RU2692400C2 - Лазерный источник, в частности, для технологических процессов - Google Patents

Лазерный источник, в частности, для технологических процессов Download PDF

Info

Publication number
RU2692400C2
RU2692400C2 RU2017112011A RU2017112011A RU2692400C2 RU 2692400 C2 RU2692400 C2 RU 2692400C2 RU 2017112011 A RU2017112011 A RU 2017112011A RU 2017112011 A RU2017112011 A RU 2017112011A RU 2692400 C2 RU2692400 C2 RU 2692400C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
laser
optical
laser beam
unit
output
Prior art date
Application number
RU2017112011A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2017112011A (ru
RU2017112011A3 (ru
Inventor
Нунцио МАНЬЯНО
Маурицио ГАТТИЛЬО
Original Assignee
Комау С.п.А.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Комау С.п.А. filed Critical Комау С.п.А.
Publication of RU2017112011A publication Critical patent/RU2017112011A/ru
Publication of RU2017112011A3 publication Critical patent/RU2017112011A3/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2692400C2 publication Critical patent/RU2692400C2/ru

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06—Construction or shape of active medium
    • H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
    • H01S3/067—Fibre lasers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06—Construction or shape of active medium
    • H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
    • H01S3/067—Fibre lasers
    • H01S3/06754—Fibre amplifiers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/067—Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S3/0071—Beam steering, e.g. whereby a mirror outside the cavity is present to change the beam direction
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08059—Constructional details of the reflector, e.g. shape
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/086—One or more reflectors having variable properties or positions for initial adjustment of the resonator
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
    • H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2308—Amplifier arrangements, e.g. MOPA
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2383—Parallel arrangements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2383—Parallel arrangements
    • H01S3/2391—Parallel arrangements emitting at different wavelengths
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

Лазерный источник содержит блок генерации лазерного луча, содержащий диодные лазерные источники для генерации первого лазерного луча, блок оптического усиления для накачки первым лазерным лучом и излучения второго лазерного луча, и оптический блок переключения и адресации лазерного луча, расположенный между блоком генерации и блоком оптического усиления и содержащий первую оптическую линию для транспортировки первого лазерного луча к первому выходу, вторую оптическую линию для транспортировки первого лазерного луча к усилительному модулю блока оптического усиления, и селекторное устройство, расположенное между входом и первой и второй оптическими линиями для направления первого лазерного луча к первой оптической линии, чтобы генерировать лазерный луч, имеющий более высокую мощность и более низкое качество на первом выходе, или к второй оптической линии, чтобы генерировать лазерный луч, имеющий меньшую мощность и более высокое качество на втором выходе. Блок оптического усиления содержит множество усилительных модулей, расположенных параллельно. Технический результат - возможность избирательно генерировать лазерные лучи со значительно отличающимися характеристиками при простой и эффективной конструкции лазерного источника. 3 н. и 12 з.п. ф-лы, 6 ил.

