RU2528397C2 - Фотоэлектрический модуль со стабилизированным полимером - Google Patents
Фотоэлектрический модуль со стабилизированным полимером Download PDFInfo
- Publication number
- RU2528397C2 RU2528397C2 RU2012144439/04A RU2012144439A RU2528397C2 RU 2528397 C2 RU2528397 C2 RU 2528397C2 RU 2012144439/04 A RU2012144439/04 A RU 2012144439/04A RU 2012144439 A RU2012144439 A RU 2012144439A RU 2528397 C2 RU2528397 C2 RU 2528397C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- poly
- vinyl butyral
- layer
- benzotriazole
- substrate
- Prior art date
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title description 22
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 claims abstract description 71
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 14
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 claims description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical group [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 65
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 15
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 15
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- VFBJXXJYHWLXRM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]ethylsulfanyl]ethyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCSCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 VFBJXXJYHWLXRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HCILJBJJZALOAL-UHFFFAOYSA-N 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)-n'-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyl]propanehydrazide Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)NNC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 HCILJBJJZALOAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013068 control sample Substances 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- JOADGALWHMAAKM-UHFFFAOYSA-L magnesium;2-ethylbutanoate Chemical compound [Mg+2].CCC(CC)C([O-])=O.CCC(CC)C([O-])=O JOADGALWHMAAKM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 5
- OXWDLAHVJDUQJM-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-[2-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]ethylamino]-2-oxoacetyl]amino]ethyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCNC(=O)C(=O)NCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 OXWDLAHVJDUQJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FRQDZJMEHSJOPU-UHFFFAOYSA-N Triethylene glycol bis(2-ethylhexanoate) Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(CC)CCCC FRQDZJMEHSJOPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical class OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- NTYJJOPFIAHURM-UHFFFAOYSA-N Histamine Chemical compound NCCC1=CN=CN1 NTYJJOPFIAHURM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 125000004036 acetal group Chemical group 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000021736 acetylation Effects 0.000 description 2
- 238000006640 acetylation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- -1 butyraldehyde acetal Chemical class 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFOMEJJNWNWWIB-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(octyldisulfanyl)-1,3,4-thiadiazole Chemical compound CCCCCCCCSSC1=NN=C(SSCCCCCCCC)S1 ZFOMEJJNWNWWIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEYLQCXBYFQJRO-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-ethylbutanoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-ethylbutanoate Chemical compound CCC(CC)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(CC)CC JEYLQCXBYFQJRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGYNIFWIKSEESD-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexanal group Chemical group C(C)C(C=O)CCCC LGYNIFWIKSEESD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHCVYAFXPIMYRD-UHFFFAOYSA-N 2-phenylsulfanylethylsulfanylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1SCCSC1=CC=CC=C1 MHCVYAFXPIMYRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUOVBFFLXKJFEE-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazole-5-carboxylic acid Chemical compound C1=C(C(=O)O)C=CC2=NNN=C21 GUOVBFFLXKJFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPMYUUITDBHVQZ-UHFFFAOYSA-M 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC([O-])=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O WPMYUUITDBHVQZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XMIIGOLPHOKFCH-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpropionic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=CC=C1 XMIIGOLPHOKFCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJUQGASMPRMWIW-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethylbenzimidazole Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC2=C1NC=N2 LJUQGASMPRMWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDGIVSREGUOIJZ-UHFFFAOYSA-N 5-amino-3h-1,3,4-thiadiazole-2-thione Chemical compound NC1=NN=C(S)S1 GDGIVSREGUOIJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NNN=N1 MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJOPAHPBEPZPKX-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCON1C(CC(CC1(C)C)OC2CC(N(C(C2)(C)C)OCCCCCCCC)(C)C)(C)C Chemical compound CCCCCCCCON1C(CC(CC1(C)C)OC2CC(N(C(C2)(C)C)OCCCCCCCC)(C)C)(C)C FJOPAHPBEPZPKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N Dialdehyde 11678 Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C2=C1[C@H](C[C@H](/C(=C/O)C(=O)OC)[C@@H](C=C)C=O)NCC2 ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N 0.000 description 1
- PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N Dibutyl decanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CCCCCCCCC(=O)OCCCC PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004262 Ethyl gallate Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- HNDVDQJCIGZPNO-YFKPBYRVSA-N L-histidine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CN=CN1 HNDVDQJCIGZPNO-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- MQHWFIOJQSCFNM-UHFFFAOYSA-L Magnesium salicylate Chemical compound [Mg+2].OC1=CC=CC=C1C([O-])=O.OC1=CC=CC=C1C([O-])=O MQHWFIOJQSCFNM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012963 UV stabilizer Substances 0.000 description 1
- KTSFMFGEAAANTF-UHFFFAOYSA-N [Cu].[Se].[Se].[In] Chemical compound [Cu].[Se].[Se].[In] KTSFMFGEAAANTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005233 alkylalcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940053200 antiepileptics fatty acid derivative Drugs 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- ZFMQKOWCDKKBIF-UHFFFAOYSA-N bis(3,5-difluorophenyl)phosphane Chemical compound FC1=CC(F)=CC(PC=2C=C(F)C=C(F)C=2)=C1 ZFMQKOWCDKKBIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N butyric aldehyde Natural products CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- HVMJUDPAXRRVQO-UHFFFAOYSA-N copper indium Chemical compound [Cu].[In] HVMJUDPAXRRVQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229960001340 histamine Drugs 0.000 description 1
- HNDVDQJCIGZPNO-UHFFFAOYSA-N histidine Natural products OC(=O)C(N)CC1=CN=CN1 HNDVDQJCIGZPNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 239000012939 laminating adhesive Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000010329 laser etching Methods 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229940072082 magnesium salicylate Drugs 0.000 description 1
- OJXOOFXUHZAXLO-UHFFFAOYSA-M magnesium;1-bromo-3-methanidylbenzene;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[CH2-]C1=CC=CC(Br)=C1 OJXOOFXUHZAXLO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZIKGDWWRHXYIQQ-UHFFFAOYSA-L magnesium;2-aminobenzoate Chemical compound [Mg+2].NC1=CC=CC=C1C([O-])=O.NC1=CC=CC=C1C([O-])=O ZIKGDWWRHXYIQQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HDGZVUGGOOMFHA-UHFFFAOYSA-L magnesium;3-carboxynaphthalen-2-olate Chemical compound [Mg+2].C1=CC=C2C=C(C([O-])=O)C(O)=CC2=C1.C1=CC=C2C=C(C([O-])=O)C(O)=CC2=C1 HDGZVUGGOOMFHA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LBYCWLBCHNSWFE-UHFFFAOYSA-L magnesium;pyridine-3-carboxylate Chemical compound [Mg+2].[O-]C(=O)C1=CC=CN=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CN=C1 LBYCWLBCHNSWFE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006078 metal deactivator Substances 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 description 1
