RU2685288C1 - Устройство для лазерной обработки изделий - Google Patents
Устройство для лазерной обработки изделий Download PDFInfo
- Publication number
- RU2685288C1 RU2685288C1 RU2018100194A RU2018100194A RU2685288C1 RU 2685288 C1 RU2685288 C1 RU 2685288C1 RU 2018100194 A RU2018100194 A RU 2018100194A RU 2018100194 A RU2018100194 A RU 2018100194A RU 2685288 C1 RU2685288 C1 RU 2685288C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- laser
- waveguide
- vacuum chamber
- ball bearing
- chamber
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
- B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
- B25J21/00—Chambers provided with manipulation devices
Abstract
Изобретение относится к лазерной технике, а именно к лазерным технологическим установкам, предназначенным для обработки изделий в условиях глубокого вакуума. Устройство содержит источник лазерного излучения, вакуумную камеру, герметичный ввод излучения в нее, координатный стол и систему программного управления. Герметичный ввод выполнен в виде шаровой опоры, состоящей из внутреннего, наружного и среднего сферических элементов. По оси среднего элемента шаровой опоры расположен волновод, жестко связанный с источником излучения. К волноводу герметично прикреплен гибкий герметизирующий элемент, другим краем закрепленный с внутренним сферическим элементом, который неподвижно закреплен в стенке камеры. Техническим результатом изобретения является увеличение маневренности взаимодействия сфокусированного луча с поверхностью обрабатываемого объекта и герметичности ввода излучения лазера в вакуумную камеру, а также повышение качества обрабатываемого изделия. 1 ил.
Description
Предлагаемое изобретение относится к лазерной технике, а именно, к лазерным технологическим установкам, предназначенным, например, для молекулярно-лучевой эпитаксии.
Известно устройство для лазерной обработки изделий (см. «Большая советская энциклопедия» т. 14 с. 112), содержащее источник лазерного излучения, сфокусированный луч лазера, обрабатываемую деталь, координатный стол, систему программного управления.
Известно также устройство для лазерной обработки изделий - однокамерная установка для молекулярно-лучевой эпитаксии (см. «Обзоры по электронной технике», серия 7 «Технология, организация производства и оборудование», выпуск 17 (828) А.Г. Денисов, Н.А. Кузнецов, Э.А. Макаренко «Оборудование для молекулярно-лучевой эпитаксии» ЦНИИ «Электроника», Москва, 1981 г., с. 51), содержащее вакуумную рабочую камеру со средствами получения сверхвысокого вакуума, систему для формирования молекулярных пучков, устройство для нагрева подложки, устройство для подготовки подложки - получения атомарно чистой и атомарно гладкой поверхности, систему для анализа элементного состава и структуры поверхности подложки и полученной эпитаксиальной пленки, устройство для загрузки подложки, юстировку ее положения и выноса полученной структуры из вакуума (прототип).
Общим недостатком перечисленных устройств является низкое качество продукции из-за недостаточной маневренности взаимодействия сфокусированного луча лазера с поверхностью обрабатываемого объекта. Кроме того, недостаточная герметичность ввода излучения лазера в вакуумную камеру снижает производительность устройства.
Целью предполагаемого изобретения является повышение производительности и качества продукции.
Поставленная цель достигается тем, что в устройстве для лазерной обработки изделий, содержащем источник лазерного излучения, вакуумную камеру, герметичный ввод излучения в нее, координатный стол и систему программного управления, герметичный ввод выполнен в виде шаровой опоры, имеющей внутренний, наружный и средний сферические элементы, по оси которой расположен волновод лазерного излучения, жестко связанный с источником излучения, жестко закрепленный в среднем сферическом элементе, и через гибкий герметизирующий элемент связанный с внутренним сферическим элементом, который неподвижно закреплен в стенке камеры.
Герметичный ввод в виде шаровой опоры, состоящей из трех сферических элементов, известен из а.с. №1083464 М.кл.4 В25J 21/00.
Известно также устройство для лазерной обработки изделий - установка для молекулярно-лучевой эпитаксии (см. выше), имеющее герметичный ввод в вакуумную камеру через волновод, неподвижно закрепленный на вакуумной камере.
Однако, совокупность известных признаков приводит к достижению нового качества - возможности согласованного взаимодействия луча лазера с объектом и соблюдения высокого вакуума при этом. Поэтому считаем, что предложенное решение отвечает критерию «существенные отличия».
На фиг. 1 схематически изображен общий вид устройства для лазерной обработки изделий в разрезе.
Устройство для лазерной обработки изделий содержит источник лазерного излучения 1, вакуумную камеру 2 (на чертеже показана только ее стенка), герметичный ввод излучения в камеру, состоящий из внутреннего 3, наружного 4 и среднего 5 сферических элементов, по оси которых расположен волновод 6, жестко связанный с источником лазерного излучения 1 и, закрепленный в среднем сферическом элементе 5, гибкий герметизирующий элемент 7, герметично закрепленный на волноводе 6 и на внутреннем сферическом элементе 3, отделяет герметичную полость вакуумной камеры от нерабочего пространства, лазерный луч 11 для обработки изделий. В камере 2 расположен координатный стол 8, на котором закрепляется обрабатываемый объект 9. Координатный стол и источник лазерного излучения связаны с системой программного управления 10, которая управляет их взаимным перемещением.
Устройство работает следующим образом.
