RU2550090C2 - Тонкопленочный вариконд - Google Patents

Тонкопленочный вариконд Download PDF

Info

Publication number
RU2550090C2
RU2550090C2 RU2013110199/07A RU2013110199A RU2550090C2 RU 2550090 C2 RU2550090 C2 RU 2550090C2 RU 2013110199/07 A RU2013110199/07 A RU 2013110199/07A RU 2013110199 A RU2013110199 A RU 2013110199A RU 2550090 C2 RU2550090 C2 RU 2550090C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
film
thin
varicond
layer
silicon
Prior art date
Application number
RU2013110199/07A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2013110199A (ru
Inventor
Александр Давидович Аврутин
Виктор Давидович Дразнин
Галина Прохоровна Лаврик
Валерий Михайлович Марахонов
Валентина Федоровна Филиппова
Original Assignee
Открытое Акционерное общество "Научно-исследовательский институт "Гириконд"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Открытое Акционерное общество "Научно-исследовательский институт "Гириконд" filed Critical Открытое Акционерное общество "Научно-исследовательский институт "Гириконд"
Priority to RU2013110199/07A priority Critical patent/RU2550090C2/ru
Publication of RU2013110199A publication Critical patent/RU2013110199A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2550090C2 publication Critical patent/RU2550090C2/ru

Links

Images

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

Настоящее изобретение относится к пленочным варикондам и может быть использовано в радиоэлектронной промышленности в качестве управляемого напряжением емкостного элемента в устройствах автоматики, связи и т.д. Техническим результатом является устранение возможности короткого замыкания между верхним и нижним электродами даже в случае, когда между электродами расположена очень тонкая сегнетоэлектрическая пленка. Тонкопленочный вариконд содержит слой сегнетоэлектрического материала, заключенный между нижним и верхним электродами, нижний электрод выполнен из высоколегированного монокристаллического кремния, при этом на нижней стороне кремниевого электрода выполнен омический контакт. 6 ил.