- LJXQPZWIHJMPQQ-UHFFFAOYSA-N pyrimidin-2-amine Chemical compound NC1=NC=CC=N1 LJXQPZWIHJMPQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N pyrimidine-2-thiol Chemical compound SC1=NC=CC=N1 HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000326 ultraviolet stabilizing agent Substances 0.000 description 1
- HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N valeric aldehyde Natural products CCCCC=O HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
- B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
- B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
- B32B17/1055—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer
- B32B17/10761—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer containing vinyl acetal
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
- B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
- B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
- B32B17/1055—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer
- B32B17/10678—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer comprising UV absorbers or stabilizers, e.g. antioxidants
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3472—Five-membered rings
- C08K5/3475—Five-membered rings condensed with carbocyclic rings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/0256—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
- H01L31/0264—Inorganic materials
- H01L31/0296—Inorganic materials including, apart from doping material or other impurities, only AIIBVI compounds, e.g. CdS, ZnS, HgCdTe
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/0256—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
- H01L31/0264—Inorganic materials
- H01L31/032—Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312
- H01L31/0322—Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312 comprising only AIBIIICVI chalcopyrite compounds, e.g. Cu In Se2, Cu Ga Se2, Cu In Ga Se2
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/036—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes
- H01L31/0376—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including amorphous semiconductors
- H01L31/03762—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including amorphous semiconductors including only elements of Group IV of the Periodic Table
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/048—Encapsulation of modules
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/048—Encapsulation of modules
- H01L31/0481—Encapsulation of modules characterised by the composition of the encapsulation material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/06—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
- H01L31/075—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PIN type, e.g. amorphous silicon PIN solar cells
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/12—Photovoltaic modules
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/541—CuInSe2 material PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/548—Amorphous silicon PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Изобретение относится к композиции для уменьшения пожелтения и способу получения такой композиции. Композиция состоит из фотоэлектрического устройства, содержащего металлический компонент, поливинилбутирального слоя, расположенного в контакте с указанным металлическим компонентом, и защитной подложки, являющейся второй подложкой, расположенной в контакте с указанным поливинилбутиральным слоем. Поливинилбутиральный слой содержит 1Н-бензотриазол или соль 1Н-бензотриазола. Технический результат - получение композиции, пригодной для устойчивого, долгосрочного применения в фотоэлектрических модулях с металлическими элементами. 2 н. и 13 з.п. ф-лы, 3 табл., 3 пр., 1 ил.
Description
ОБЛАСТЬ ТЕХНИКИ
Настоящее изобретение относится к области фотоэлектрических модулей и, в частности, настоящее изобретение относится к тонкопленочным фотоэлектрическим модулям, включающим полимерный слой и фотоэлектрическое устройство на соответствующей тонкопленочной фотоэлектрической подложке.
УРОВЕНЬ ТЕХНИКИ
В настоящее время используется два общих типа фотоэлектрических (солнечных) модулей. В первом типе фотоэлектрических модулей в качестве подложки используется полупроводниковая пластина, а во втором типе фотоэлектрических модулей используется тонкая пленка полупроводника, осажденная на соответствующей подложке.
Фотоэлектрические модули типа полупроводниковой пластины обычно включают кристаллические кремниевые пластины, которые обычно используются в различных твердотельных электронных устройствах, таких как компьютерные микросхемы памяти и компьютерные процессоры.
Тонкопленочные фотоэлектрические устройства могут включать один или более обычных полупроводников, таких как аморфный кремний, на соответствующей подложке. В отличие от устройств с пластинами, в которых пластина вырезается из слитка, тонкопленочные фотоэлектрические устройства создаются с использованием относительно простых способов нанесения, таких как распылительное покрытие, физическое осаждение паров (ФОПФ) или химическое осаждение паров (ХОПФ).
Тонкопленочные фотоэлектрические модули обычно включают слой этиленвинилацетатного сополимера (ЭВА) или слой из поли(винилбутираля) (ПВБ) для герметизации и защиты находящегося под ним фотоэлектрического устройства. Долгосрочная надежная работа фотоэлектрического модуля, конечно, имеет первостепенное значение, и, соответственно, стабильность полимерного слоя является критическим фактором для любых конкретных фотоэлектрических устройств.
Хотя в фотоэлектрических модулях широко используется ЭВА, применение поли(винилбутираля) является очень желательным, поскольку он не имеет таких недостатков, как ЭВА, таких как разрушение под действием уксусной кислоты, как подробно описано в патентной заявке США 2007/0259998.
Несмотря на то, что зачастую предпочтительно использовать поли(винилбутираль), наблюдалось пожелтение поли(винилбутираля) при контакте с элементами, содержащими серебро.
Соответственно, в этой области необходимы композиции поли(винилбутираля), которые являются пригодными для устойчивого, долгосрочного применения в фотоэлектрических модулях с металлическими элементами.
СУЩНОСТЬ ИЗОБРЕТЕНИЯ
В настоящем изобретении представлено фотоэлектрическое устройство, включающее металл и поли(винилбутиральный) слой, содержащий соответствующее количество 1Н-бензотриазола. При наложении электрического смещения на фотоэлектрическое устройство 1Н-бензотриазол образует барьерный слой на поверхности раздела металл/поли(винилбутираль), который, например, непредвиденно практически исключает пожелтение поли(винилбутираля) в фотоэлектрических устройствах, содержащих серебряные компоненты.
КРАТКОЕ ОПИСАНИЕ ФИГУРЫ
На Фигуре 1 представлен схематический вид в поперечном разрезе тонкопленочного фотоэлектрического устройства настоящего изобретения.
ПОДРОБНОЕ ОПИСАНИЕ
Тонкопленочные фотоэлектрические устройства настоящего изобретения включают поли(винилбутиральный) слой, составленный в соответствии с настоящим описанием, который обеспечивает превосходную адгезию, удельное сопротивление, герметизацию, технологичность и износостойкость фотоэлектрического устройства и который включает 1Н-бензотриазол.
Один вариант воплощения тонкопленочного фотоэлектрического модуля настоящего изобретения показан на Фигуре 1, в основном, под индексом 10. Как показано на этой Фигуре, фотоэлектрическое устройство 14 сформировано на основе подложки 12, которая может быть, например, стеклянной или пластмассовой. Защитная подложка 18 связана с фотоэлектрическим устройством 14 поли(винилбутиральным) слоем 16.
При использовании в настоящем документе, термин «1Н-бензотриазол» относится к соединению, показанному на следующей формуле:
Формула I
1Н-бензотриазол может быть включен в поли(винилбутиральный) слой в любом подходящем количестве, и в различных вариантах воплощения 1Н-бензотриазол включен, в весовых процентах, в количестве от 0,001 до 5%, от 0,01 до 5%, от 0,1 до 5%, от 1 до 5%, от 2 до 5% или от 0,1 до 0,4%.
1Н-бензотриазол предпочтительно вводится в поли(винилбутираль) во время образования полимерного слоя путем компаундирования в расплаве 1Н-бензотриазола с поли(винилбутиральной) смолой и любыми другими добавками. 1Н-бензотриазол также может быть представлен в солевой форме, например соли натрия, калия и аммония.
