RU2623681C1 - Способ получения периодических профилей на поверхности кристаллов парателлурита - Google Patents
Способ получения периодических профилей на поверхности кристаллов парателлурита Download PDFInfo
- Publication number
- RU2623681C1 RU2623681C1 RU2016137687A RU2016137687A RU2623681C1 RU 2623681 C1 RU2623681 C1 RU 2623681C1 RU 2016137687 A RU2016137687 A RU 2016137687A RU 2016137687 A RU2016137687 A RU 2016137687A RU 2623681 C1 RU2623681 C1 RU 2623681C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- crystals
- paratellurite
- plate
- mixture
- etching
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области дифракционной оптики и может быть использовано для разработки новых дифракционных оптических элементов для диапазона 0,35-5,5 мкм. В основу изобретения поставлена задача получения периодических профилей на поверхности кристаллов парателлурита методом анизотропного химического травления. Пластина, вырезанная из кристалла парателлурита и отшлифованная, покрывается смесью химически стойкого к щелочам нитроцеллюлозного лака с растворителем 646, часть смеси удаляется с помощью алмазной иглы через различные интервалы, затем проводится химическое травление, промывка, в результате получаем периодическую структуру заданной геометрии на поверхности образца. Применение данного способа позволяет получать периодические профили на кристаллах парателлурита, обладающих высокими оптическими характеристиками. 3 ил.
Description
Изобретение относится к области оптики, а именно к дифракционной оптике, и может быть использовано для изготовления дифракционных оптических элементов для диапазона 0,35-5,5 мкм.
Способ заключается в получении периодической структуры заданной геометрии на поверхности кристаллов парателлурита методом анизотропного химического травления.
Известны способ анизотропного травления кристаллов кремния для получения рельефа на поверхности кристаллов (RU №2106717, опубл. 10.03.1998), а также способ глубокого анизотропного травления кремниевой пластины и устройство для глубокого анизотропного травления кремниевой пластины (RU №2127926, опубл. 0.03.1999). В первом случае формируют на рабочей стороне подложки маску, нерабочую сторону подложки облучают ионами гелия с энергией не менее 100 кэВ, затем обрабатывают подложку в анизотропно травящем щелочном растворе изопропилового спирта при температуре 70±3°C. Второй способ включает обработку 80% водным раствором КОН, нагретым до 90°C в течение 7 часов, кремниевой пластины для формирования мембраны газового датчика. В данных способах используют в подготовительных работах фоторезистивнную маску (RU №2106717, опубл. 10.03.1998) или маскирующую двухслойную композицию SiO2-Si3N4 (RU №2127926, опубл. 20.03.1999), проводят анизотропное травление при высоких температурах в течение нескольких часов. Недостатками способов являются длительность процесса и высокие температуры травления, что делает эти способы малопригодными для получения периодических структур на поверхности диэлектрических кристаллов, в частности парателлурита.
Также известен способ получения рельефа на диэлектрических и пьезоэлектрических подложках (RU №2054747, опубл. 20.02.1996). Данный способ требует последовательного термического или магнетронного осаждения слоев иттрия и меди, использование метода фотолитографии и затем химического травления подложки в плавиковой кислоте, после чего в азотной кислоте удаляют защитную металлическую маску. Недостатками способа являются длительность процесса, использование токсичных кислот, наличие дорогостоящего материала иттрия. Данный способ непригоден для получения периодических структур на кристаллах парателлурита, поскольку согласно известным данным плавиковая кислота приводит к появлению хаотически расположенных ямок дислокационного травления, препятствующих созданию правильной периодической структуры на кристаллах парателлурита.
Известен способ получения дифракционной структуры (GB 02162240, опубл. 20.01.2001). Согласно этому способу дифракционная решетка изготавливается путем термоформирования шаблона, полученного методом гальванопластики, включает обработку граней структуры металлом. Недостатком данного способа является многостадийность процесса механической подготовки материала.
Наиболее близким к заявляемому является способ анизотропного травления кристаллов исландского шпата (кальцита) (Wang С.М., Chang Y.C., Sungh C.D., Tien H.T., Lee С.С., Chang J.Y. Anisotropic wet etching on birefringent calcite crystal // Applied Physics A. 2005. T. 81. №.4. C. 851-854). В работе описано травление в уксусной и соляной кислотах полированной пластины, вырезанной из кристалла кальцита. Необходимую топологию получают методом фотолитографии. Недостатками указанного способа являются использование токсичной соляной кислоты, дополнительные подготовительные работы (полировка материала, экспонирование фоторезистивной пленки). Данный способ непригоден для получения периодических структур на кристаллах парателлурита, поскольку согласно известным данным (см. Колесников А.И. Влияние условий роста на распределение дефектов в чистых и легированных монокристаллах парателлурита. Диссертация на соиск. уч. степ. к.ф. - м.н. Тверь: ТвГУ 1996) соляная кислота, как и любые галогеносодержащие или кислородосодержащие кислоты, применявшиеся при травлении, приводит к появлению хаотически расположенных ямок дислокационного травления, препятствующих созданию правильной периодической структуры на кристаллах парателлурита.