Description

Заявляемое изобретение относится к варикондам на основе тонких пленок сегнетоэлектрического (СЭ) материала и может быть использовано в радиоэлектронной промышленности для создания управляемого напряжением емкостного элемента в устройствах автоматики, связи и т.д.
Пленочный вариконд вертикальной конструкции (в отличие от планарной) обычно представляет собой диэлектрическую подложку, на поверхности которой нанесена пленочная структура металл-диэлектрик-металл (фиг.1). В качестве диэлектрика используется слой СЭ материала, диэлектрическая проницаемость которого зависит от величины приложенного к нему электрического поля, что и обеспечивает возможность управления емкостью вариконда. Металлические слои служат для формирования электродов и контактных площадок вариконда.
Чаще всего в качестве СЭ диэлектрика используется известный запатентованный материал БСТО на основе бария-стронция титаната (патенты США №№: 5312790, 5486491, 5427988 - фирма United States of America Represented). Например: вариконды фирмы «Paratec Microwave», Inc. (www.paratec.com), вариконд KH1-7, разработанный в ОАО «НИИ «Гириконд».
Обычно слой СЭ материала БСТО наносится методом вакуумного радиочастотного распыления материала мишени в кислородсодержащей атмосфере при высокой (до 900°C) температуре подложки, на которую производится осаждение распыляемого материала. Известны также способы нанесения материалов типа БСТО из металлоорганических растворов, при этом для обеспечения должной кристаллической (например, перовскитной) структуры и свойств осаждаемых слоев производится операция отжига при температуре порядка 700°C. Так как до нанесения слоя рабочего диэлектрика на подложке уже должен быть сформирован нижний электрод вариконда, то материал нижнего электрода должен быть стоек к воздействию высокой температуры при осаждении слоя БСТО или отжига, а также не должен вступать в химическое взаимодействие с осаждаемым слоем. Известно, что этому требованию удовлетворяют некоторые тугоплавкие благородные металлы, например платина или палладий, которые широко применяются в качестве материала электродов тонкопленочных варикондов. Они отличаются стойкостью к окислению при высоких температурах и низкой реактивностью в отношении СЭ пленок. Основной недостаток при использовании благородных металлов в качестве материала для нижнего электрода - трудность обеспечения адгезии к подложке, особенно в случае отсутствия адгезионного подслоя. Кроме того, на поверхности тонких пленок из благородных металлов в процессе их нанесения могут образовываться дендритные выступы, из-за чего вследствие малой толщины слоя СЭ пленки возможны короткие замыкания между нижним и верхним электродами.
Известны тонкопленочные вариконды вертикальной конструкции, в которых в качестве нижнего электрода используются драгметаллы:
- заявка Японии №162369/1987 (Japanese Patent Laid-Open Gazette);
- патент США №6454914, заявл. 20.02.1997, опубл. 24.09.2002, кл. H01G/500;
- патент США №6377440, заявл. 12.09.2000, опубл. 23.04.2002, кл. H01G 4/06;
- патент США №6693791, заявл. 08.08.2002, опубл. 17.02.2004, кл. H01G 4/35.
Так в японской заявке №162369/1987 предложена конструкция вариконда, в которой нижний электрод из Pt сформирован на тонком слое MgO, образованном на кремниевой подложке. Слой СЭ материала нанесен на поверхность нижнего электрода, а верхний электрод сформирован на поверхности СЭ материала и выполнен также из Pt. В данном техническом решении тонкий слой MgO обеспечивает электрическую изоляцию нижнего электрода, выполненного из Pt, от подложки.
Известны технические решения на конструкцию пленочных варикондов, направленные на замену драгметаллов, используемых для нижнего электрода вариконда, на неблагородные металлы:
- заявка Японии №276615/1991 (Japanese Patent Laid-Open Gazette);
- патент США №5449933, заявл.30.03.1993, опубл. 12.09.1995, кл. H01L 29/04.
Так в патенте США №5449933 заявлена конструкция пленочного вариконда, в которой нижний электрод сформирован на тонкой пленке MgO, расположенной на кремниевой подложке, и представляет собой тонкую пленку из сплава никель-хром-алюминий (Ni-Cr-Al) или никель-алюминий (Ni-Al).
Наиболее близким к заявляемому изобретению техническим решением, взятым в качестве прототипа, является тонкопленочный вариконд, заявленный в патенте США №6693791 (заявл. 08.08.2002; опубл. 17.02.2004; кл. H01G 4/35).
Конструкция вариконда-прототипа приведена на фиг.2 (вариант исполнения - фиг.5 патента США №6693791).
На кремниевой подложке (1) посредством ее термического окисления сформирован слой окиси кремния (2) толщиной 600 нм и на нем методом распыления с использованием палладия в качестве мишени сформирован нижний электрод (3) из окиси палладия толщиной 200 нм. На нижнем электроде методом золь-гелевого осаждения сформирована тонкая сегнетоэлектрическая пленка (4) из титаната бария-стронция перовскитной структуры. Толщина СЭ пленки - 250 нм. На сегнетоэлектрической пленке сформирован верхний электрод (5), который также выполнен из окиси палладия толщиной 200 нм.
Основной недостаток данного технического решения - возможность возникновения короткого замыкания в случае, когда между верхним и нижним электродами, выполненными из платины, проложена тонкая сегнетоэлектрическая пленка и, как следствие этого, большой процент ранних отказов варикондов при изготовлении и эксплуатации.
Техническим результатом заявляемого изобретения является предотвращение возможности короткого замыкания между верхним и нижним электродами вариконда, даже в случае, когда между ними проложена очень тонкая сегнетоэлектрическая пленка, и уменьшение количества ранних отказов варикондов. При этом будут обеспечены приемлемые значения параметров варикондов.