Description

Область техники, к которой относится изобретение
Настоящее изобретение относится к лазерным источникам, в частности к лазерным источникам типа, предназначенного для технологических процессов, таких как операции сварки, пайки и резки металлических материалов.
Уровень техники
В прошлом было разработано множество типов лазерных источников, которые в настоящее время доступны на рынке для удовлетворения различных потребностей в области техники, связанной с технологическими процессами, в частности в области техники, связанной с процессами обработки металлических материалов. Как правило, для различных процессов (такие как сварка, пайка и резка металлических материалов), различных степеней точности процесса и различных характеристик обрабатываемых материалов (например, различные значения толщины металлического листа, подлежащего сварке или резке) требуются различные характеристики лазерного луча для обеспечения оптимальных результатов. Для некоторых из этих процессов уровень качества лазерного луча может быть ниже, тогда как для других применений качество луча должно быть выше.
В данном описании и в нижеследующей формуле изобретения под термином "качество" лазерного луча понимается способность лазерного луча фокусироваться в очень маленькое пятно так, чтобы обеспечить высокую плотность мощности в лазерном пятне. Качество лазерного луча, определяемое таким образом, обычно выражается значением параметра, называемого ВРР ("параметр качества луча"), который измеряется в миллиметрах на миллирадиан (мм. мрад) и соответствует произведению половины угла расходимости лазерного луча на диаметр луча в самом узком его участке (в перетяжке луча). Качество лазерного луча выше, если значение ВРР меньше. Таким образом, для различных промышленных применений может потребоваться использование лазерных лучей со значениями параметра ВРР, которые сильно отличаются друг от друга. Сходным образом мощность лазерного луча также может меняться в зависимости от конкретных применений.
Во многих лазерных источниках известного типа качество и мощность лазерного луча можно изменять в очень ограниченном объеме, при этом отсутствует возможность существенной модификации характеристик лазерного луча. По этой причине в настоящее время часто приходится использовать разные лазерные источники для выполнения разных технологических операций.
С другой стороны, было бы желательно иметь единственный "универсальный" лазерный источник, который может быть легко адаптирован в зависимости от характера выполняемой технологической операции и/или от характера материалов, подлежащих обработке.
Среди различных типов лазерных источников, которые уже были разработаны и доступны в настоящее время на рынке, следует упомянуть здесь, в частности, диодные лазерные источники и лазерные источники с активными оптическими волокнами. Последний тип включает в себя оптические волокна, в которых диспергирован "активный" материал (обычно редкоземельный материал), обладающий способностью усиливать световой луч путем использования принципа вынужденного излучения. Обычно активное оптическое волокно "накачивается" лазерным лучом, генерируемым диодным лазерным источником. Как правило, источники с активными оптическими волокнами генерируют луч с более высоким качеством по отношению к диодным лазерным источникам, вызывая при этом потерю мощности из-за рассеяния внутри оптического волокна.
В документе US 2014/0177038 на фиг. 3 показано лазерное устройство с двойной яркостью, имеющее волоконно-интегрированный переключатель оптического луча, который может переключать лазерный луч между двумя оптическими волокнами, одно из которых соединено с первым выходом, при этом другое оптическое волокно соединено с волоконным иттербиевым генератором, обеспечивающим излучение на выходе волокна, имеющее более высокую яркость.
Задача изобретения
Задачей настоящего изобретения является создание лазерного источника, выполненного с возможностью избирательно генерировать лазерные лучи с характеристиками, которые значительно отличаются друг от друга, так что его можно использовать для промышленных целей, которые также сильно отличаются друг от друга.
Другая задача настоящего изобретения заключается в том, чтобы достичь этого посредством лазерного источника, имеющего простую и эффективную конструкцию. Другая задача заключается в том, чтобы создать систему с множеством устройств, ячеек или станций для процессов с использованием лазера, в которых предпочтительным и эффективным образом используют один или более лазерных источников вышеуказанного типа.
Раскрытие сущности изобретения
Для решения указанных задач в настоящем изобретении предложен лазерный источник, содержащий:
- блок генерации лазерного луча, содержащий один или более диодных лазерных источников, для генерации первого лазерного луча;
- блок оптического усиления, содержащий по меньшей мере один усилительный модуль, выполненный с возможностью приема лазерного излучения, полученного из упомянутого первого лазерного луча, излучаемого упомянутым блоком генерации, и излучения на его выходе второго лазерного луча, имеющего более высокое качество луча и меньшее значение мощности по отношению к упомянутому первому лазерному лучу, выходящему из упомянутого блока генерации; и
- оптический блок переключения и адресации лазерного луча, расположенный между упомянутым блоком генерации и упомянутым блоком оптического усиления, при этом упомянутый оптический блок переключения и адресации содержит:
- вход для приема упомянутого первого лазерного луча, выходящего из упомянутого блока генерации;
- первую оптическую линию для транспортировки упомянутого первого лазерного луча к первому выходу упомянутого лазерного источника;
- вторую оптическую линию для транспортировки упомянутого первого лазерного луча по направлению к упомянутому по меньшей мере одному усилительному модулю упомянутого блока оптического усиления; и
