RU2501885C2 - Применение мишени для искрового напыления и способ получения подходящей для этого применения мишени - Google Patents

Применение мишени для искрового напыления и способ получения подходящей для этого применения мишени Download PDF

Info

Publication number
RU2501885C2
RU2501885C2 RU2011110043/02A RU2011110043A RU2501885C2 RU 2501885 C2 RU2501885 C2 RU 2501885C2 RU 2011110043/02 A RU2011110043/02 A RU 2011110043/02A RU 2011110043 A RU2011110043 A RU 2011110043A RU 2501885 C2 RU2501885 C2 RU 2501885C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
metal
target
aluminum
oxide
nitride
Prior art date
Application number
RU2011110043/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2011110043A (ru
Inventor
Денис КУРАПОВ
Маркус ЛЕХТХАЛЕР
Original Assignee
Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах filed Critical Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах
Publication of RU2011110043A publication Critical patent/RU2011110043A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2501885C2 publication Critical patent/RU2501885C2/ru

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • C23C14/081Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F3/00Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
    • B22F3/12Both compacting and sintering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641Nitrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325Electric arc evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated

Abstract

Изобретение относится к нанесению покрытий искровым напылением. Мишень для нанесения металлооксидного и/или металлонитридного покрытия включает металлическую матрицу с размещенным в ней неэлектропроводящим оксидом и/или нитридом металла. Металлическая матрица выполнена из того же металла, что и металл в оксиде и/или нитриде металла, и структурирована в виде связной сетки заполненных этим металлом канавок. Промежутки сетки заполнены оксидом и/или нитридом металла. Способ получения мишени включает голографическое структурирование металлической матрицы из алюминия и оксида алюминия с получением металлической матрицы в виде связной сетки заполненных алюминием канавок, промежутки которой заполнены оксидом алюминия. Изобретение обеспечивает нанесение непроводящего слоя с металлическими компонентами на подложку путем искрового напыления. 2 н. и 5 з.п. ф-лы, 2 ил.