Указанный технический результат достигается за счет применения высоколегированного монокристаллического кремния в качестве материала нижнего электрода, при этом пластина из высоколегированного монокристаллического кремния используется в качестве подложки пленочного вариконда. Кремний является достаточно тугоплавким материалом, способным выдерживать высокие температуры, имеющие место в процессе магнетронного распыления и осаждения слоя материала БСТО. Степень взаимодействия кремния с материалом БСТО в процессе осаждения слоя в кислородной атмосфере крайне незначительна, а проводимость кремния, особенно при высокой степени легирования, может быть достаточной для использования пластины кремния в качестве нижнего электрода вариконда.
Заявляемый отличительный признак является новым для пленочных варикондов, а заявляемое техническое решение соответствует критерию «новизна».
На фиг.3 показана структура заявляемого вариконда.
Конструкция заявляемого вариконда содержит:
6 - полупроводниковую подложку из высоколегированного монокристаллического кремния с удельным сопротивлением менее 0,005 Ом-см марок КДБ-0,005 или КДФ-0,005 толщиной 0,38 мм;
7 - слой СЭ материала БСТО толщиной около 1 мкм, нанесенный вакуумным радиочастотным распылением;
верхний электрод, содержащий:
8 - слой алюминия толщиной 0,8 мкм, нанесенный магнетронным распылением;
9 - адгезионный подслой ванадия толщиной 0,08 мкм;
10 - слой меди толщиной 0,6 мкм, нанесенный магнетронным распылением;
11 - гальванически выращенные слои меди толщиной 35-40 мкм;
12 - сплава олово-висмут толщиной 10-15 мкм. Рисунок верхнего электрода выполняется фотолитографическими методами.
Данная конструкция является основным вариантом исполнения заявляемого тонкопленочного вариконда. Она не предполагает возможность поверхностного монтажа, т.к. электрические контакты вариконда (сплав олово-висмут и высоколегированная кремниевая подложка) находятся на противоположных сторонах подложки.
Для уменьшения электрического сопротивления нижнего электрода, выполненного из высоколегированного монокристаллического кремния, вышеописанная структура дополнительно содержит (фиг.4) слой металла (13), обеспечивающий омический контакт к кремнию. Таким металлом может быть, например, алюминий, нанесенный в ваккуме на нижнюю поверхность подложки из монокристаллического кремния и затем вожженный в кремний при температуре около 450°C. Это техническое решение является вторым вариантом исполнения заявляемой конструкции вариконда.
Наиболее перспективный метод монтажа радиоэлементов в аппаратуру - это поверхностный монтаж, при котором все контактные выводы радиоэлемента монтируются на монтажную поверхность одновременно.
Для обеспечения возможности поверхностного монтажа варикондов предлагается последовательное соединение на одной подложке двух варикондов:
- первого варианта исполнения (фиг.3), показанное на фиг.5;
- второго варианта исполнения (фиг.4), показанное на фиг.6.
Соединение осуществляется за счет проводимости материала подложки (высоколегированного монокристаллического кремния) и слоя вожженного алюминия (при его наличии - второй вариант исполнения).
Главное отличие заявляемого технического решения вариконда от прототипа - это то, что материалом нижнего электрода является высоколегированный монокристаллический кремний в виде кремниевой пластины, одновременно являющейся подложкой вариконда.
Заявляемый отличительный признак обеспечивает «изобретательский уровень».
Заявляемая конструкция вариконда реализуется путем последовательного проведения следующих основных операций:
- нанесение слоя СЭ материала на подложку (вакуумное);
- нанесение слоя алюминия на нижнюю поверхность подложки из высоколегированного монокристаллического кремния (вакуумное) с последующим вжиганием его в кремний (для варикондов второго варианта исполнения: фиг.4 и фиг.6);
- нанесение многослойной тонкопленочной металлической структуры верхнего электрода, состоящей из слоев алюминия, меди и ванадия (вакуумное);
- локальное травление слоев ванадия, меди и алюминия, входящих в состав верхнего электрода (фотолитография);
- нанесение защитного покрытия и формирование рисунка в защитном слое (фотолитография);
- формирование контактных узлов, представляющих собой структуру
из гальванически выращенных слоев меди и сплава олово-висмут.
В качестве доказательства промышленной применимости заявляемого решения в табл.1 представлены результаты измерения параметров варикондов заявленной конструкции первого варианта исполнения (фиг.3), относящиеся к варикондам с толщиной диэлектрика 3 мкм из пленки БСТО с площадью обкладок 0,27 мм2.
Таблица 1
Параметры варикондов заявленной конструкции
Емкость, пф Управляющее напряжение, В Коэффициент управления
203,6 0 -
123,7 100 1,65
102,0 150 2,00
99,1 200 2,31
78,6 250 2,59
71,3 300 2,85
Как видно из приведенных данных, заявленное решение характеризуется высокими эксплуатационными свойствами
Имеющаяся в ОАО «НИИ «Гириконд» научная и технологическая база в области керамических конденсаторов и материалов обеспечивает высокий технический уровень заявляемых варикондов.
Тонкопленочный вариконд
Фиг.1 - Обычный вид пленочного вариконда вертикальной конструкции.
Фиг.2 - Тонкопленочный вариконд согласно патенту США №6693791 -
ближайший прототип (разрез структуры).
Фиг.3 - Тонкопленочный вариконд заявляемой конструкции (разрез структуры).
Фиг.4 - Тонкопленочный вариконд заявляемой конструкции с уменьшенным сопротивлением нижнего электрода (разрез структуры).
Фиг.5 - Тонкопленочный вариконд заявляемой конструкции для поверхностного монтажа (разрез структуры).
Фиг.6 - Тонкопленочный вариконд заявляемой конструкции для поверхностного монтажа с уменьшенным сопротивлением нижнего электрода (разрез структуры).