- селекторное устройство оптического пути, расположенное между упомянутым входом и упомянутыми первой и второй оптическими линиями, для избирательного направления упомянутого первого лазерного луча, выходящего из упомянутого блока генерации, по направлению к:
- упомянутой первой оптической линии так, чтобы генерировать излучение лазерного луча относительно более высокой мощности и относительно более низкого качества на упомянутом первом выходе упомянутого лазерного источника;
или по направлению к:
- упомянутой второй оптической линии так, чтобы генерировать излучение лазерного луча, имеющего относительно меньшую мощность и относительно более высокое качество на втором выходе упомянутого лазерного источника.
Предпочтительно, упомянутый блок оптического усиления содержит множество усилительных модулей, расположенных параллельно и имеющих соответствующие входы, питаемые параллельно посредством упомянутой второй оптической линии, и соответствующие выходы, соединенные с оптическими линиями, сходящимися по направлению к упомянутому второму выходу.
Благодаря указанным выше признакам в изобретении обеспечено наличие единственного лазерного источника, имеющего первый выход и второй выход, отделенные друг от друга, которые выполнены с возможностью избирательной активации для излучения лазерных лучей, имеющих характеристики, которые значительно отличаются друг от друга, в зависимости от конкретного требуемого применения.
Таким образом, возможно, например, реализовать ячейку процесса на промышленной установке, имеющей единственный лазерный источник, для выполнения в этой ячейке процессов различного характера в одном и том же рабочем цикле и/или для обеспечения возможности будущего ввода нового рабочего цикла внутри той же ячейки без необходимости замены лазерного источника и/или для того, чтобы использовать один и тот же лазерный источник, например, для выполнения различных процессов в одной и той же рабочей ячейке, или для выполнения различных процессов в различных рабочих ячейках, или для работы в качестве основного источника в первой рабочей ячейке и в качестве резервного источника в другой рабочей ячейке.
Согласно предпочтительному варианту осуществления изобретения упомянутый выше блок генерации лазерного луча представляет собой блок, содержащий множество диодных лазерных источников, как указано выше, тогда как каждый усилительный модуль упомянутого блока оптического усиления содержит по меньшей мере одно активное оптическое волокно типа, содержащего активный материал (такой как иттербий), который может усиливать лазерный луч, входящий внутрь упомянутого модуля, который выходит из упомянутого блока генерации через упомянутую вторую оптическую линию упомянутого оптического блока переключения и адресации.
Также в случае упомянутого выше предпочтительного варианта осуществления изобретения упомянутое селекторное устройство оптического пути предпочтительно состоит из зеркала, выполненного с возможностью перемещения между первым рабочим положением и вторым рабочим положением, в которых лазерный луч, выходящий из упомянутого блока генерации, направляется, соответственно, по направлению к упомянутой первой оптической линии и к упомянутой второй оптической линии. В первом решении зеркало не перекрывает лазерный луч, выходящий из блока генерации, когда оно находится в своем первом рабочем положении, с обеспечением, таким образом, возможности прохождения лазерного луча дальше по направлению к первой оптической линии, тогда как в своем втором рабочем положении зеркало перекрывает лазерный луч и отражает его по направлению ко второй оптической линии. В одном варианте зеркало перекрывает лазерный луч в обоих своих рабочих положениях, но принимает разные ориентации в упомянутых положениях так, чтобы отражать лазерный луч соответственно по направлению к упомянутой первой оптической линии и по направлению к упомянутой второй оптической линии.
Перемещением зеркала выбора оптического пути управляют посредством устройства привода любого известного типа, предпочтительно имеющего электрический привод.
Краткое описание чертежей
Дополнительные признаки и преимущества настоящего изобретения очевидны из нижеследующего описания со ссылками на прилагаемые чертежи, приведенные исключительно в качестве не ограничивающего примера, на которых:
- на фиг. 1 показано схематическое изображение примера варианта осуществления лазерного источника согласно настоящему изобретению;
- на фиг. 2-4 показаны схематические изображения в увеличенном масштабе некоторых компонентов, показанных на схематическом изображении на фиг. 1; и
- на фиг. 5 и 6 показаны схематические изображения промышленных установок, в которых используются один или более лазерных источников согласно изобретению.
Осуществление изобретения
На чертежах номером позиции 1 в целом обозначен лазерный источник для применения в технологических процессах, в частности для металлических материалов. Описанный здесь лазерный источник может быть использован, например, в технологической ячейке, в которой выполняют операции различных типов, такие как операции лазерной сварки, операции лазерной пайки и/или операции лазерной резки.
Многие компоненты, составляющие часть описанного здесь варианта осуществления изобретения, показаны на прилагаемых чертежах лишь схематически, поскольку каждый из них, взятый отдельно, может быть выполнен любым известным образом. Исключение этих деталей конструкции из чертежей делает чертежи более простыми и более понятными.
Согласно изобретению, лазерный источник 1 содержит блок генерации лазерного луча, обозначенный в целом номером позиции 2. Блок 2 генерации содержит множество диодных лазерных источников 20, выполненных любым известным образом. Лазерное излучение, выходящее из диодных лазерных источников 20, направляется внутрь оптических волокон 21, объединенных в волоконный сумматор 22, также относящийся к хорошо известному типу, выход которого соединен с оптическим волокном 3.
