет 10÷20 мкм. При холодном отверждении слоя силиконового каучука не возникают механические напряжения из-за разницы коэффициентов термического расширения стекла и полимера. Слой эластичного низкомолекулярного каучука выполняет функцию защиты поверхности стекла от механических повреждений. В процессе испытаний на механическую прочность методом центрально-симметричного изгиба при расстоянии между опорами 22 мм травленные стеклянные пластины складываются без разрушения (см. фиг. 5а, б), в тоже время образцы стеклянных пластин, не прошедших процесс травления, разрушаются. Величины разрушающей нагрузки для травленных стеклянных пластин значительно ~ в 2 раза выше, чем у стеклянных пластин не подвергавшихся травлению (см. табл. 1). Предложенный способ позволяет изготавливать стеклянные пластины толщиной 80÷90 мкм. В случае, если в смеси растворителей содержится менее 1 части Сольвента на 1 часть бензина, наблюдается формирование неоднородных сгустков в полимерном слое, образующих выступы (см. фиг. 6а) после отверждения полимерного слоя, что нежелательно для последующей наклейки стеклянной пластины на лицевую сторону фотопреобразователя. В случае, если в смеси растворителей содержится более 2 частей Сольвента на 1 часть бензина, ухудшается равномерность распределения полимера по поверхности стеклянной пластины, происходит стягивание покрытия в крупные капли (см. фиг. 6б). Используемая для растворения силиконового каучука СКТНФ смесь растворителей Сольвента и бензина Нефрас, взятых в соотношении объемных частей (мл) соответственно: от 1 до 2 частей Сольвента на 1 часть бензина Нефрас, позволяет получать наиболее однородное полимерное покрытие (см. фиг. 7). Далее выполняют наклейку стеклянной пластины полимеризованной стороной на лицевую поверхность фотопреобразователя с приваренными шинами (см. фиг. 8).
Figure 00000001
Химико-динамическое стравливание поверхностных микротрещин стекла с последующей защитой эластичным слоем силиконового каучука холодного отверждения СКТНФ позволяет повысить однородность травления и механическую прочность стеклянных пластин, снизить трещинообразование стеклянных пластин при выполнении операций дегазации и сборки в модули фотопреобразователей космического назначения, а также сократить объем ремонтных работ, связанных с наклейкой второго стекла на фотоэлемент.

Claims (1)

  1. Способ изготовления стеклянных пластин для фотопреобразователей космического назначения, включающий создание слоя поверхностного сжатия на стеклянной пластине, кислотное травление в растворе плавиковой кислоты на глубину, равную или большую глубины сжатого слоя стекла, защиту травленной поверхности стекла химической закалкой, отличающийся тем, что кислотное травление выполняют при вертикальном поступательно-возвратном перемещении стеклянных пластин в растворе, а после химической закалки выполняют одностороннее капельное нанесение на стеклянные пластины защитного слоя силиконового каучука, причем в качестве растворителя силиконового каучука используют смесь Сольвента и бензина Нефрас.
RU2022119208A 2022-07-13 Способ изготовления стеклянных пластин для фотопреобразователей космического назначения RU2790303C1 (ru)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2790303C1 true RU2790303C1 (ru) 2023-02-16

Family

ID=

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2144718C1 (ru) * 1999-06-24 2000-01-20 Государственный научный центр РФ Институт медико-биологических проблем Полупроводниковый фотопреобразователь солнечной энергии для космических аппаратов
US20150000739A1 (en) * 2012-01-05 2015-01-01 Mitsui Chemicals Tohcello, Inc. Encapsulating material for solar cell and solar cell module
RU2687875C1 (ru) * 2018-08-17 2019-05-16 Публичное акционерное общество "Сатурн" (ПАО "Сатурн") Способ изготовления стеклянных пластин с утолщенным краем для фотопреобразователей космического назначения
RU2758203C1 (ru) * 2021-03-05 2021-10-26 Акционерное общество "Сатурн" (АО "Сатурн") Способ изготовления модуля солнечных элементов

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2144718C1 (ru) * 1999-06-24 2000-01-20 Государственный научный центр РФ Институт медико-биологических проблем Полупроводниковый фотопреобразователь солнечной энергии для космических аппаратов
US20150000739A1 (en) * 2012-01-05 2015-01-01 Mitsui Chemicals Tohcello, Inc. Encapsulating material for solar cell and solar cell module
RU2687875C1 (ru) * 2018-08-17 2019-05-16 Публичное акционерное общество "Сатурн" (ПАО "Сатурн") Способ изготовления стеклянных пластин с утолщенным краем для фотопреобразователей космического назначения
RU2758203C1 (ru) * 2021-03-05 2021-10-26 Акционерное общество "Сатурн" (АО "Сатурн") Способ изготовления модуля солнечных элементов

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101206343B1 (ko) 유리의 절단 분리 방법
US8642175B2 (en) Glass substrate and method for manufactring the same
JP6159721B2 (ja) ガラス物品の強化のための表面傷の変形
JP5647248B2 (ja) 超音波を利用した担体からのガラス基板の剥離
US7608520B2 (en) Method for bonding substrate, bonded substrate, and direct bonded substrate
JP2012031018A (ja) 強化ガラス基板及び強化ガラス基板の溝加工方法と強化ガラス基板の切断方法
JP2017508704A (ja) フレキシブル薄型ガラスにおいてアール部を切断する方法および装置
KR20140142224A (ko) 유리 필름의 할단 방법 및 유리 필름 적층체
RU2790303C1 (ru) Способ изготовления стеклянных пластин для фотопреобразователей космического назначения
CN113840810A (zh) 改良具有处于压应力下的区域的纹理化玻璃基板以增加玻璃基板强度的方法
KR20170103855A (ko) 유리-운반체 조립체 및 가요성 유리 시트를 프로세스하기 위한 방법
JP4865351B2 (ja) 液晶ディスプレイ
JPH11224865A (ja) 酸化物単結晶基板のレーザによる切断方法
KR20150111821A (ko) 강화 유리의 절단 및 면취 방법
CN108231678B (zh) 一种平面波导型光分路器芯片切割工艺
JP2001127369A (ja) 半導体レーザー素子の製造方法および劈開装置
KR20020009070A (ko) 비금속 재료의 절단방법 및 절단장치
CN115821394B (zh) 一种SiC晶片的检测系统及其检测方法
JP3795897B2 (ja) ガラス表面の加工方法
CN115229475B (zh) 一种图像传感器玻璃壳窗拆卸方法
RU2687875C1 (ru) Способ изготовления стеклянных пластин с утолщенным краем для фотопреобразователей космического назначения
CN111524805B (zh) 一种键合玻璃载板的晶圆电浆切割工艺
CN114571540B (zh) 超声波裂片方法
US11823967B2 (en) Recycled glass and glass-ceramic carrier sustrates
JP2000031115A (ja) ウェハからチップを形成する方法