1Н-бензотриазол является хорошо известным ингибитором коррозии для меди, серебра, кобальта, алюминия и цинка. Он имеется в продаже у компании PMC Specialties Group и продается под торговой маркой Cobratec-99. Другие ингибиторы коррозии, применимые в фотоэлектрических устройствах настоящего изобретения, включают: производные 1Н-бензотриазола, такие как 5-метил-1Н-бензотриазол, 5-карбоксибензотриазол и другие алкиловые производные 1Н-бензотриазола; имидазол и производные имидазола, такие как бензимидазол, 5,6-диметилбензимидазол, 2-меркаптобензоимидазол, и производные жирных кислот 4,5-дигидро-1Н-имидазола; тиадиазол и алкиловые производные тиадиазола, такие как 2-меркаптобензотиазол, 1,2-бис(фенилтио)этан, 2,5-бис(н-октилдитио)-1,3,4-тиадиазол, 2-амино-5-меркапто-1,3,4-тиадиазол, 2-меркаптопиримидин, 2-меркаптобензоксазол, гистамин, гистидин; и 2-аминопиримидин.
Дополнительные добавки
В полимерные слои настоящего изобретения могут быть включены дополнительные добавки для улучшения стабильности и характеристик, включая дезактиваторы металлов, такие как Irganox MD-1024® (CAS 32687-78-8) и Naugard XL-1® (CAS 70331-94-1), светостабилизаторы из пространственно затрудненных аминов, такие как Tinuvin 123® (CAS129757-67-1), и фенольные антиоксиданты, такие как Anox 70® (2,2'-тиодиэтилен бис[3-(3,5-ди-трет-бутил-4-гидроксифенил)пропионат] CAS 41484-35-9).
Комбинированием любых из представленных выше стабилизаторов полимеров с бензотриазолом предположительно можно достичь дополнительной стабильности поли(винилбутираля) как на поверхности раздела поли(винилбутираля)-металла, так и внутри самого полимера. Экспериментальные данные позволяют предположить, что добавление бензотриазола и Anox 70® в композицию поли(винилбутираля) действительно дополнительно уменьшает нарушение цвета полимера и защищает структуру тонкопленочных солнечных панелей. В различных вариантах воплощения настоящего изобретения 1Н-бензотриазол и фенольные антиоксиданты включены в поли(винилбутиральный) слой и в некоторых вариантах 1Н-бензотриазол и 2,2'-тиодиэтилен бис[3-(3,5-ди-трет-бутил-4-гидроксифенил)пропионат включены в поли(винилбутиральный) слой.
Поли(винилбутиральный) слой
В тонкопленочных фотоэлектрических модулях настоящего изобретения используется слой поли(винилбутираля) в качестве ламинирующего адгезива, который используется для склеивания фотоэлектрического устройства с защитной подложкой, образуя, таким образом, фотоэлектрический модуль настоящего изобретения.
Поли(винилбутираль) настоящего изобретения может быть получен ацетилированием, способом, известным специалистам в данной области (см., например, патенты США № 2282057 и № 2282026). В одном варианте воплощения может использоваться растворный метод, описанный в статье «Винилацетатные полимеры» в Энциклопедии науки и технологии полимеров, 3-е издание, том 8, страницы 381-399, автора B.E. Wade (2003). В другом варианте воплощения может использоваться водный способ, описанный там же. Поли(винилбутираль) имеется в продаже в различных формах, например, у компании Solutia Inc., Сент-Луис, Миссури, в виде смолы Butvar™.
В различных вариантах воплощения поли(винилбутираль) включает от 10 до 35 весовых процентов (вес.%) гидроксильных групп в пересчете на поли(виниловый спирт), от 13 до 30 вес.% гидроксильных групп в пересчете на поли(виниловый спирт) или от 15 до 22 вес.% гидроксильных групп в пересчете на поли(виниловый спирт). Смола полимерного слоя может также включать менее чем 15 вес.% остаточных сложноэфирных групп, 13 вес.%, 11 вес.%, 9 вес.%, 7 вес.%, 5 вес.% или менее чем 3 вес.% остаточных сложноэфирных групп в пересчете на поливинилацетат, где оставшаяся часть является ацеталем, предпочтительно бутиральдегидным ацеталем, но необязательно включая другие ацетальные группы в незначительном количестве, например 2-этилгексанальную группу (см., например, патент США № 5137954).
В различных вариантах воплощения поли(винилбутираль) имеет молекулярный вес по меньшей мере 30000, 40000, 50000, 55000, 60000, 65000, 70000, 120000, 250000 или по меньшей мере 350000 грамм на моль (г/моль или дальтон). На этапе ацетилирования также могут быть добавлены небольшие количества диальдегида или триальдегида для увеличения молекулярного веса до значения по меньшей мере 350000 г/моль (см., например, патенты США № 4902464; 4874814; 4814529; и 4654179). При использовании в настоящем документе термин «молекулярный вес» означает средний молекулярный вес.
В полимерных слоях настоящего изобретения могут использоваться различные средства контролирования адгезии, включая ацетат натрия, ацетат калия и соли магния. Соли магния, которые могут использоваться с этими вариантами воплощения настоящего изобретения, включают, не ограничиваясь этим, те, которые описаны в патенте США № 5728472, такие как салицилат магния, никотинат магния, ди-(2-аминобензоат) магния, ди-(3-гидрокси-2-нафтоат) магния и бис(2-этилбутират) магния (номер по каталогу Chemical Abstracts 79992-76-0). В различных вариантах воплощения настоящего изобретения солью магния является бис(2-этилбутират) магния.
В различных вариантах воплощения полимерных слоев настоящего изобретения полимерные слои могут включать от 20 до 60, от 25 до 60, от 20 до 80, от 10 до 70 или от 10 до 100 частей пластификатора на сто частей. Конечно, могут использоваться другие количества, соответствующие конкретному применению. В некоторых вариантах воплощения пластификатор имеет углеводородный сегмент, состоящий из менее 20, менее 15, менее 12 или менее 10 углеродных атомов. Количество пластификатора может быть подобрано для изменения температуры стеклования (Tg) поли(винилбутирального) слоя. Вообще более высокое содержание пластификатора добавляется для снижения Tg.
К полимерным смолам настоящего изобретения могут добавляться любые подходящие пластификаторы для образования полимерных слоев. Пластификаторы, используемые в полимерных слоях настоящего изобретения, могут включать, среди прочего, сложные эфиры многоосновной кислоты или многоатомного спирта. Пригодные пластификаторы включают, например, триэтиленгликольди-(2-этилбутират), триэтиленгликольди-(2-этилгексаноат), триэтиленгликольдигептаноат, тетраэтиленгликольдигептаноат, дигексиладипинат, диоктиладипинат, гексилциклогексиладипинат, смеси гептил и нониладипинатов, диизонониладипинат, гептилнониладипинат, дибутилсебацинат, полимерные пластификаторы, такие как модифицированные маслом себациновые алкиды, смеси фосфатов и адипинатов, такие как описаны в патенте США № 3841890, адипинаты, такие как описаны в патенте США № 4144217, и смеси и комбинации вышеизложенного. Другими пластификаторами, которые могут использоваться, являются смешанные адипинаты, полученные из C4-C9 алкиловых спиртов и циклоC4-C10 спиртов, как описано в патенте США № 5013779, а также C6-C8 адипинатных эфиров, таких как гексиладипинат. В различных вариантах воплощения используемым пластификатором является дигексиладипинат и/или триэтиленгликольди-2-этилгексаноат.