Description

Изобретение относится к применению мишени в установке нанесения покрытий для нанесения слоев оксида металла и/или нитрида металла путем искрового напыления и к способу получения металлооксидных покрытий путем искрового напыления. В частности, изобретение относится к работе мишеней, которые содержат по меньшей мере один металлический компонент и по меньшей мере один керамический компонент. Особое значение изобретение имеет для мишеней, которые содержат алюминий как легкоплавкий компонент.
Катодное искровое напыление является открытым уже много лет тому назад способом, который находит применение для покрытия инструментов и деталей и которым осаждают как самые разнообразные металлические слои, так и нитриды, карбиды и карбонитриды металлов. При всех этих применениях мишени являются катодами для искрового разряда, который эксплуатируется при низких напряжениях и высоких токах и посредством которого материал мишени-(катода) испаряется. В качестве самого простого и самого дешевого электропитания для эксплуатации искрового разряда используется питание постоянным напряжением.
Получение оксидов металлов искровым напылением проблематично. Трудно работать с искровым разрядом постоянного тока в кислородной или кислородсодержащей атмосфере, чтобы осадить оксидные слои, например, на инструменты или детали. При этом возникает опасность того, что процесс из-за покрытия мишени изолирующим слоем станет уже неконтролируемым.
Это приводит на мишени к тому, что электропроводящая область, в которой идет искровой разряд, сужается и в конце концов ведет к прекращению искрового разряда.
В US 5518597 описано получение оксидных покрытий, причем осаждение покрытия проводят при повышенных температурах, и при этом способ основан на том, что анод также нагревают (800-1200°C), а реакционноспособный газ подводят к мишени не напрямую. Высокая температура анода поддерживает анод проводящим и делает возможным стабильный режим работы искрового разряда.
Аналогично аноду, работа катода при повышенной температуре ведет по меньшей мере к снижению проблемы отравления мишени. Поэтому желательно, чтобы установка нанесения покрытий могла работать с мишенью при высокой температуре, а именно, предпочтительно при температурах, которые лежат выше температуры плавления использующегося в мишени металла.
Этого можно достичь посредством использования мишени, которая имеет повышенную температуру плавления материала мишени, что приводит к повышенной энтальпии испарения для материала мишени. В уровне техники для получения нитридных покрытий известен метод, при котором используемая мишень содержит как металлический Ti, так и электропроводящий TiN, что приводит к повышению температуры плавления мишени. TiN, который выделяется при испарении, может быть встроен непосредственно в покрытие. Так как в случае TiN речь идет о проводящем материале, искра может беспрепятственно перемещаться по поверхности мишени, и из-за повышенной энтальпии испарения материала мишени разность энтальпии испарения материала мишени и «отравленной» поверхности мишени сводится к минимуму.
Аналогично, для получения покрытий TiAlN известно применение мишени из сплава титана и алюминия, в которую подмешан электропроводящий материал из TiN, чтобы повысить температуру плавления. Если покрытие должно также содержать хромовый компонент, то можно использовать мишень, в которую также подмешан проводящий CrN. Согласно уровню техники подмешанный в металлическую мишень материал должен удовлетворять двум условиям: с одной стороны, этот материал должен проводить электрический ток, а, с другой стороны, этот материал должен быть компонентом создаваемого покрытия. Нитриды металлов групп IVa, Va, VIa Периодической системы являются проводящими, а нитриды других металлов - нет. Это, естественно, существенно ограничивает выбор подходящих для применения в этом методе материалов. Поэтому дальнейшее повышение температуры плавления, какое возможно с рассмотренными материалами, осуществить трудно. Еще более существенно, что, если создаваемое покрытие содержит только изолирующие слои, то согласно уровню техники невозможно работать с повышением температуры плавления.
Но это в конечном счете означает, что до настоящего времени в распоряжении не имелось вышеописанной возможности повышения температуры плавления для алюминиевой (Al) мишени, так как и нитрид алюминия, и оксид алюминия не являются электропроводящими. Таким образом, получение непроводящих покрытий (например, оксидных), которые в качестве металлического компонента содержат только алюминий, по-прежнему трудно осуществить.
Поэтому задача настоящего изобретения состоит в том, чтобы предоставить способ, согласно которому посредством искрового напыления на подложку можно нанести непроводящий слой с металлическими компонентами.