В настоящем варианте осуществления изобретения блок 2 генерации выполнен с возможностью генерации внутри оптического волокна 3 первого лазерного луча, имеющего мощность порядка 6 кВт и качество луча, соответствующее значению ВРР в диапазоне 50 мм. мрад.
Конечно, конфигурация блока 2 генерации, схематически показанная на фиг. 1 и в увеличенном масштабе также на фиг. 3, представлена здесь исключительно в качестве примера, при этом специалисту в данной области техники очевидно, что этот блок генерации может быть выполнен в соответствии с любой из конфигураций диодных лазерных источников, известных в настоящее время.
Ниже по потоку от блока 2 генерации, лазерный источник 1 согласно настоящему изобретению содержит единственный оптический блок 4 переключения и адресации лазерного луча. Как показано также на фиг. 2, блок 4 содержит вход, состоящий из соединителя 40, с которым соединено оптическое волокно 3, выходящее из блока 2 генерации. Соединитель 40 соединяет оптическое волокно 3 с оптическим волокном 41, которое находится на входе блока 4. Оптический интерфейс 42 любого известного типа передает лазерный луч, выходящий из блока 2 генерации, через оптические волокна 3, 41 внутри свободного пространства S, предусмотренного внутри корпуса блока 4, в котором свободно проходит лазерный луч.
Внутри пространства S внутри блока 4 расположено селекторное устройство оптического пути, которое в показанном примере состоит из зеркала 43. В показанном примере зеркало 43 выполнено с возможностью перемещения параллельно самому себе между первым рабочим положением (показано пунктирной линией на фиг. 1 и 2) и вторым рабочим положением (показано сплошной линией).
В первом рабочем положении зеркала 43, это зеркало не перекрывает лазерный луч, выходящий из блока генерации, так что лазерный луч может свободно проходить дальше по направлению к первой оптической линии, в целом обозначенной номером позиции 44, которая заканчивается на первом выходе U1 (см. фиг. 1) лазерного источника согласно изобретению. В своем втором рабочем положении зеркало 43 перекрывает лазерный луч, выходящий из блока генерации, и отражает его по направлению ко второй оптической линии, в целом обозначенной номером позиции 45.
Как уже указывалось выше, в качестве альтернативы конфигурации, схематически показанной здесь для зеркала 43, возможно предусмотреть конфигурацию, в которой обеспечивают всего лишь колебания зеркала между первым рабочим положением и вторым рабочим положением, так что в обоих этих положениях зеркало перекрывает лазерный луч, выходящий из блока генерации, и отражает луч в направлении двух разных оптических линий.
Как показано на фиг. 2, номером позиции 46 обозначен привод любого известного типа, предпочтительно электрически управляемый привод, выполненный с возможностью перемещения зеркала 43 между его двумя рабочими положениями. Когда зеркало 43 находится в своем первом рабочем положении (показано пунктирной линией), в котором оно не перекрывает лазерный луч, выходящий из блока генерации вдоль направления S0, этот луч проходит дальше внутри свободного пространства S вдоль направления S1 (образующего продолжение направления S0), пока он не войдет внутрь оптического интерфейса 47, через который лазерный луч направляется в оптическое волокно 48. Оптическое волокно 48 оканчивается на соединителе 49, через который оно соединено с другим оптическим волокном 481, оканчивающимся на соединителе 482 (см. фиг. 1), который образует первый выход U1 лазерного источника 1 согласно настоящему изобретению.
Как показано на фиг. 2, когда зеркало 43 находится в своем втором рабочем положении (показано сплошной линией), лазерный луч, выходящий из блока генерации вдоль направления S0, попадает в зеркало 43 и затем отражается вдоль направления S2 по направлению ко второй оптической линии 45.
В случае конкретного варианта осуществления изобретения, показанного здесь в качестве примера, вторая оптическая линия 45 содержит неподвижное зеркало 451, которое отражает лазерный луч, переходящий вдоль направления S2 в направление S3. Лазерный луч, проходящий дальше вдоль направления S3, последовательно достигает множества неподвижных полуотражающих зеркал 452 и последнего неподвижного зеркала 453, которое является полностью отражающим. Полуотражающие зеркала 452 выполнены таким образом, что попадающий в них лазерный луч частично отражается в направлении S4 и частично проходит за зеркало вдоль направления S3. Последнее зеркало 453 отражает часть излучения, которая прошла за все полуотражающие зеркала 452. Части луча, отраженные вдоль направлений S4, направляются через соответствующие оптические интерфейсы 454 в множество оптических волокон 5 на выходе блока 4.
Как показано на фиг. 1, оптические волокна 5 направляют лазерное излучение на входы множества усилительных модулей 60 блока 6 оптического усиления. Каждый из усилительных модулей 60 имеет конфигурацию типа, схематически показанного на фиг. 4, которая хорошо известна, и содержит "активные" оптические волокна 61, в которых диспергированы частицы активных материалов (иттербий в конкретном показанном здесь случае), которые обладают способностью усиливать лазерный источник путем использования принципа вынужденного излучения.
Кроме того, согласно хорошо известной технике, активные оптические волокна 61 проходят между двумя брэгговскими решетками 62, 63, расположенными на входе и на выходе каждого модуля 60 и, соответственно, соединенными с оптическим волокном 5 входа и оптическим волокном 64 выхода. Оптические волокна 64 объединяются в сумматор 65 оптических волокон, выход которого соединен через оптическое волокно 66, соединитель 67 и другое оптическое волокно 68 (см. фиг. 1) с соединителем 69, образующим второй выход U2 лазерного источника 1 согласно изобретению.