Поли(винилбутиральный) полимер, пластификатор и любые добавки могут быть термически переработаны и сформированы в листовую форму по способам, известным специалистам в данной области. Один типичный способ формования поли(винилбутирального) листа включает экструдирование расплавленной смолы, включающей поли(винилбутираль), пластификатора и добавок продавливанием расплава через фильеру (например, фильеру, имеющую отверстие, размер которого в одном направлении гораздо больше, чем в перпендикулярном направлении). Другой типичный способ формования поли(винилбутирального) листа включает литье расплава из фильеры на ролик, затвердевание смолы и последующее снятие затвердевшей смолы в виде листа. В различных вариантах воплощения полимерные слои могут быть толщиной, например, от 0,1 до 2,5 миллиметров, от 0,2 до 2,0 миллиметров, от 0,25 до 1,75 миллиметров и от 0,3 до 1,5 миллиметров.
Поли(винилбутиральные) слои настоящего изобретения могут включать низкомолекулярные эпоксидные добавки. С настоящим изобретением может использоваться любой подходящий эпоксидный агент, известный в данной области (см., например, патенты США 5529848 и 5529849).
Другие добавки могут быть введены в полимерный лист для улучшения его характеристик в конечном продукте. Такие добавки включают, не ограничиваясь этим, красители, пигменты, стабилизаторы (например, ультрафиолетовые стабилизаторы), антиоксиданты, антиадгезивные агенты, дополнительные ИК-абсорберы, огнезащитные добавки, комбинации вышеперечисленных добавок и тому подобное, что известно в данной области.
Типичные ультрафиолетовые стабилизаторы включают замещенные 2Н-бензотриазолы, такие как стабилизаторы, продаваемые компанией Ciba Specialty под торговой маркой Tinuvin®, например, Tinuvin 328®, как показано на Формуле II:
Формула II
Базовая подложка
Базовые подложки настоящего изобретения, которые показаны как элемент 12 на Фигуре 1, могут быть любой подходящей подложкой, на которой можно создать фотоэлектрические устройства настоящего изобретения. Примеры включают, не ограничиваясь этим, стекло и жесткие пластмассовые глазурованные материалы, которые дают «жесткие» тонкопленочные модули, а также тонкие пластмассовые пленки, такие как поли(этилентерефталат), полиимиды, фторполимеры и тому подобное, которые дают «гибкие» тонкопленочные модули. В общем предпочтительно, чтобы базовая подложка обеспечивала пропускание большей части падающего излучения в диапазоне от 350 до 1200 нанометров, но специалистам в данной области понятно, что возможны различные варианты, включая варианты, в которых свет попадает в фотоэлектрическое устройство через защитную подложку.
Тонкопленочное фотоэлектрическое устройство
Тонкопленочные фотоэлектрические устройства настоящего изобретения, показанные как элемент 14 на Фигуре 1, создаются непосредственно на базовой подложке. Типичное производство устройства включает осаждение первого проводящего слоя, травление первого проводящего слоя, осаждение и травление полупроводящих слоев, осаждение второго проводящего слоя, травление второго проводящего слоя и нанесение шинных проводников и защитных слоев в зависимости от применения. Необязательно может быть сформирован электроизоляционный слой на базовой положке, между первым проводящим слоем и базовой подложкой. Этот необязательный слой может быть, например, кремниевым слоем.
Хотя 1Н-бензотриазоловый агент настоящего изобретения может быть добавлен в полимерные слои для применения на фотоэлектрических устройствах, не содержащих серебра, в предпочтительных вариантах воплощения 1Н-бензотриазол используется в поли(винилбутиральном) слое, который используется в фотоэлектрическом модуле, имеющем фотоэлектрическое устройство, содержащее серебро. Примеры серебряных компонентов включают, не ограничиваясь этим, проводящие слои или элементы (такие как проволочная сетка) или отражающие слои (см., например, US2006/0213548).
В других вариантах воплощения 1Н-бензотриазоловый агент настоящего изобретения может добавляться в полимерные слои для применения на фотоэлектрических устройствах, содержащих другие металлы, подверженные разрушению, например висмут, медь, кадмий, свинец, олово, цинк, золото, индий, палладий, платину, алюминий, сурьму, хром, железо, никель, родий, тантал, титан или ванадий.
Специалисту в данной области понятно, что вышеизложенное описание производства устройства является лишь одним из известных способов и лишь одним из вариантов воплощения настоящего изобретения. В рамки настоящего изобретения входят многие другие типы тонкопленочных фотоэлектрических устройств. Примеры способов производства и устройств включают способы, описанные в патентных документах США 2003/0180983, 7074641, 6455347, 6500690, 2006/0005874, 2007/0235073, 7271333 и 2002/0034645.
Различные компоненты тонкопленочного фотоэлектрического устройства могут быть получены любым подходящим способом. В различных вариантах воплощения могут использоваться химическое осаждение паров (ХОПФ), физическое осаждение паров (ФОПФ) и/или распыление.
Два проводящих слоя, описанных выше, служат в качестве электродов для переноса тока, выработанного промежуточным полупроводниковым материалом. Один из электродов обычно является прозрачным для обеспечения попадания солнечного излучения на полупроводниковый материал. Конечно, оба проводника могут быть прозрачными, или один из проводников может быть отражающим, что приведет к отражению света, прошедшего через полупроводниковый материал, обратно в полупроводниковый материал. Проводящие слои могут включать любой подходящий проводящий оксидный материал, такой как оксид олова или оксид цинка, или, если прозрачность не является критичной, как для «неподвижных» электродов, могут использоваться слои из металлов или металлических сплавов, такие как сплавы, включающие алюминий или серебро. В других вариантах воплощения для формирования электрода слой из оксида металла может комбинироваться с металлическим слоем, и слой из оксида металла может быть легирован бором или алюминием и осажден с использованием химического осаждения паров под низким давлением. Проводящие слои могут быть толщиной, например, от 0,1 до 10 микрометров.
Фотоэлектрическая область тонкопленочного фотоэлектрического устройства может включать, например, гидрированный аморфный кремний в обычной структуре PIN или PN. Кремний обычно может быть толщиной до 500 нанометров, обычно включая р-слой толщиной от 3 до 25 нанометров, i-слой толщиной от 20 до 450 нанометров, и n-слой толщиной от 20 до 40 нанометров. Осаждение может быть осуществлено тлеющим разрядом в силане или в смеси силана и водорода, как описано, например, в патенте США № 4064521.