Согласно изобретению применяют мишень, матрица которой состоит из металла, нитрид и/или оксид которого не является электропроводящим, причем мишень имеет повышенную по сравнению с уровнем техники температуру плавления.
Согласно изобретению применяют мишень, в которой непроводящий оксид и/или нитрид металла мишени внедрены в матрицу металла мишени.
При этом непроводящий материал примешан в мишень таким образом, что поверхность мишени, если смотреть на макроскопическом уровне, по-прежнему является электропроводящей. Это обеспечивается тем, что непроводящая составляющая внедрена в матрицу проводящего основного материала. Проводящая матрица находится на поверхности в виде связной сетки, которая при применении по изобретению позволяет искровому разряду перемещаться по мишени.
Согласно одному предпочтительному варианту осуществления применяют мишень, у которой в алюминиевую матрицу мишени внедрены непроводящие частицы оксида алюминия.
Согласно еще одному предпочтительному варианту осуществления частицы оксида алюминия имеют диаметр, который меньше 100 мкм, в частности, меньше 50 мкм. При этом непроводящие компоненты внедрены в мишень, в частности, как настолько мелкие частицы, что на макроскопическом уровне температура плавления мишени и требующаяся энтальпия испарения повышаются. Кроме того, нужно обеспечить, чтобы интервал температур плавления искровым разрядом был ограничен более низкой температурой плавления (например, алюминия). Благодаря этому снижается выброс капелек.
Предпочтительно применяют мишень, у которой содержание оксида алюминия в алюминиевой матрице составляет меньше 70 об.%.
Согласно еще одному предпочтительному варианту осуществления под применяемой мишенью имеется в виду полученная методом порошковой металлургии мишень.
Альтернативно может применяться мишень, состоящая из введенного в алюминий порошка оксида алюминия.
Согласно дополнительному альтернативному варианту осуществления применяют мишень, которая была получена способом голографического структурирования, при котором таким образом структурируют слой оксида алюминия, и возникшие между оксидом алюминия канавки заполняют алюминием.
Кроме того, является предпочтительным, когда применяемая мишень имеет алюминиевую матрицу, в которую внедрены непроводящие частицы нитрида алюминия.
В применяемой мишени имеются предпочтительно зерна нитрида алюминия в основном первого диаметра зерна и зерна алюминия с в основном вторым диаметром зерна, причем первый диаметр зерна больше, чем второй диаметр зерна, в частности, в три раза больше, чем второй диаметр зерна.
Согласно еще одному дополнительному предпочтительному варианту осуществления первый диаметр зерна составляет приблизительно 120 мкм, а второй диаметр зерна составляет приблизительно 40 мкм.
Согласно изобретению предусмотрена также мишень, которая применима для получения металлооксидных покрытий из и/или металлонитридных покрытий путем искрового напыления, причем эта мишень содержит состоящую из металла матрицу, в которую заделаны электронепроводящие оксиды и/или нитриды металла.
Предпочтительно, содержание электронепроводящих оксидов и/или нитридов в матрице составляет ниже 70 об.%.
Согласно еще одному предпочтительному варианту осуществления матрица состоит из алюминия, в котором заделан оксид алюминия или нитрид алюминия.
Далее изобретение подробно поясняется на одном примере осуществления с обращением к чертежам.
Фиг. 1 схематически показывает поверхность применяющейся согласно изобретению мишени с зернами нитрированного алюминия размером примерно 120 мкм, заделанными в среду алюминия из примерно в три раза меньших зерен алюминия, как их «видит» искровой разряд при искровом напылении;
Фиг. 2 показывает фрагмент полученной голографическим методом мишени согласно изобретению с регулярным расположением островков оксида алюминия (заштрихованы), заделанных в алюминий - плоскую сетку (выделено серым).
Далее один вариант осуществления изобретения будет описан сначала на примере алюминиевой мишени. Алюминий является легкоплавким материалом. Если с помощью искрового напыления нужно получить оксид алюминия, то для алюминиевой мишени при типично применяющихся условиях напыления серьезной проблемой является отравление мишени. Как уже говорилось выше, способ повышения температуры плавления согласно уровню техники неприменим, так как оксид алюминия является очень хорошим изолятором.
В способе согласно изобретению частицы оксида алюминия мишени имеют размер приблизительно 50 мкм, но предпочтительно диаметр максимум 50 мкм, или же этот диаметр не должен существенно превышаться, чтобы соответствовать типичному значению диаметра искрового разряда. Из-за более высокой температуры плавления оксид алюминия не растворяется, и эти частицы алюминия заделаны в связную алюминиевую матрицу. Поэтому температура плавления мишени, в частности, при применении для нанесения покрытия, лежит тем выше, чем больше содержание оксида алюминия по сравнению с алюминием. Правда, было установлено, что при слишком низкой концентрации алюминия проводимость поверхности мишени слишком низкая, чтобы можно было работать в условиях стабильного искрового напыления. Поэтому в данном варианте осуществления применяется мишень с содержанием оксида алюминия, которое лежит ниже 70 об.%.