Проведенный анализ уровня техники согласно известной научно-технической и патентной литературе свидетельствует об отсутствии технических решений, связанных с созданием на кристаллах парателлурита микрорельефа в виде периодических структур, предназначенных для использования в дифракционной оптике.
Задачей, на решение которой направлено заявляемое изобретение, является получение заданных периодических структур различной геометрии на кристаллах парателлурита, предназначенных для использования в дифракционной оптике в спектральном диапазоне 0,35-5,5 мкм.
Данная задача решается благодаря тому, что способ получения периодических профилей на поверхности кристаллов парателлурита включает обрезку, шлифовку пластины до заданных размеров, формирование на поверхности рабочей стороны пластины маски из смеси нитроцеллюлозного лака с растворителем 646 в соотношении 1:2, снятие маски алмазной иглой через заданные интервалы и обработку в анизотропно травящем 9-мольном растворе гидроокиси калия в течение 6-7 мин.
Из кристалла парателлурита вырезается и шлифуется пластина до заданных размеров. Поверхность пластины покрывается смесью химически стойкого к щелочам нитроцеллюлозного лака с растворителем 646 в соотношении 1:2. Часть слоя снимается с помощью алмазной иглы через заданные интервалы для доступа травителя к поверхности пластины. Травление производится раствором КОН в течение 6-7 мин, необходимых для получения периодической структуры определенного профиля. После извлечения из раствора образец промывается дистиллированной водой и обрабатывается ацетоном для удаления продуктов химических реакций. В результате чего на пластине образуется периодический микрорельеф в виде правильно расположенных выступов и впадин заданных формы и размеров. При этом поверхности выступов и впадин являются достаточно гладкими и обеспечивают геометрически правильное отражение, преломление и пропускание света кристаллом парателлурита, используемым в качестве элемента дифракционной оптики для спектрального диапазона 0,35-5,5 мкм.
Сущность изобретения поясняется чертежами, на которых изображено:
На фиг. 1 представлено изображение периодической структуры на поверхности пластины из парателлурита (растровый электронный микроскоп JEOL JSM-6610 LV).
На фиг. 2 представлен 3D профиль полученной структуры (оптический профилометр NanoMap 1000WLI).
На фиг 3. представлен 2D профиль полученной структуры (оптический профилометр NanoMap 1000WLI).
Пример реализации заявляемого способа. Из кристалла парателлурита, выращенного методом Чохральского в направлении [110], была вырезана и отшлифована пластина с линейными размерами 16×10×4 мм. Поверхность пластины была покрыта маской - смесью нитроцеллюлозного лака с растворителем 646 (ацетон 7%; толуол 50%; этанол 15%; бутилацетат или амилацетат 10%; бутанол 10%; этилцеллюлоза 8%) в соотношении 1:2. Толщина слоя маски составила 100 мкм. Слой снимался с помощью алмазной иглы через заданные интервалы 150, 250, 500 мкм для доступа травителя к поверхности пластины. Травление производилось 9-мольным раствором КОН в течение 6 минут. После извлечения из раствора образец промывался дистиллированной водой и обрабатывался ацетоном для удаления продуктов химических реакций. В результате на поверхности пластины образовался микрорельеф в виде решетки с различными периодами (Фиг. 1). Полученные периодические структуры были исследованы на оптическом профилометре NanoMap 1000WLI и проанализированы с помощью специализированного программного обеспечения SPIP. Получены 3D профили (Фиг. 2) и 2D профили (Фиг. 3) периодической структуры, образованной в результате травления. Поставленная задача создания периодической структуры на поверхности кристалла парателлурита методом анизотропного травления решена с помощью указанного способа. Данная структура может быть использована при создании многослойных рельефно-фазовых элементов дифракционной оптики, как материал с большой дисперсией в видимом диапазоне и с малой дисперсией в ИК-диапазоне. Такие элементы могут применяться, например, для увеличения коэффициентов пропускания света светозвукопроводами из парателлурита, входящих в состав акустооптических устройств всех известных типов: модуляторов, лазерных затворов, дефлекторов, электронно-перестраиваемых фильтров и спектроанализаторов излучений и изображений, процессоров для анализа слабых радиосигналов, АОДЛ (акустооптических дисперсионных линий задержки), предназначенных для сжатия и корреляции сверхмощных импульсов фемтосекундных лазеров.