Альтернативно, полупроводниковый материал может быть микроморфным кремнием, теллуридом кадмия (CdTe или CdS/CdTe), диселенидом меди-индия (CuInSe2 или “CIS”, или CdS/CuInSe2), селенидом меди-индия-галлия (CuInGaSe2 или “CIGS”) или другим фотоэлектрически активным материалом. Фотоэлектрические устройства настоящего изобретения могут иметь дополнительные полупроводниковые слои или комбинации вышеописанных типов полупроводников и могут быть последовательным соединением, тройным соединением или гетеропереходной структурой.
Травление слоев для получения отдельных компонентов устройства может быть выполнено с использованием любого обычного способа изготовления полупроводников, включая, но не ограничиваясь этим, шелкографию с резистными масками, травление с положительными или отрицательными фоторезистами, механическое гравирование, гравирование электрическим разрядом, химическое травление или лазерное травление. Травление различных слоев приводит обычно к образованию отдельных фотоэлементов в устройстве. Эти устройства могут быть электрически подключены к другим устройствам с использованием собирательных шин, которые вставлены или сформированы на любом соответствующем этапе процесса изготовления.
Необязательно может быть сформирован защитный слой над фотоэлементами перед сборкой с поли(винилбутиральным) слоем и защитной подложкой. Защитный слой может быть, например, напыленным алюминием.
Электрически взаимосвязанные фотоэлементы, образованные из необязательно изолирующего слоя, проводящие слои, полупроводниковые слои и необязательный защитный слой образуют фотоэлектрическое устройство настоящего изобретения.
Защитная подложка
Защитные подложки настоящего изобретения, показанные как элемент 18 на Фигуре 1, могут быть любой подходящей подложкой, которая может использоваться для связывания с полимерным слоем и достаточной защиты находящегося под ней устройства. Примеры включают, не ограничиваясь этим, стекло, жесткий пластик, тонкие пластмассовые пленки, такие как поли(этилентерефталатные), полиимидные, фторполимерные и тому подобные. В общем предпочтительно, чтобы защитная подложка обеспечивала пропускание большей части падающего излучения в диапазоне от 350 до 1200 нанометров, но специалистам в данной области понятно, что возможны различные варианты, включая варианты, в которых весь свет, входящий в фотоэлектрическое устройство, поступает через базовую подложку. В этих вариантах воплощения не нужна прозрачная или почти прозрачная защитная подложка, и она может быть, например, отражающей пленкой, предотвращающей выход света из фотоэлектрического модуля через защитную подложку.
Сборка
Конечная сборка тонкопленочных фотоэлектрических модулей настоящего изобретения включает размещение поли(винилбутирального) слоя в контакте с тонкопленочным фотоэлектрическим устройством, с собирательными шинами, если это применимо, которые были сформированы на базовой подложке, размещение защитной подложки в контакте с поли(винилбутиральным) слоем и ламинирование сборки для получения модуля.
Хотя основная часть настоящей заявки была связана с представлением предпочтительного варианта воплощения, в рамки настоящего изобретения входят все фотоэлектрические устройства, содержащие серебряный компонент и поли(винилбутираль), включая стандартные (не тонкопленочные) фотоэлектрические устройства, а также другие многослойные ламинаты, включающие поливинилбутиральный лист в контакте с разлагаемым металлическим компонентом (например, солнечное остекление и зеркала), которые хорошо известны в данной области.
Настоящее изобретение включает поли(винилбутиральные) слои, содержащие любой из компонентов, описанных в настоящем документе, включающие 1Н-бензотриазол и, необязательно, любые дополнительные добавки, описанные в настоящем документе.
Настоящее изобретение включает способ получения фотоэлектрического модуля, включающий этапы создания базовой подложки, формирования на ней фотоэлектрического устройства настоящего изобретения и ламинирования фотоэлектрического устройства с защитной подложкой с использованием поли(винилбутирального) слоя настоящего изобретения.
Настоящее изобретение включает фотоэлектрические модули, включающие полимерные слои настоящего изобретения.
ПРИМЕРЫ
Пример 1
С использованием небольшого лабораторного экструдера 750 грамм поли(винилбутиральной) смолы с содержанием винилового спирта около 18,7 вес.% и винилацетатного остатка 0,5-4 вес.% смешали с 285 грамм триэтиленгликоль ди-(2-этилгексаноатом) в качестве пластификатора, 2,63 грамм УФ-абсорбера Tinuvin 328®, 0,19 грамм магния (2-этилбутирата) в качестве соли для контролирования адгезии и различными добавками, показанными в Таблице 1, и экструдировали в листы толщиной 0,76 миллиметров.
Эти листы использовали для ламинации тонкопленочных солнечных элементов (15×15 сантиметров). Ламинаты экспонировали при 85°C и относительной влажности 85% под смещением 1000 вольт в течение 1000 часов. Индексы желтизны ламинатов измерили через 1000 часов экспозиции. Типичный индекс желтизны ламинатов до экспозиции составляет около 12 (между 11 и 13).
Таблица 1 | |||
№ образца | Добавка | Вес добавки | Индекс желтизны через 1000 часов |
Контрольный образец №1 | нет | нет | 122,2 |
1 | 1Н-Бензотриазол | 1,875 грамм | 27,1 |
2 | Anox 70® (2,2'-тиодиэтилен бис[3-(3,5-ди-трет-бутил-4-гидроксифенил)пропионат]) | 1,875 грамм | 93,4 |
3 | Naugard XL-1® (CAS 70331-94-1) бензолпропановая кислота, 3,5-бис(1,1-диметилэтил)-4-гидрокси-, 1,1'-[(1,2-диоксо-1,2-этандиил)бис(имино-2,1-этандииловый)] эфир | 1,875 грамм | 118,4 |
Контрольный образец №2 | нет | нет | 110,8 |
4 | Irganox MD1024® бензолпропановая кислота, 3,5-бис(1,1-диметилэтил)-4-гидрокси-, 2-[3-[3,5-бис(1,1-диметилэтил)-4-гидроксифенил]-1-оксопропил]гидразид (CAS 32687-78-8) | 0,75 грамм | 61,6 |
Tinuvin 123® декандионовая кислота, 1,10-бис[2,2,6,6-тетраметил-1-(октилокси)-4-пиперидиниловый] эфир (CAS 122586-52-1) | 0,75 грамм |
Пример 2
Листы (толщиной 1,14 мм) получили на лабораторном экструдере следующим образом: на каждые 100 грамм поли(винилбутиральной) смолы добавили 38 грамм триэтиленгликоль ди-(2-этилгексаноата) в качестве пластификатора, 0,35 грамм Tinuvin 328®, 0,025 грамм магния (2-этилбутирата) и различных добавок, как показано в Таблице 2. Стекло, покрытое серебром, и другие слои использовали для получения поли(винилбутарильных) ламинатов. Размер стекла с покрытием равен 7×9 сантиметров. Ламинаты испытывали в течение 670 часов при 85°C, относительной влажности (ОВ) 85% и 1000 вольт электрического смещения.