Для получения мишени могут применяться различные способы. Согласно первому варианту осуществления получение может быть реализовано известным способом порошковой металлургии. При этом алюминий измельчают в тонкий порошок, и оксид алюминия измельчают в тонкий порошок.
В соответствии с одним соответствующим изобретению способом получения мишени, который теперь будет описан в связи с фигурой 2, применяется метод голографического структурирования, при котором слой оксида алюминия структурируют в виде регулярной (правильной) решетки. Возникающие в результате этого канавки заполняют затем алюминием. Предпочтительно, оксид алюминия структурируют в двух направлениях x, y, так что появляются регулярные островки оксида алюминия, а сам алюминий как плоская сетка обеспечивает электрическую проводимость в обоих направлениях x, y.
Такие поверхностные структуры удается реализовать на больших площадях с периодом решетки от нескольких десятков нм до нескольких десятков мкм. Предпочтительно, применяют период решетки от 500 нм до 20 мкм, а особенно предпочтительно применяют период решетки в 2 мкм.
Способ, описанный выше в связи с алюминиевой матрицей и заделанным в нее оксидом алюминия, применим к любому электрическому изолятору, при условии, что он заделан в проводящую матрицу. При этом термин "матрица" следует истолковывать в широком смысле, так как матрица должна только обеспечивать возможность отведения электрических зарядов, так чтобы пятно искрового разряда всегда могло беспрепятственно перемещаться по проводящей поверхности.
Если должен быть образован слой с компонентом AlN, то можно таким же образом, как и описанный выше способ, заделать AlN в металлическую матрицу. Кроме того, можно описанные меры по изобретению для повышения температуры плавления комбинировать с мерами, известными из уровня техники. Например, чтобы получить слой TiAlN посредством искрового напыления, может быть применена мишень, в которой в качестве компонентов объединены металлический Ti, металлический Al, проводящее соединение TiN и изолятор AlN.
Однако в этом описании следует пояснить также еще один аспект настоящего изобретения. Специалисту известно, что обогащение зерен металлического алюминия кислородом из-за окисной пленки, которая действует как диффузионный барьер, создает трудности.
Как известно, именно при нитриде алюминия азот может диффундировать в алюминий на глубину несколько сотен (100) нм, т.е. AlN после возникновения на поверхности является достаточно проницаемым, так что дополнительный азот может диффундировать в более глубокие зоны алюминия. Известно, что в случае оксида алюминия это невозможно: уже первый, самый верхний слой оксида алюминия толщиной чаще всего лишь несколько нанометров образует сильный диффузионный барьер для дополнительного кислорода, так что дальнейшее, более глубоко идущее окисление не происходит. Этот факт хотя и способствует тому, что алюминиевое зеркало в оптике является стабильным, в связи с обсуждаемым здесь имеет то негативное последствие, что возникает недостаточно оксида алюминия.
Чтобы избежать описанной выше проблемы в процессе нанесения покрытия, для получения содержащих алюминий покрытий, которые предпочтительно имеют оксидную природу, согласно одному варианту осуществления применяется мишень, которая содержит заделанные в алюминиевую матрицу тонкодисперсные частицы, содержащие нитрид и алюминий. Эти частицы служат для повышения температуры плавления мишени, которое требуется для того, чтобы снизить неконтролируемое локальное расплавление легкоплавкого металлического алюминия, которое ведет к выбросам макрочастиц. Если затем в процессе искрового напыления подается кислород как технологический газ, то, как неожиданно было установлено, в таком случае образуются по существу не содержащие азота слои оксида алюминия. Возможно, AlN диссоциирует, и Al связывается в соединение с доступным кислородом.
В соответствии со способом нанесения покрытия согласно изобретению, необходимая энтальпия испарения мишени лежит выше энтальпии испарения чистого металла, но чуть ниже энтальпии испарения композиционного материала.
В рамках настоящего описания было доказано, что для искрового напыления могут применяться мишени из металлов, чьи нитриды и/или оксиды не являются электропроводящими, причем эти нитриды и/или оксиды могут быть заделаны в матрицу 4 металла в виде мелких непроводящих частиц, и что с содержащей этот композиционный материал мишенью с повышенной температурой плавления может проводиться искровое напыление, причем проблема сужения искрового разряда или нестабильность может быть заметно смягчена, если не предотвращена полностью.