Активные оптические волокна 61 усилительных модулей 60 оптически накачиваются лазерным излучением, выходящим из блока 4 и получаемым из диодных лазерных источников 20, и создают лазерный луч на втором выходе U2, имеющий характеристики, отличающиеся по отношению к лазерному лучу, имеющемуся на первом выходе U1. В частности, проход через активные волокна 61 подразумевает потерю мощности (например, приблизительно порядка 30%), но увеличивает качество луча, то есть способность луча фокусироваться в очень маленькое пятно. В настоящем примерном варианте осуществления изобретения лазерный луч, имеющийся на выходе U2, имеет мощность 4 кВт и значение ВРР порядка 3 мм. мрад.
Как уже было указано, в описании выше и на прилагаемых чертежах детали конструкции, относящиеся к иллюстрированным компонентам, не были представлены, так как они могут быть выполнены любым известным способом, и их исключение из чертежей делает последние более простыми и понятными.
Согласно технологии, которая также сама по себе известна, всеми функциями лазерного источника управляют посредством электронного блока управления (не показан на фиг. 1-4), с которым связан интерфейс "человек-машина" любого известного типа.
На фиг. 5 схематично показан пример промышленной установки, использующей лазерный источник согласно изобретению. Этот иллюстративный пример относится к случаю установки для производства автотранспортных средств, содержащей множество ячеек или станций R1, R2, R3, R4 лазерной обработки. Например, установка содержит станцию R1, на которой выполняется операция лазерной пайки (типичный случай - операция соединения крыши с кузовом автотранспортного средства), станцию R2, на которой выполняется операция лазерной сварки на компоненте (таком как конструкция двери автотранспортного средства), станцию R3, на которой выполняется операция лазерной резки, такая как операция выполнения отверстия в стенке кузова автотранспортного средства, и станцию R4, на которой выполняется операция дистанционной лазерной сварки, то есть операция сварки, при которой лазерная головка удерживается на расстоянии от области сварки.
На каждой станции обработки предусмотрено наличие оборудования для обработки, использующее лазерный луч. Например, оборудование может содержать один или более многоосевых манипуляционных роботов, каждый из которых имеет лазерную головку, соединенную при помощи оптического волокна с лазерным источником. Также, например, с каждой ячейкой или станцией связан электронный блок Е1, Е2, Е3, Е4 управления.
Контролирующий электронный блок Е сообщается с электронными блоками Е1, Е2, Е3, Е4.
Процессы пайки, сварки, резки и дистанционной сварки подразумевают использование лазерного луча с повышением качества (более низкое качество требуется для пайки и сварки, тогда как более высокое качество требуется для резки и дистанционной сварки).
В проиллюстрированной на фиг. 5 установке показан лазерный источник согласно изобретению, описанный выше, с двумя выходами U1, U2, соединенными посредством оптических распределителей D1, D2 любого известного типа с оптическими волокнами f1, f2, f3, f4, которые передают соответствующий лазерный луч на оборудование, предусмотренное на соответствующей станции или ячейке обработки.
Электронный блок ES для управления селекторным устройством 43 лазерного источника 1 активирует либо выход U1, либо выход U2 источника 1 на основе сигналов, поступающих от контроллера Е так, чтобы обеспечивать выполнение операций в ячейках R1, R2 или в ячейках R3, R4.
Еще более предпочтительно могут использоваться два источника 1 согласно изобретению, один из которых, например, предназначен для одной или более ячеек R1, R2, а другой - для одной или более ячеек R3, R4. Это решение схематически показано на фиг. 6, где каждый из двух источников 1 согласно изобретению имеет один из двух выходов U1, U2, соединенный с ячейкой R1, и другой выход, соединенный с ячейкой R4. Оптическое волокно на входе каждой ячейки соединено с двумя оптическими волокнами, выходящими из двух разных источников посредством тройниковых соединителей С1, С2.
Контроллер Е управляет электронным блоком ES источников, так что обычно лазерный источник на левой стороне имеет свой выход U1, активированный для питания ячейки R1, тогда как другой источник 1 имеет свой выход U2, активированный для питания ячейки R4 лазерным лучом более высокого качества.
Однако в случае отказа одного источника другой источник может быть временно использован для питания ячейки, источник которой имеет сбой, после переключения соответствующего селектора. Это может быть полезно, например, когда сбой в источнике ячейки R4 оправдывает прерывание процесса в ячейке R1, чтобы использовать источник R1 в качестве резервного источника для R4.
Показанные схематические изображения приведены исключительно в качестве примера, при этом очевидно, что конфигурация и расположение ячеек и связанных с ними лазерных источников могут быть изменены при необходимости в соответствии со спецификой конкретных применений.
Источник согласно изобретению может быть также связан с единственной ячейкой обработки для передачи лазерных лучей с различными характеристиками в различные лазерные устройства, расположенные в той же самой ячейке, для выполнения различных операций с использованием лазера внутри той же самой ячейки.
Очевидно, что хотя принцип изобретения остается тем же самым, детали конструкции и варианты осуществления изобретения могут широко варьироваться в отношении того, что описано и проиллюстрировано выше исключительно в качестве примера, без выхода за пределы объема правовой охраны настоящего изобретения.