Таблица 2 | |||
№ образца | Поли(винилбутиральная) композиция (на 100 грамм поли(винилбутиральной) смолы) | Индекс желтизны | |
t=0 | t=670 часов | ||
Контрольный образец 3 | Контрольный образец (без дополнительных добавок) | 12,8 | 95,6 |
5 | 0,125 г 1Н-бензотриазола | 12,5 | 38,6 |
6 | 0,35 г 1Н-бензотриазола | 12,6 | 36,8 |
7 | 0,35 г 1Н-бензотриазола и 0,15 г Anox 70® | 12,6 | 35,7 |
8 | 0,35 г Irganox MD 1024® и 0,15 г Tinuvin 123® | 11,2 | 79,1 |
Пример 3
Концентрацию серебра в контрольном образце 2 и образце 4 из Примера 1 определили через 1000 часов экспозиции. Образцы расслоили. Пластификатор экстрагировали из слоев вымачиванием и перемешиванием в смеси 75:25 гексан/этилацетат. Восстановленная поли(винилбутиральная) смола сохранила цвет, затем ее растворили в кислоте и анализировали на содержание серебра с использованием прибора Perkin Elmer Optima 3300 DV. Стандартный лист поли(винилбутираля) также анализировали на содержание серебра.
Таблица 3 | |||
Контрольный образец 2 | Образец 4 | Стандартный поли(винилбутираль) | |
Ag (м.д.) | 316 | 150 | <5 |
«Индекс желтизны» измерили на неповрежденных стеклянных ламинатах. Образец измерили по полусферическому отражению с зеркальным компонентом, исключенным в соответствии со способом испытания ASTM E 1331, где прозрачная поверхность стекла направлена к источнику света. С использованием значений отражения по всему видимому спектру значение индекса желтизны рассчитали с использованием колонки «С, 1931» «Коэффициентов равенств индекса желтизны», представленной в таблице 1 способа ASTM E 313 «Стандартный способ испытания пластмасс на индекс желтизны».
Испытание под смещением выполнили, создав сначала следующую конструкцию: электрод/стеклянный слой/фотоэлектрическая пленка/электрод/поли(винилбутираль)/стеклянный слой. Затем наложили прямой ток напряжением 1000 вольт, в результате чего появился ток примерно 0,1 миллиампер.
Как показано в примерах, добавление Tinuvin 328®, замещенного производного 2Н-безотриазола, показанного на Формуле II, не предотвращает пожелтение, что подчеркивает существенный успех 1Н-бензотриазола.
Благодаря преимуществу настоящего изобретения теперь возможно создавать тонкопленочные фотоэлектрические модули, обладающие превосходной устойчивостью поли(винилбутираля) и устойчивостью к пожелтению при эксплуатации с фотоэлектрическими устройствами, содержащими серебро.
Хотя настоящее изобретение было описано со ссылкой на иллюстративные варианты воплощения, специалисту в данной области понятно, что могут быть сделаны различные изменения, и эквиваленты могут быть заменены на их элементы без отклонения от общей идеи настоящего изобретения. Кроме того, могут быть сделаны многие модификации для приспособления конкретной ситуации или материала к руководствам настоящего изобретения без отклонения от его основной идеи. Таким образом, предполагается, что настоящее изобретение не ограничивается конкретными вариантами воплощения, описанными как наилучший из рассмотренных способов осуществления настоящего изобретения, но что настоящее изобретение включает все варианты воплощения, входящие в рамки приложенной формулы изобретения.
Следует дополнительно понимать, что любые диапазоны, значения или характеристики, данные для любого отдельного компонента настоящего изобретения, могут использоваться взаимозаменяемо с любыми диапазонами, значениями или характеристиками любого другого компонента настоящего изобретения, при их совместимости, для получения варианта воплощения, имеющего определенные значения для каждого компонента, как представлено в тексте настоящего документа. Например, тонкопленочные модули могут включать комбинации поли(винилбутираля) и фотоэлектрических элементов для образования многих перестановок, находящихся в рамках настоящего изобретения, но которые чрезвычайно долго перечислять.
Любые кодовые числа Фигуры, данные в реферате или любом пункте формулы изобретения, предназначены лишь для иллюстративных целей и их не следует толковать как ограничивающие заявленное изобретение до какого-либо одного конкретного варианта воплощения, показанного на фигуре.
Изображенную фигуру не следует масштабировать, если не указано иное.
Все ссылки, включая журнальные статьи, патенты, заявки и книги, упомянутые в настоящем документе, включены в настоящий документ путем ссылки в полном объеме.
Claims (15)
1. Композиция для уменьшения пожелтения, по существу состоящая из:
основы, представляющей собой первую подложку;
фотоэлектрического устройства, содержащего металлический компонент;
поли(винилбутирального) слоя, расположенного в контакте с указанным металлическим компонентом, где указанный поливинилбутиральный слой содержит 1H-бензотриазол или соль 1H-бензотриазола; и
защитной подложки, являющейся второй подложкой, расположенной в контакте с указанным поли(винилбутиральным) слоем.
основы, представляющей собой первую подложку;
фотоэлектрического устройства, содержащего металлический компонент;
поли(винилбутирального) слоя, расположенного в контакте с указанным металлическим компонентом, где указанный поливинилбутиральный слой содержит 1H-бензотриазол или соль 1H-бензотриазола; и
защитной подложки, являющейся второй подложкой, расположенной в контакте с указанным поли(винилбутиральным) слоем.
2. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что указанное фотоэлектрический компонент является тонкопленочным фотоэлектрическим устройством.
3. Композиция по п.2, отличающаяся тем, что указанный поли(винилбутиральный) слой включает от 0,001 до 5 весовых процентов 1H-бензотриазола.
4. Композиция по п.2, отличающаяся тем, что указанный поли(винилбутиральный) слой включает от 0,1 до 0,4 весовых процентов 1H-бензотриазола.
5. Композиция по п.2, отличающаяся тем, что указанный поли(винилбутиральный) слой включает от 1 до 5 весовых процентов 1H-бензотриазола.
6. Композиция по п.2, отличающаяся тем, что указанный поли(винилбутиральный) слой дополнительно включает фенольный антиоксидант.
7. Композиция по п.2, отличающаяся тем, что указанным металлическим компонентом является висмут, медь, кадмий, свинец, олово, цинк, серебро, золото, индий, палладий, платина, алюминий, сурьма, хром, железо, никель, родий, тантал, титан или ванадий.
8. Композиция по п.2, отличающаяся тем, что указанным металлическим компонентом является серебро.
9. Композиция по п.2, отличающаяся тем, что указанный металлический компонент используется в качестве проводящего слоя.
10. Композиция по п.1, содержащая:
первую подложку;
металлический компонент, расположенный в контакте с указанной первой подложкой;
поли(винилбутиральный) слой, расположенный в контакте с указанным металлическим компонентом и включающий 1H-бензотриазол или соль 1H-бензотриазола; и
вторую подложку, расположенную в контакте с указанным поли(винилбутиральным) слоем.