Claims (7)

1. Мишень для нанесения металлооксидного и/или металлонитридного покрытия искровым напылением, включающая металлическую матрицу с размещенным в ней неэлектропроводящим оксидом и/или нитридом металла, отличающаяся тем, что металлическая матрица выполнена из того же металла, что и металл в оксиде и/или нитриде металла, и структурирована в виде связной сетки заполненных этим металлом канавок, промежутки которой заполнены оксидом и/или нитридом металла.
2. Мишень по п.1, отличающаяся тем, что она содержит алюминиевую матрицу, в которую внедрены непроводящие частицы оксида алюминия и/или частицы нитрида алюминия.
3. Мишень по п.2, отличающаяся тем, что частицы оксида алюминия в основном имеют диаметр, который меньше, чем типичный диаметр искрового разряда, и тем самым меньше 100 мкм, предпочтительно меньше 50 мкм.
4. Мишень по любому из пп.2 и 3, отличающаяся тем, что содержание оксида алюминия в алюминиевой матрице составляет менее 70 об.%.
5. Мишень по любому из пп.1-3, отличающаяся тем, что она получена методом порошковой металлургии.
6. Мишень по п.4, отличающаяся тем, что она получена методом порошковой металлургии.
7. Способ получения мишени для нанесения металлооксидного и/или металлонитридного покрытия искровым напылением по любому из пп.2-6, включающий голографическое структурирование металлической матрицы из алюминия и оксида алюминия с получением металлической матрицы в виде связной сетки заполненных алюминием канавок, промежутки которой заполнены оксидом алюминия.
RU2011110043/02A 2008-08-17 2009-08-10 Применение мишени для искрового напыления и способ получения подходящей для этого применения мишени RU2501885C2 (ru)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP08014592 2008-08-17
EP08014592.3 2008-08-17
EP08017715 2008-10-09
EP08017715.7 2008-10-09
PCT/EP2009/005803 WO2010020362A1 (de) 2008-08-17 2009-08-10 Verwendung eines targets für das funkenverdampfen und verfahren zum herstellen eines für diese verwendung geeigneten targets

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2011110043A RU2011110043A (ru) 2012-09-27
RU2501885C2 true RU2501885C2 (ru) 2013-12-20

Family

ID=41328518

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2011110043/02A RU2501885C2 (ru) 2008-08-17 2009-08-10 Применение мишени для искрового напыления и способ получения подходящей для этого применения мишени

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8828499B2 (ru)
EP (1) EP2326742B8 (ru)
JP (1) JP5562336B2 (ru)
KR (1) KR20110047191A (ru)
CN (1) CN102124138A (ru)
RU (1) RU2501885C2 (ru)
WO (1) WO2010020362A1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU178867U1 (ru) * 2016-05-04 2018-04-20 Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственное предприятие "НОК" Вакуумная микроразмерная кристаллизационная ячейка
RU2773044C1 (ru) * 2018-05-23 2022-05-30 Хартметалль-Веркцойгфабрик Пауль Хорн Гмбх Устройство магнетронного распыления

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011084804A (ja) * 2009-09-18 2011-04-28 Kobelco Kaken:Kk 金属酸化物−金属複合スパッタリングターゲット
DE102010042828A1 (de) * 2010-10-22 2012-04-26 Walter Ag Target für Lichtbogenverfahren
DE102010053751A1 (de) * 2010-10-28 2012-05-03 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Molybdänmonoxidschichten und deren Herstellung mittels PVD
DE102013006633A1 (de) * 2013-04-18 2014-10-23 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Funkenverdampfen von metallischen, intermetallischen und keramischen Targetmaterialien um Al-Cr-N Beschichtungen herzustellen
CA2920906A1 (en) * 2013-08-20 2015-02-26 Mds Coating Technologies Corp. Coating containing macroparticles and cathodic arc process of making the coating
CN105986228B (zh) * 2015-02-10 2018-11-06 汕头超声显示器技术有限公司 一种用于制作氧化铝薄膜的溅射靶材及其制作方法
KR20190099394A (ko) * 2016-12-28 2019-08-27 스미토모덴키고교가부시키가이샤 피막

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5518597A (en) * 1995-03-28 1996-05-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Cathodic arc coating apparatus and method
RU2108212C1 (ru) * 1996-02-19 1998-04-10 Юрий Львович Чистяков Способ электроискрового нанесения покрытий
EP1722003A1 (de) * 2005-05-12 2006-11-15 Fette GmbH Legierter Körper als Target für das PVD-Verfahren, Verfahren zur Herstellung des legierten Körpers und PVD-Verfahren mit dem legierten Körper