Claims (24)

1. Лазерный источник (1) для применения, в частности, в технологических процессах, содержащий:
- блок (2) генерации лазерного луча, содержащий один или более диодных лазерных источников (20), для генерации первого лазерного луча;
- блок (6) оптического усиления, выполненный с возможностью накачки лазерным излучением, полученным из упомянутого первого лазерного луча, излучаемого упомянутым блоком (2) генерации, и излучения на его выходе второго лазерного луча, имеющего более высокое качество луча и меньшее значение мощности по отношению к упомянутому первому лазерному лучу на выходе из упомянутого блока (2) генерации; и
- оптический блок (4) переключения и адресации лазерного луча, расположенный между упомянутым блоком (2) генерации и упомянутым блоком (6) оптического усиления, при этом упомянутый оптический блок (4) переключения и адресации лазерного луча содержит:
- вход (40) для приема упомянутого первого лазерного луча, выходящего из упомянутого блока (2) генерации;
- первую оптическую линию (44) для транспортировки упомянутого первого лазерного луча по направлению к первому выходу (U1) упомянутого лазерного источника (1);
- вторую оптическую линию (45) для транспортировки упомянутого первого лазерного луча по направлению к упомянутому по меньшей мере одному усилительному модулю (60) упомянутого блока (6) оптического усиления; и
- селекторное устройство (43) оптического пути, расположенное между упомянутым входом (40) и упомянутыми первой и второй оптическими линиями (44, 45), для избирательного направления упомянутого первого лазерного луча, выходящего из упомянутого блока (2) генерации, по направлению к:
- упомянутой первой оптической линии (44) так, чтобы генерировать излучение лазерного луча, имеющего относительно более высокую мощность и относительно более низкое качество на упомянутом первом выходе (U1) упомянутого лазерного источника (1); или по направлению к:
- упомянутой второй оптической линии (45) так, чтобы генерировать излучение лазерного луча, имеющего относительно меньшую мощность и относительно более высокое качество на втором выходе (U2) упомянутого лазерного источника (1); причем упомянутый блок (6) оптического усиления содержит множество усилительных модулей (60), расположенных параллельно и имеющих соответствующие входы (5), питаемые параллельно упомянутой второй оптической линией (45), и соответствующие выходы, соединенные с оптическими линиями (64), все из которых сходятся по направлению к упомянутому второму выходу (U2).
2. Лазерный источник по п.1, отличающийся тем, что каждый усилительный модуль (60) содержит по меньшей мере одно оптическое волокно (61), содержащее активный материал, выполненный с возможностью усиления лазерного луча, входящего внутрь упомянутого модуля (60) и выходящего из упомянутого блока (2) генерации через упомянутую вторую оптическую линию (45) упомянутого оптического блока (4) переключения и адресации.
3. Лазерный источник по п.1, отличающийся тем, что упомянутое селекторное устройство оптического пути состоит из зеркала (43), выполненного с возможностью перемещения между первым рабочим положением и вторым рабочим положением, которые соответствуют направлению лазерного луча, выходящего из упомянутого блока (2) генерации, соответственно, по направлению к упомянутой первой оптической линии (44) и по направлению к упомянутой второй оптической линии (45).
4. Лазерный источник по п.3, отличающийся тем, что в упомянутом первом рабочем положении упомянутое зеркало (43) не перекрывает упомянутый первый лазерный луч, выходящий из упомянутого блока (2) генерации, и тем, что в упомянутом втором рабочем положении упомянутое зеркало (43) перекрывает упомянутый первый лазерный луч, выходящий из упомянутого блока генерации.
5. Лазерный источник по п.4, отличающийся тем, что в упомянутом первом рабочем положении упомянутое зеркало (43) обеспечивает возможность прохождения лазерного луча, выходящего из упомянутого блока (2) генерации, дальше в направлении упомянутой первой оптической линии (44), при этом в упомянутом втором рабочем положении упомянутое зеркало (42) отражает лазерный луч, выходящий из упомянутого блока (2) генерации, в направлении второй оптической линии (45).
6. Лазерный источник по п.3, отличающийся тем, что в упомянутом первом рабочем положении и в упомянутом втором рабочем положении упомянутое зеркало (43) ориентировано по-разному, так чтобы отражать упомянутый первый лазерный луч, выходящий из упомянутого блока (2) генерации, соответственно по направлению к упомянутой первой оптической линии (44) и по направлению к упомянутой второй оптической линии (45).
7. Лазерный источник по п.1, отличающийся тем, что выход упомянутого блока (2) генерации и вход упомянутого оптического блока (4) переключения и адресации соединены друг с другом посредством оптического волокна (3).
8. Лазерный источник по п.1, отличающийся тем, что упомянутый оптический блок (4) переключения и адресации содержит свободное пространство (S) для прохождения лазерного луча, в котором расположено упомянутое селекторное устройство оптического пути.
9. Лазерный источник по п.8, отличающийся тем, что упомянутый оптический блок переключения и адресации содержит оптическое волокно (41) входа, соединенное с входом упомянутого блока, и первый оптический интерфейс (42) для приема упомянутого первого лазерного луча из упомянутого оптического волокна (41) входа и для передачи упомянутого первого лазерного луча внутри упомянутого свободного пространства (S), в котором расположено упомянутое селекторное устройство (43) оптического пути.
10. Лазерный источник по п.9, отличающийся тем, что упомянутый оптический блок (4) переключения и адресации содержит второй оптический интерфейс (47), расположенный вдоль упомянутой первой оптической линии (44), для приема упомянутого первого лазерного луча, проходящего внутри упомянутого свободного пространства (S), и для его направления внутрь оптического волокна (44) выхода, которое соединено с упомянутым первым выходом (U1) лазерного источника (1).
11. Лазерный источник по п.10, отличающийся тем, что упомянутый оптический блок (4) переключения и адресации содержит множество третьих оптических интерфейсов (454), расположенных вдоль упомянутой второй оптической линии (45), для приема упомянутого первого лазерного луча, проходящего внутри упомянутого свободного пространства (S), и для его направления в множество оптических волокон (5) выхода, соединенных с упомянутыми усилительными модулями (60) упомянутого блока (6) оптического усиления.
12. Лазерный источник по п.11, отличающийся тем, что внутри упомянутого свободного пространства (S) упомянутого оптического блока (4) переключения и адресации расположена матрица полуотражающих зеркал (452) для разделения первого лазерного луча, направленного вдоль упомянутой второй оптической линии (45), на множество лазерных лучей, направленных по направлению к упомянутым усилительным модулям (60).
13. Лазерный источник по п.12, отличающийся тем, что выходы упомянутых усилительных модулей (60) соединены с соответствующими оптическими волокнами (64), объединенными в оптическое сумматорное устройство (65), соединенное с упомянутым вторым выходом (U2) лазерного источника (1).
14. Промышленная установка, содержащая множество устройств лазерной обработки или ячеек лазерной обработки или станций лазерной обработки (R1, R2, R3, R4), и содержащая первое устройство, ячейку или станцию лазерной обработки (R1, R2), где требуется применение лазерного луча, имеющего относительно более высокую мощность и относительно более низкое качество, и по меньшей мере второе устройство, ячейку или станцию лазерной обработки (R3, R4), где требуется применение лазерного луча, имеющего относительно меньшую мощность и относительно более высокое качество, отличающаяся тем, что она содержит по меньшей мере один лазерный источник (1) по любому из пп.1-13, причем упомянутый по меньшей мере один лазерный источник (1) имеет выходы (U1, U2), соответственно соединенные с упомянутыми первым и вторым устройствами, ячейками или станциями лазерной обработки (R1, R2, R3, R4), при этом упомянутая установка имеет электронный блок (ES) управления для управления селекторным устройством (43) упомянутого по меньшей мере одного лазерного источника (1), который запрограммирован для активации упомянутого первого выхода (U1) или упомянутого второго выхода (U2) лазерного источника (1) на основании сигналов, поступающих от электронного блока (E), управляющего упомянутыми устройствами, ячейками или станциями лазерной обработки (R1, R2, R3, R4).
15. Промышленная установка, содержащая множество устройств лазерной обработки или ячеек лазерной обработки или станций лазерной обработки (R1, R2, R3, R4), и содержащая первое устройство, ячейку или станцию лазерной обработки (R1), где требуется применение лазерного луча, имеющего относительно более высокую мощность и относительно более низкое качество, и второе устройство, ячейку или станцию лазерной обработки (R4), где требуется применение лазерного луча, имеющего относительно меньшую мощность и относительно более высокое качество, отличающаяся тем, что она содержит первый и второй лазерный источник (1) по любому из пп.1-13, причем каждый лазерный источник (1) имеет первый выход (U1), соединенный с упомянутым первым устройством, ячейкой или станцией лазерной обработки (R1, R4), и второй выход (U2), соединенный с упомянутым вторым устройством, ячейкой или станцией лазерной обработки (R1, R4), при этом упомянутая установка имеет электронный блок (ES) управления для управления селекторными устройствами (43) упомянутых двух лазерных источников (1), который запрограммирован так, что обычно указанный первый лазерный источник (1) имеет свой первый выход (U1), активированный для питания указанного первого устройства, ячейки или станции лазерной обработки (R1), тогда как указанный второй лазерный источник (1) имеет свой второй выход (U2) активированный для питания указанного второго устройства, ячейки или станции лазерной обработки (R4), так что в случае отказа одного источника (1), обеспечена возможность временного использования другого источника для питания устройства, ячейки или станции лазерной обработки, у которых произошел отказ источника.
RU2017112011A 2014-09-26 2015-09-22 Лазерный источник, в частности, для технологических процессов RU2692400C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
ITTO2014A000766 2014-09-26
ITTO20140766 2014-09-26
PCT/IB2015/057282 WO2016046735A1 (en) 2014-09-26 2015-09-22 Laser source, particularly for industrial processes