Claims (1)
- Способ получения периодических профилей на поверхности кристаллов парателлурита, включающий обрезку, шлифовку пластины до заданных размеров, формирование на поверхности рабочей стороны пластины маски из смеси нитроцеллюлозного лака с растворителем 646 в соотношении 1:2, снятие маски алмазной иглой через заданные интервалы и обработку в анизотропно травящем 9-мольном растворе гидроокиси калия.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2016137687A RU2623681C1 (ru) | 2016-09-22 | 2016-09-22 | Способ получения периодических профилей на поверхности кристаллов парателлурита |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2016137687A RU2623681C1 (ru) | 2016-09-22 | 2016-09-22 | Способ получения периодических профилей на поверхности кристаллов парателлурита |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2623681C1 true RU2623681C1 (ru) | 2017-06-28 |
Family
ID=59312386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2016137687A RU2623681C1 (ru) | 2016-09-22 | 2016-09-22 | Способ получения периодических профилей на поверхности кристаллов парателлурита |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
RU (1) | RU2623681C1 (ru) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2054747C1 (ru) * | 1992-08-06 | 1996-02-20 | Омский научно-исследовательский институт приборостроения | Способ получения рельефа в диэлектрической подложке |
RU2106717C1 (ru) * | 1996-08-07 | 1998-03-10 | Научно-исследовательский институт измерительных систем | Способ анизотропного травления кристаллов кремния |
RU2127926C1 (ru) * | 1994-12-29 | 1999-03-20 | Акционерное общество закрытого типа "Техномаш МТ" | Способ глубокого анизотропного травления кремниевой пластины и устройство для глубокого анизотропного травления кремниевой пластины |
RU2231812C2 (ru) * | 2002-05-21 | 2004-06-27 | Институт систем обработки изображений РАН | Способ изготовления дифракционных оптических элементов |
US20120038988A1 (en) * | 2005-02-10 | 2012-02-16 | Ovd Kinegram Ag | Multi-layer body and process for the production of a multi-layer body |
-
2016
- 2016-09-22 RU RU2016137687A patent/RU2623681C1/ru active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2054747C1 (ru) * | 1992-08-06 | 1996-02-20 | Омский научно-исследовательский институт приборостроения | Способ получения рельефа в диэлектрической подложке |
RU2127926C1 (ru) * | 1994-12-29 | 1999-03-20 | Акционерное общество закрытого типа "Техномаш МТ" | Способ глубокого анизотропного травления кремниевой пластины и устройство для глубокого анизотропного травления кремниевой пластины |
RU2106717C1 (ru) * | 1996-08-07 | 1998-03-10 | Научно-исследовательский институт измерительных систем | Способ анизотропного травления кристаллов кремния |
RU2231812C2 (ru) * | 2002-05-21 | 2004-06-27 | Институт систем обработки изображений РАН | Способ изготовления дифракционных оптических элементов |
US20120038988A1 (en) * | 2005-02-10 | 2012-02-16 | Ovd Kinegram Ag | Multi-layer body and process for the production of a multi-layer body |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8427639B2 (en) | Surfaced enhanced Raman spectroscopy substrates | |
DE69827604T2 (de) | Reflektierender überzug für wiederholtes beugungsgitter | |
KR20240033167A (ko) | 가시 스펙트럼 내의 파장들에 대한 유전체 메타표면들을 제조하기 위한 원자 층 퇴적 공정 | |
JP4873015B2 (ja) | ブレーズ型回折格子の製造方法 | |
US4524127A (en) | Method of fabricating a silicon lens array | |
CN102939551A (zh) | 偏振光板及偏振光板的制造方法 | |
CN105589131B (zh) | 一种用于光波导的硅片沟槽刻蚀方法 | |
KR20130062896A (ko) | 편광 분리 소자 | |
RU2623681C1 (ru) | Способ получения периодических профилей на поверхности кристаллов парателлурита | |
US8711484B2 (en) | Fabrication of thin pellicle beam splitters | |
US4321282A (en) | Surface gratings and a method of increasing their spatial frequency | |
EP0851464B1 (fr) | Traitement anti-reflet de surfaces réflectives | |
DE10319534A1 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Mems-Fabry-Perot-Resonators | |
RU2645439C1 (ru) | Способ изготовления зеркал для твёрдотельных ВКР-лазеров с длиной волны излучения 1,54 мкм | |
JPH1172606A (ja) | SiCのパターンエッチング方法 | |
DE102020112776B4 (de) | Fotolithografische EUV-Maske sowie Verfahren zum Herstellen einer fotolithografischen EUV-Maske | |
JP6268137B2 (ja) | 凹型レンズの製造方法 | |
TWI815674B (zh) | 濾光片及其製造方法 | |
RU2745736C1 (ru) | Способ модификации поверхности кристаллов карбида кремния | |
RU2809769C1 (ru) | Способ изготовления дифракционной кремниевой решетки типа эшелле | |
RU2393512C1 (ru) | Способ изготовления дифракционной решетки | |
US20210318611A1 (en) | Method for producing optical element and optical element | |
JPH0456284B2 (ru) | ||
RU2637730C1 (ru) | Способ изготовления зеркала для твёрдотельного ВКР-лазера с длиной волны излучения 1,54 мкм | |
JP5890150B2 (ja) | 凹型レンズの製造方法 |