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1595280A (en) * 1978-05-26 1981-08-12 Hepworth & Grandage Ltd Composite materials and methods for their production
BR8207776A (pt) * 1981-07-01 1983-05-31 Diamond Shamrock Corp Producao eletrolitica de aluminio
US4828008A (en) * 1987-05-13 1989-05-09 Lanxide Technology Company, Lp Metal matrix composites
DE19547305A1 (de) * 1995-12-18 1997-06-19 Univ Sheffield Verfahren zum Beschichten von metallischen Substraten
US20020139662A1 (en) * 2001-02-21 2002-10-03 Lee Brent W. Thin-film deposition of low conductivity targets using cathodic ARC plasma process
JP4846519B2 (ja) * 2006-10-23 2011-12-28 日立ツール株式会社 窒化物含有ターゲット材

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5518597A (en) * 1995-03-28 1996-05-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Cathodic arc coating apparatus and method
RU2108212C1 (ru) * 1996-02-19 1998-04-10 Юрий Львович Чистяков Способ электроискрового нанесения покрытий
EP1722003A1 (de) * 2005-05-12 2006-11-15 Fette GmbH Legierter Körper als Target für das PVD-Verfahren, Verfahren zur Herstellung des legierten Körpers und PVD-Verfahren mit dem legierten Körper

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU178867U1 (ru) * 2016-05-04 2018-04-20 Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственное предприятие "НОК" Вакуумная микроразмерная кристаллизационная ячейка
RU2773044C1 (ru) * 2018-05-23 2022-05-30 Хартметалль-Веркцойгфабрик Пауль Хорн Гмбх Устройство магнетронного распыления

Also Published As

Publication number Publication date
JP5562336B2 (ja) 2014-07-30
KR20110047191A (ko) 2011-05-06
US20110143054A1 (en) 2011-06-16
EP2326742A1 (de) 2011-06-01
WO2010020362A1 (de) 2010-02-25
CN102124138A (zh) 2011-07-13
EP2326742B1 (de) 2018-11-07
RU2011110043A (ru) 2012-09-27
EP2326742B8 (de) 2018-12-26
US8828499B2 (en) 2014-09-09
JP2012500331A (ja) 2012-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2501885C2 (ru) Применение мишени для искрового напыления и способ получения подходящей для этого применения мишени
AU2009240321B2 (en) Method for producing metal oxide layers having a pre-defined structure by way of arc evaporation
US20080217162A1 (en) Method to Deposit a Coating By Sputtering
US9028923B2 (en) Coating and ion beam mixing apparatus and method to enhance the corrosion resistance of the materials at the elevated temperature using the same
US7208195B2 (en) Methods and apparatus for deposition of thin films
Gao et al. A review on recent progress of thermionic cathode
RU2600819C2 (ru) Поршневое кольцо, применение поршневого кольца и способ нанесения защитного покрытия для поршневого кольца
Madhuri Thermal protection coatings of metal oxide powders
TW200935555A (en) Electrostatic chuck and method of forming
JP2004269951A (ja) 耐ハロゲンガス皮膜被覆部材およびその製造方法
JP7114516B2 (ja) セパレータ用金属材料、燃料電池のセパレータ及び燃料電池
Liu et al. Alumina, aluminium nitride and aluminium composite coating on 0.45% C steel by using a plasma source ion implantation and deposition (PSII&D) system
Sarius et al. Ni and Ti diffusion barrier layers between Ti–Si–C and Ti–Si–C–Ag nanocomposite coatings and Cu-based substrates
Fang et al. Nano-porous TiN thin films deposited by reactive sputtering method
US6420826B1 (en) Flat panel display using Ti-Cr-Al-O thin film
US20240011144A1 (en) Doped dlc for tribological applications
Rikov et al. Formation of coatings from the flow of metal plasma of a vacuum-arc discharge
Guan et al. Laser cladding of layered Ti/Nb/Cu cathode with homogeneous arc ablation behaviors
WO2023285639A1 (en) Conductive silicon sputtering targets
JP2022533406A (ja) ムライト材料の表面にコーティングを塗布する方法、コーティングを有するムライト材料およびガスタービンモジュール
JP2022029088A (ja) 燃料電池用セパレーター
RU2218449C1 (ru) Способ электронно-плазменного нанесения металлических покрытий

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20190811