первую подложку;
металлический компонент, расположенный в контакте с указанной первой подложкой;
поли(винилбутиральный) слой, расположенный в контакте с указанным металлическим компонентом и включающий 1H-бензотриазол или соль 1H-бензотриазола; и
вторую подложку, расположенную в контакте с указанным поли(винилбутиральным) слоем.
11. Композиция по п.10, отличающаяся тем, что указанный поли(винилбутиральный) лист включает от 0,1 до 0,4 весовых процентов 1H-бензотриазола.
12. Композиция по п.10, отличающаяся тем, что указанный поли(винилбутиральный) лист включает от 1 до 5 весовых процентов 1H-бензотриазола.
13. Композиция по п.10, отличающаяся тем, что указанный поли(винилбутиральный) лист включает от 0,001 до 5 весовых процентов 1H-бензотриазола.
14. Композиция по п.10, отличающаяся тем, что указанный поли(винилбутиральный) лист дополнительно включает фенольный антиоксидант.
15. Способ получения композиции по п.1, включающий:
создание основы подложки;
формование фотоэлектрического устройства на указанной основе, содержащего металлический компонент;
размещение поли(винилбутирального) слоя в контакте с указанным фотоэлектрическим устройством, при этом указанный поли(винилбутиральный) слой включает 1H-бензотриазол или соль 1H-бензотриазола;
размещение защитной подложки в контакте с указанным поли(винилбутиральным) слоем; и
ламинирование указанной основы подложки, указанного фотоэлектрического устройства, указанного поли(винилбутирального) слоя и указанной защитной подложки для получения указанного модуля.
создание основы подложки;
формование фотоэлектрического устройства на указанной основе, содержащего металлический компонент;
размещение поли(винилбутирального) слоя в контакте с указанным фотоэлектрическим устройством, при этом указанный поли(винилбутиральный) слой включает 1H-бензотриазол или соль 1H-бензотриазола;
размещение защитной подложки в контакте с указанным поли(винилбутиральным) слоем; и
ламинирование указанной основы подложки, указанного фотоэлектрического устройства, указанного поли(винилбутирального) слоя и указанной защитной подложки для получения указанного модуля.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/US2010/027976 WO2011115628A1 (en) | 2010-03-19 | 2010-03-19 | Photovoltaic module with stabilized polymer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2012144439A RU2012144439A (ru) | 2014-04-27 |
RU2528397C2 true RU2528397C2 (ru) | 2014-09-20 |
Family
ID=42470691
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2012144439/04A RU2528397C2 (ru) | 2010-03-19 | 2010-03-19 | Фотоэлектрический модуль со стабилизированным полимером |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP2547516A1 (ru) |
JP (1) | JP2013522904A (ru) |
KR (1) | KR20130010889A (ru) |
CN (1) | CN102811854A (ru) |
AU (1) | AU2010348376A1 (ru) |
BR (1) | BR112012022911A2 (ru) |
CA (1) | CA2791015A1 (ru) |
MX (1) | MX2012010354A (ru) |
RU (1) | RU2528397C2 (ru) |
SG (1) | SG183430A1 (ru) |
WO (1) | WO2011115628A1 (ru) |
ZA (1) | ZA201206288B (ru) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU168774U1 (ru) * | 2016-03-04 | 2017-02-17 | Валентин Петрович Пивнов | Отражающая пленка |
RU2725676C2 (ru) * | 2015-12-23 | 2020-07-03 | Амкор Флексиблес Транспак | Теплоотражающий фотоэлектрический модуль |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8338699B2 (en) | 2009-01-22 | 2012-12-25 | E I Du Pont De Nemours And Company | Poly(vinyl butyral) encapsulant comprising chelating agents for solar cell modules |
WO2016007889A1 (en) * | 2014-07-10 | 2016-01-14 | Georgia Tech Research Corporation | Carbon nanotube compositions |
US9822236B2 (en) * | 2014-08-21 | 2017-11-21 | Solutia Inc. | Polymer interlayers comprising special effect metal pigments |
WO2016032837A1 (en) * | 2014-08-25 | 2016-03-03 | Solutia Inc. | Thin film photovoltaic module with stabilized polymer |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2030025C1 (ru) * | 1989-04-04 | 1995-02-27 | Научно-производственное предприятие "Сатурн" | Фотоэлектрический модуль |
RU94027688A (ru) * | 1993-07-19 | 1996-08-10 | Хехст АГ (DE) | Пластифицированная поливинилбутиральная пленка, способ ее изготовления |
EP1783159A1 (en) * | 2004-06-08 | 2007-05-09 | Bridgestone Corporation | Resin film |
RU2006127042A (ru) * | 2003-12-26 | 2008-02-10 | Секисуй Кемикал Ко., Лтд. (Jp) | Промежуточная пленка для ламинированного стекла и ламинированное стекло |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2282057A (en) | 1939-04-29 | 1942-05-05 | Du Pont | Purification and stabilization of polyvinyl acetal resins |
US2282026A (en) | 1939-04-29 | 1942-05-05 | Du Pont | Treatment of polyvinyl acetal resins |
US3841890A (en) | 1972-12-07 | 1974-10-15 | Monsanto Co | Plasticizer systems for polyvinyl butyral interlayers |
US4064521A (en) | 1975-07-28 | 1977-12-20 | Rca Corporation | Semiconductor device having a body of amorphous silicon |
US4144217A (en) | 1978-01-30 | 1979-03-13 | Monsanto Company | Plasticizer blends for polyvinyl butyral interlayers |
US4874814A (en) | 1985-07-02 | 1989-10-17 | Monsanto Company | Cross-linked polyvinyl butyral |
US4814529A (en) | 1985-07-02 | 1989-03-21 | Cartier George E | Cross-linked polyvinyl butyral |
US4654179A (en) | 1985-07-02 | 1987-03-31 | Monsanto Company | Polyvinyl butyral sheet roughness control |
US4902464A (en) | 1985-07-02 | 1990-02-20 | Monsanto Company | Cross-linked polyvinyl butyral |
US5013779A (en) | 1989-12-08 | 1991-05-07 | Monsanto Company | Plasticized polyvinyl butyral and interlayer thereof |
US5137954A (en) | 1991-09-30 | 1992-08-11 | Monsanto Company | Polyvinyl butyral sheet |
DE4215141C1 (de) * | 1992-05-08 | 1993-12-09 | Hoechst Ag | Polyvinylbutyrale mit verbesserter Thermostabilität und Lichtbeständigkeit |
US5631315A (en) | 1993-07-01 | 1997-05-20 | Monsanto Company | Plasticized polyvinyl butyral sheet containing epoxy resin |
JPH07302926A (ja) * | 1994-04-30 | 1995-11-14 | Canon Inc | 太陽電池モジュール |