Claims (1)

  1. Тонкопленочный вариконд, содержащий слой сегнетоэлектрического материала, заключенный между нижним и верхним электродами, отличающийся тем, что нижний электрод вариконда выполнен из высоколегированного монокристаллического кремния, при этом на нижней стороне кремниевого электрода выполнен омический контакт.
RU2013110199/07A 2013-03-06 2013-03-06 Тонкопленочный вариконд RU2550090C2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013110199/07A RU2550090C2 (ru) 2013-03-06 2013-03-06 Тонкопленочный вариконд

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013110199/07A RU2550090C2 (ru) 2013-03-06 2013-03-06 Тонкопленочный вариконд

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2013110199A RU2013110199A (ru) 2014-09-20
RU2550090C2 true RU2550090C2 (ru) 2015-05-10

Family

ID=51583303

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2013110199/07A RU2550090C2 (ru) 2013-03-06 2013-03-06 Тонкопленочный вариконд

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2550090C2 (ru)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1116919A1 (ru) * 1981-11-25 1994-04-15 Н.А. Брюхно Способ изготовления кремниевых транзисторных структур с диэлектрической изоляцией
US6377440B1 (en) * 2000-09-12 2002-04-23 Paratek Microwave, Inc. Dielectric varactors with offset two-layer electrodes
US6454914B1 (en) * 1995-07-07 2002-09-24 Rohm Co., Ltd. Ferroelectric capacitor and a method for manufacturing thereof
RU2335824C1 (ru) * 2007-02-20 2008-10-10 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН Запираемый тиристор и способ его работы
RU2360324C1 (ru) * 2007-12-20 2009-06-27 Закрытое акционерное общество "ЭПИЭЛ" Кремниевый солнечный элемент с эпитаксиальным эмиттером
RU92242U1 (ru) * 2009-09-04 2010-03-10 Общество с ограниченной ответственностью "Интелсоб" (ООО "Интелсоб") Мощный высоковольтный биполярный транзистор с изолированным затвором с антипараллельным быстродействующим температуростойким диодом
RU120509U1 (ru) * 2011-12-14 2012-09-20 Открытое Акционерное Общество "НИИ "Гириконд" Пленочный планарный вариконд

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1116919A1 (ru) * 1981-11-25 1994-04-15 Н.А. Брюхно Способ изготовления кремниевых транзисторных структур с диэлектрической изоляцией
US6454914B1 (en) * 1995-07-07 2002-09-24 Rohm Co., Ltd. Ferroelectric capacitor and a method for manufacturing thereof
US6693791B2 (en) * 1995-07-07 2004-02-17 Rohm Co., Ltd. Ferroelectric capacitor and a method for manufacturing thereof
US6377440B1 (en) * 2000-09-12 2002-04-23 Paratek Microwave, Inc. Dielectric varactors with offset two-layer electrodes
RU2335824C1 (ru) * 2007-02-20 2008-10-10 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН Запираемый тиристор и способ его работы
RU2360324C1 (ru) * 2007-12-20 2009-06-27 Закрытое акционерное общество "ЭПИЭЛ" Кремниевый солнечный элемент с эпитаксиальным эмиттером
RU92242U1 (ru) * 2009-09-04 2010-03-10 Общество с ограниченной ответственностью "Интелсоб" (ООО "Интелсоб") Мощный высоковольтный биполярный транзистор с изолированным затвором с антипараллельным быстродействующим температуростойким диодом
RU120509U1 (ru) * 2011-12-14 2012-09-20 Открытое Акционерное Общество "НИИ "Гириконд" Пленочный планарный вариконд

Also Published As

Publication number Publication date
RU2013110199A (ru) 2014-09-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9424993B2 (en) Systems and methods for a thin film capacitor having a composite high-K thin film stack
JP6015159B2 (ja) 薄膜コンデンサ
US6999297B1 (en) Breakdown-resistant thin film capacitor with interdigitated structure
KR100935263B1 (ko) 베이스 금속 전극 위의 금속 산화 세라믹 박막 장치 및 그 장치를 포함하는 커패시터의 형성 방법
EP1793416B1 (en) Capacitor and method for manufacturing the same
US7382013B2 (en) Dielectric thin film, dielectric thin film device, and method of production thereof
KR20180058042A (ko) 박막 커패시터
RU2550090C2 (ru) Тонкопленочный вариконд
JP2007329189A (ja) 薄膜コンデンサ及びその製造方法
RU133348U1 (ru) Тонкопленочный вариконд
JPH0687493B2 (ja) 薄膜コンデンサ
JP4604939B2 (ja) 誘電体薄膜、薄膜誘電体素子およびその製造方法
US10249704B2 (en) Capacitor
JP2008166470A (ja) 電子部品及びその製造方法
JPH0687490B2 (ja) 薄膜コンデンサおよびその製造方法
JP2007150186A (ja) 薄膜電子部品用電極、薄膜電子部品及びその製造方法
Cheng et al. A study on frequency-dependent voltage nonlinearity of SrTiO3 rf capacitor
JP2007281046A (ja) 薄膜コンデンサ
RU120509U1 (ru) Пленочный планарный вариконд
JP2000223379A (ja) 電子的複数素子ユニット
US20230093711A1 (en) Ceramic electronic component
US20230207191A1 (en) Mutilayer electronic component
US20230274884A1 (en) Multilayer ceramic electronic component
JP2004146615A (ja) キャパシタ回路
JPH0265111A (ja) 薄膜キャパシタおよびその製造方法