Publications (3)

Publication Number Publication Date
RU2017112011A RU2017112011A (ru) 2018-10-29
RU2017112011A3 RU2017112011A3 (ru) 2019-03-01
RU2692400C2 true RU2692400C2 (ru) 2019-06-24

Family

ID=51982676

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2017112011A RU2692400C2 (ru) 2014-09-26 2015-09-22 Лазерный источник, в частности, для технологических процессов

Country Status (13)

Country Link
US (1) US9929528B2 (ru)
EP (1) EP3001517B1 (ru)
KR (1) KR102258995B1 (ru)
CN (1) CN106716746B (ru)
BR (1) BR112017004836B1 (ru)
CA (1) CA2961008C (ru)
ES (1) ES2625337T3 (ru)
MX (1) MX2017003738A (ru)
PL (1) PL3001517T3 (ru)
RS (1) RS55934B1 (ru)
RU (1) RU2692400C2 (ru)
SI (1) SI3001517T1 (ru)
WO (1) WO2016046735A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2791258C1 (ru) * 2022-08-03 2023-03-06 Общество с ограниченной ответственностью "НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКОЕ ОБЪЕДИНЕНИЕ "ИРЭ-Полюс" (ООО НТО "ИРЭ-Полюс") Способ облучения поверхности детали многолучевой лазерной системой, обрабатывающая система и очиститель на его основе