Лазерный луч 11 от источника излучения 1 направляется по волноводу 6 в камеру 2 на обрабатываемый объект 9, расположенный на координатном столе 8. Путем воздействия системы программного управления 10 на источник лазерного излучения 1 через привод (на чертеже не обозначен) и координатный стол 8 происходит их взаимное перемещение по заданной программе. Источник лазерного излучения 1, жестко закрепленный на среднем сферическом элементе 5 совершает движение вместе с ним и с волноводом 6, выдерживая запрограммированные параметры луча лазера 11.
Предлагаемое устройство по сравнению с прототипом обеспечивает повышение производительности и качества обработки за счет повышения маневренности сфокусированного луча лазера и предметного стола с расположенным на нем обрабатываемым объектом благодаря наличию шаровой герметичной опоры. Кроме того, повышается надежность сохранения высокого вакуума в камере.
Claims (1)
- Устройство для лазерной обработки изделий в вакууме, содержащее источник лазерного излучения, вакуумную камеру, герметичный ввод излучения в нее, координатный стол и систему программного управления, отличающееся тем, что герметичный ввод выполнен в виде шаровой опоры, состоящей из внутреннего, наружного и среднего сферических элементов, по оси которой расположен жестко связанный с источником лазерного излучения волновод, закрепленный в среднем сферическом элементе и через гибкий герметизирующий элемент связанный с внутренним сферическим элементом, который неподвижно закреплен в стенке камеры.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2018100194A RU2685288C1 (ru) | 2018-01-09 | 2018-01-09 | Устройство для лазерной обработки изделий |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2018100194A RU2685288C1 (ru) | 2018-01-09 | 2018-01-09 | Устройство для лазерной обработки изделий |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2685288C1 true RU2685288C1 (ru) | 2019-04-17 |
Family
ID=66168427
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2018100194A RU2685288C1 (ru) | 2018-01-09 | 2018-01-09 | Устройство для лазерной обработки изделий |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2685288C1 (ru) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU1696297A1 (ru) * | 1990-01-23 | 1991-12-07 | Научно-производственное объединение "Сибцветметавтоматика" | Копирующий манипул тор |
SU1200487A1 (en) * | 1984-06-12 | 1992-12-30 | Yu V Lakiza | Device for laser treating |
SU1640887A1 (ru) * | 1989-07-19 | 1994-02-15 | Н.А. Архипенко | Установка для лазерной обработки |
RU2064389C1 (ru) * | 1992-05-05 | 1996-07-27 | Производственное объединение "Туламашзавод" | Станок для обработки лазерным лучом |
RU2185943C1 (ru) * | 2000-12-08 | 2002-07-27 | Алексеев Георгий Михайлович | Устройство для светолучевой обработки материалов |
EP2859983A2 (en) * | 2013-08-02 | 2015-04-15 | Rofin-Sinar Technologies, Inc. | A system for laser processing a transparent material |
-
2018
- 2018-01-09 RU RU2018100194A patent/RU2685288C1/ru active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU1200487A1 (en) * | 1984-06-12 | 1992-12-30 | Yu V Lakiza | Device for laser treating |
SU1640887A1 (ru) * | 1989-07-19 | 1994-02-15 | Н.А. Архипенко | Установка для лазерной обработки |
SU1696297A1 (ru) * | 1990-01-23 | 1991-12-07 | Научно-производственное объединение "Сибцветметавтоматика" | Копирующий манипул тор |
RU2064389C1 (ru) * | 1992-05-05 | 1996-07-27 | Производственное объединение "Туламашзавод" | Станок для обработки лазерным лучом |
RU2185943C1 (ru) * | 2000-12-08 | 2002-07-27 | Алексеев Георгий Михайлович | Устройство для светолучевой обработки материалов |
EP2859983A2 (en) * | 2013-08-02 | 2015-04-15 | Rofin-Sinar Technologies, Inc. | A system for laser processing a transparent material |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SG10201808035YA (en) | Moveable edge coupling ring for edge process control during semiconductor wafer processing | |
WO2011137373A4 (en) | Vertical inline cvd system | |
NZ751294A (en) | Plant cultivation apparatus | |
SG10201804322UA (en) | Variable frequency microwave (vfm) processes and applications in semiconductor thin film fabrications | |
JP2017143186A5 (ru) | ||
US9666413B2 (en) | Ion implantation apparatus and control method for ion implantation apparatus | |
RU2685288C1 (ru) | Устройство для лазерной обработки изделий | |
MX2016007623A (es) | Miembro guia de aire en una freidora a base de aire. | |
CN101939029A (zh) | 用于以富含能量的电子束处理成形件的装置和方法 | |
WO2016128560A3 (en) | Vacuum processing system and methods therefor | |
SG10201901906YA (en) | Atmospheric epitaxial deposition chamber | |
US11705300B2 (en) | Method and device for implanting ions in wafers | |
KR101680850B1 (ko) | 배기유로의 크기가 조절되는 플라즈마 처리 장치 | |
ZA202002550B (en) | Acoustic mixers | |
US10260655B2 (en) | Angle valve having fixed heater block | |
TW201614099A (en) | Apparatus for MOCVD | |
MY187147A (en) | A system for continuously preparing coated particles in a large scale | |
MX2016012308A (es) | Horno de fotocurado. | |
MX2017010216A (es) | Conjunto de elevacion para el procesamiento de huevos y metodo asociado. | |
MX2022006638A (es) | Producción de 212pb altamente purificados. | |
US20180130681A1 (en) | Processing system | |
RU2691806C1 (ru) | Устройство для лазерной обработки изделий | |
SG11202104119PA (en) | Liner assembly, reaction chamber and semiconductor processing apparatus | |
WO2019246167A8 (en) | Apparatus for materials processing | |
EP2987891A3 (en) | Chemical vapor deposition system, arrangement of chemical vapor deposition systems, and chemical vapor deposition method |