US5728472A (en) | 1996-11-14 | 1998-03-17 | Monsanto Company | Control of adhesion of polyvinyl butyral sheet to glass |
AU766727B2 (en) | 1999-06-14 | 2003-10-23 | Kaneka Corporation | Method of fabricating thin-film photovoltaic module |
US6500690B1 (en) | 1999-10-27 | 2002-12-31 | Kaneka Corporation | Method of producing a thin-film photovoltaic device |
JP2001345273A (ja) | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Canon Inc | シリコン系薄膜の形成方法、シリコン系薄膜及び光起電力素子 |
JP4433131B2 (ja) | 2001-03-22 | 2010-03-17 | キヤノン株式会社 | シリコン系薄膜の形成方法 |
US7271333B2 (en) | 2001-07-20 | 2007-09-18 | Ascent Solar Technologies, Inc. | Apparatus and method of production of thin film photovoltaic modules |
US7259321B2 (en) | 2002-01-07 | 2007-08-21 | Bp Corporation North America Inc. | Method of manufacturing thin film photovoltaic modules |
AU2003267186A1 (en) * | 2002-05-08 | 2003-11-11 | Target Technology Company, Llc. | Silver alloy thin film reflector and transparent electrical conductor |
US8716592B2 (en) | 2004-07-12 | 2014-05-06 | Quanex Ig Systems, Inc. | Thin film photovoltaic assembly method |
US7521006B2 (en) * | 2004-09-06 | 2009-04-21 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Diimmonium compound and use thereof |
US7759158B2 (en) | 2005-03-22 | 2010-07-20 | Applied Materials, Inc. | Scalable photovoltaic cell and solar panel manufacturing with improved wiring |
US20070235073A1 (en) | 2006-04-10 | 2007-10-11 | Mario Napolitano | Method of fabricating a thin film photovoltaic cell on a transparent substrate |
US20080128018A1 (en) * | 2006-12-04 | 2008-06-05 | Richard Allen Hayes | Solar cells which include the use of certain poly(vinyl butyral)/film bilayer encapsulant layers with a low blocking tendency and a simplified process to produce thereof |
CN102832281A (zh) * | 2008-04-04 | 2012-12-19 | 纳幕尔杜邦公司 | 包含高熔体流动速率的聚(乙烯醇缩丁醛)包封材料的太阳能电池模块 |
US20100180940A1 (en) * | 2009-01-20 | 2010-07-22 | Weihong Cui | Photovoltaic Module With Stabilized Polymer |
US8330039B2 (en) * | 2009-01-22 | 2012-12-11 | E I Du Pont De Nemours And Company | Solar cell modules with poly(vinyl butyral) encapsulant comprising unsaturated heterocyclic compound |
-
2010
- 2010-03-19 CA CA2791015A patent/CA2791015A1/en not_active Abandoned
- 2010-03-19 CN CN2010800655874A patent/CN102811854A/zh active Pending
- 2010-03-19 RU RU2012144439/04A patent/RU2528397C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2010-03-19 MX MX2012010354A patent/MX2012010354A/es unknown
- 2010-03-19 EP EP10712833A patent/EP2547516A1/en not_active Withdrawn
- 2010-03-19 SG SG2012061925A patent/SG183430A1/en unknown
- 2010-03-19 WO PCT/US2010/027976 patent/WO2011115628A1/en active Application Filing
- 2010-03-19 AU AU2010348376A patent/AU2010348376A1/en not_active Abandoned
- 2010-03-19 KR KR1020127023885A patent/KR20130010889A/ko not_active Application Discontinuation
- 2010-03-19 BR BR112012022911A patent/BR112012022911A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2010-03-19 JP JP2013500034A patent/JP2013522904A/ja active Pending
-
2012
- 2012-08-21 ZA ZA2012/06288A patent/ZA201206288B/en unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2030025C1 (ru) * | 1989-04-04 | 1995-02-27 | Научно-производственное предприятие "Сатурн" | Фотоэлектрический модуль |
RU94027688A (ru) * | 1993-07-19 | 1996-08-10 | Хехст АГ (DE) | Пластифицированная поливинилбутиральная пленка, способ ее изготовления |
RU2006127042A (ru) * | 2003-12-26 | 2008-02-10 | Секисуй Кемикал Ко., Лтд. (Jp) | Промежуточная пленка для ламинированного стекла и ламинированное стекло |
EP1783159A1 (en) * | 2004-06-08 | 2007-05-09 | Bridgestone Corporation | Resin film |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Q.KIM AND A.SHUMKA: "Discoloration of poly(vinil butyral) in cells exposed to real and simulated solar environments", SOLAR CELLS, vol.12, 1984, p.345-352. * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2725676C2 (ru) * | 2015-12-23 | 2020-07-03 | Амкор Флексиблес Транспак | Теплоотражающий фотоэлектрический модуль |
RU168774U1 (ru) * | 2016-03-04 | 2017-02-17 | Валентин Петрович Пивнов | Отражающая пленка |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130010889A (ko) | 2013-01-29 |
SG183430A1 (en) | 2012-09-27 |
CN102811854A (zh) | 2012-12-05 |
JP2013522904A (ja) | 2013-06-13 |
CA2791015A1 (en) | 2011-09-22 |
MX2012010354A (es) | 2012-11-16 |
ZA201206288B (en) | 2013-05-29 |
WO2011115628A1 (en) | 2011-09-22 |
BR112012022911A2 (pt) | 2019-09-24 |
RU2012144439A (ru) | 2014-04-27 |
AU2010348376A1 (en) | 2012-09-27 |
EP2547516A1 (en) | 2013-01-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20140360582A1 (en) | Thin film photovoltaic module with stabilized polymer | |
US20140360574A1 (en) | Thin film photovoltaic module with stabilized polymer | |
RU2528397C2 (ru) | Фотоэлектрический модуль со стабилизированным полимером | |
JP5231686B2 (ja) | 太陽電池用封止材および合わせガラス用中間膜 | |
US20090293952A1 (en) | Thin Film Photovoltaic Module | |
EP0998524B1 (en) | Uv light stabilization additive package for solar cell module and laminated glass applications | |
JP2013511156A (ja) | 還元剤を含んでなるポリマー封入材による太陽電池モジュール | |
JP2012516060A5 (ru) | ||
JP2012516061A5 (ru) | ||
JP2012516061A (ja) | 太陽電池モジュール用のキレート剤を含むポリ(ビニルブチラール)封止材 | |
JP2012516060A (ja) | 太陽電池モジュール用のヒンダードアミン類を含むポリ(ビニルブチラール)封止材 | |
JP6324813B2 (ja) | 太陽電池モジュールおよびその製造方法 | |
WO2016032837A1 (en) | Thin film photovoltaic module with stabilized polymer | |
TWI498213B (zh) | 具有穩定化聚合物之光伏打模組 | |
AU2015261642A1 (en) | Photovoltaic module with stabilized polymer | |
TW201009003A (en) | Photovoltaic modules comprising plasticized intermediate layer films having a high alkali titer | |
US8124868B2 (en) | Thin film photovoltaic module with contoured deairing substrate | |
KR101220224B1 (ko) | 반사율이 우수한 폴리비닐아세탈 필름 및 이의 제조방법 | |
JP2011061057A (ja) | 封止材シート | |
WO2011115629A1 (en) | Thin film photovoltaic module with contoured deairing substrate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20170320 |