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ITUA20161635A1 (it) * 2016-03-14 2017-09-14 Comau Spa "Sorgente laser, particolarmente per lavorazioni industriali"
CN106711750A (zh) * 2017-02-07 2017-05-24 中科先为激光科技（北京）有限公司 脉冲同步合成准连续光纤激光器
KR102704440B1 (ko) * 2018-06-27 2024-09-09 삼성디스플레이 주식회사 빔 성형 광학 시스템 및 빔 성형 방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050078353A1 (en) * 2003-10-08 2005-04-14 Hiroshi Komine Brightness enhancement of diode light sources
EP1848073A1 (en) * 2006-04-19 2007-10-24 Multitel ASBL Switchable laser device and method for operating said device
US20080253419A1 (en) * 2005-07-11 2008-10-16 Ellex Medical Pty, Ltd. Diode Pumped Laser
US20140177038A1 (en) * 2011-05-04 2014-06-26 Trumpf Laser Gmbh + Co. Kg Laser machining system having a machining laser beam that is adjustable in terms of its brilliance

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010083566A2 (en) 2009-01-22 2010-07-29 Med-Aesthetic Solutions International Pty. Ltd. System and method for dermatological treatment
CN203690697U (zh) * 2014-02-28 2014-07-02 福州高意光学有限公司 一种高功率光纤激光器

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050078353A1 (en) * 2003-10-08 2005-04-14 Hiroshi Komine Brightness enhancement of diode light sources
US20080253419A1 (en) * 2005-07-11 2008-10-16 Ellex Medical Pty, Ltd. Diode Pumped Laser
EP1848073A1 (en) * 2006-04-19 2007-10-24 Multitel ASBL Switchable laser device and method for operating said device
US20140177038A1 (en) * 2011-05-04 2014-06-26 Trumpf Laser Gmbh + Co. Kg Laser machining system having a machining laser beam that is adjustable in terms of its brilliance

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2791258C1 (ru) * 2022-08-03 2023-03-06 Общество с ограниченной ответственностью "НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКОЕ ОБЪЕДИНЕНИЕ "ИРЭ-Полюс" (ООО НТО "ИРЭ-Полюс") Способ облучения поверхности детали многолучевой лазерной системой, обрабатывающая система и очиститель на его основе

Also Published As

Publication number Publication date
CN106716746B (zh) 2020-01-17
BR112017004836A2 (pt) 2017-12-12
EP3001517B1 (en) 2017-02-22
KR102258995B1 (ko) 2021-06-03
RS55934B1 (sr) 2017-09-29
EP3001517A1 (en) 2016-03-30
SI3001517T1 (sl) 2017-05-31
CN106716746A (zh) 2017-05-24
CA2961008A1 (en) 2016-03-31
US9929528B2 (en) 2018-03-27
PL3001517T3 (pl) 2017-12-29
US20170288363A1 (en) 2017-10-05
CA2961008C (en) 2022-03-08
WO2016046735A1 (en) 2016-03-31
RU2017112011A (ru) 2018-10-29
KR20170061672A (ko) 2017-06-05
ES2625337T3 (es) 2017-07-19
MX2017003738A (es) 2017-06-26
BR112017004836B1 (pt) 2022-04-05
RU2017112011A3 (ru) 2019-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11271359B2 (en) Laser source, particularly for industrial processes
US20170361405A1 (en) Irradiation system for an additive manufacturing device
RU2692400C2 (ru) Лазерный источник, в частности, для технологических процессов
JP2021191591A (ja) マルチビームレーザシステムおよび溶接のための方法
US20200055144A1 (en) Device and method for additive manufacturing of components with a plurality of spatially separated beam guides
CN209963479U (zh) 一种复合激光器
US20210229213A1 (en) Device for laser machining workpieces that are difficult to access
JP2018034184A (ja) レーザ発振器およびレーザ加工装置
JP2009178720A (ja) レーザ加工装置
WO2013019204A1 (en) Method and apparatus for processing materials with composite structure
JP2016078051A (ja) ダイレクトダイオードレーザ加工装置及びこれを用いた板金の加工方法
JP7203315B2 (ja) レーザ発振器及びそれを用いたレーザ加工装置
JP6981818B2 (ja) レーザ光合成装置
JP2013193085A (ja) 溶接システム
US20200055143A1 (en) Method and device for machining a material layer using energetic radiation
JP6503175B2 (ja) 半導体レーザ発振器及びレーザ加工機
US20210305763A1 (en) Composite fiber laser assembly
JP2018153815A (ja) レーザ加工システム
US20220241894A1 (en) Laser processing machine and laser processing method
WO2020194625A1 (ja) レーザ装置およびレーザ加工機
US20200227881A1 (en) Laser beam irradiation apparatus and laser beam irradiation system
JP2020068351A (ja) レーザ加工装置
Rütering et al. Fiber Lasers–Unlimited Opportunities? An overview of strengths and weaknesses of fiber laser technology for industrial applications