RU2011110043A - Применение мишени для искрового напыления и способ получения подходящей для этого применения мишени - Google Patents
Применение мишени для искрового напыления и способ получения подходящей для этого применения мишени Download PDFInfo
- Publication number
- RU2011110043A RU2011110043A RU2011110043/02A RU2011110043A RU2011110043A RU 2011110043 A RU2011110043 A RU 2011110043A RU 2011110043/02 A RU2011110043/02 A RU 2011110043/02A RU 2011110043 A RU2011110043 A RU 2011110043A RU 2011110043 A RU2011110043 A RU 2011110043A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- target
- aluminum
- metal
- oxide
- nitride
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
- B22F3/12—Both compacting and sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
1. Применение мишени в процессе нанесения покрытия искровым напылением для получения металлооксидных и/или металлонитридных покрытий, причем применяют мишень, в которой непроводящий оксид и/или нитрид металла мишени, внедрен в матрицу этого металла мишени и благодаря этому с мишенью можно работать при температуре, которая выше температуры плавления использованного в мишени металла. ! 2. Применение мишени по п.1, причем мишень содержит алюминиевую матрицу, в которую внедрены непроводящие частицы оксида алюминия и/или частицы нитрида алюминия. ! 3. Применение мишени по п.2, причем частицы оксида алюминия в основном имеют диаметр, который меньше, чем типичный диаметр искрового разряда, и тем самым меньше 100 мкм, предпочтительно меньше 50 мкм. ! 4. Применение мишени по п.2 или 3, причем содержание оксида алюминия в алюминиевой матрице составляет менее 70 об.%. ! 5. Применение мишени по любому из пп.1-3, причем мишень является мишенью, полученной методом порошковой металлургии. ! 6. Применение мишени по п.4, причем мишень является мишенью, полученной методом порошковой металлургии. ! 7. Способ получения мишени, которая подходит для применения по любому из пп.2-6, причем мишень получают способом голографического структурирования, при этом слой оксида алюминия структурируют в виде решетки, и при этом возникшие в решетке канавки заполняют алюминием.
Claims (7)
1. Применение мишени в процессе нанесения покрытия искровым напылением для получения металлооксидных и/или металлонитридных покрытий, причем применяют мишень, в которой непроводящий оксид и/или нитрид металла мишени, внедрен в матрицу этого металла мишени и благодаря этому с мишенью можно работать при температуре, которая выше температуры плавления использованного в мишени металла.
2. Применение мишени по п.1, причем мишень содержит алюминиевую матрицу, в которую внедрены непроводящие частицы оксида алюминия и/или частицы нитрида алюминия.
3. Применение мишени по п.2, причем частицы оксида алюминия в основном имеют диаметр, который меньше, чем типичный диаметр искрового разряда, и тем самым меньше 100 мкм, предпочтительно меньше 50 мкм.
4. Применение мишени по п.2 или 3, причем содержание оксида алюминия в алюминиевой матрице составляет менее 70 об.%.
5. Применение мишени по любому из пп.1-3, причем мишень является мишенью, полученной методом порошковой металлургии.
6. Применение мишени по п.4, причем мишень является мишенью, полученной методом порошковой металлургии.
7. Способ получения мишени, которая подходит для применения по любому из пп.2-6, причем мишень получают способом голографического структурирования, при этом слой оксида алюминия структурируют в виде решетки, и при этом возникшие в решетке канавки заполняют алюминием.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP08014592 | 2008-08-17 | ||
| EP08014592.3 | 2008-08-17 | ||
| EP08017715.7 | 2008-10-09 | ||
| EP08017715 | 2008-10-09 | ||
| PCT/EP2009/005803 WO2010020362A1 (de) | 2008-08-17 | 2009-08-10 | Verwendung eines targets für das funkenverdampfen und verfahren zum herstellen eines für diese verwendung geeigneten targets |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2011110043A true RU2011110043A (ru) | 2012-09-27 |
| RU2501885C2 RU2501885C2 (ru) | 2013-12-20 |
Family
ID=41328518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2011110043/02A RU2501885C2 (ru) | 2008-08-17 | 2009-08-10 | Применение мишени для искрового напыления и способ получения подходящей для этого применения мишени |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8828499B2 (ru) |
| EP (1) | EP2326742B8 (ru) |
| JP (1) | JP5562336B2 (ru) |
| KR (1) | KR20110047191A (ru) |
| CN (1) | CN102124138A (ru) |
| RU (1) | RU2501885C2 (ru) |
| WO (1) | WO2010020362A1 (ru) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011084804A (ja) * | 2009-09-18 | 2011-04-28 | Kobelco Kaken:Kk | 金属酸化物−金属複合スパッタリングターゲット |
| DE102010042828A1 (de) * | 2010-10-22 | 2012-04-26 | Walter Ag | Target für Lichtbogenverfahren |
| DE102010053751A1 (de) * | 2010-10-28 | 2012-05-03 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Molybdänmonoxidschichten und deren Herstellung mittels PVD |
| DE102013006633A1 (de) * | 2013-04-18 | 2014-10-23 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Funkenverdampfen von metallischen, intermetallischen und keramischen Targetmaterialien um Al-Cr-N Beschichtungen herzustellen |
| EP3036353B1 (en) | 2013-08-20 | 2022-01-26 | MDS Coating Technologies Corp. | Coating containing macroparticles and cathodic arc process of making the coating |
| CN105986228B (zh) * | 2015-02-10 | 2018-11-06 | 汕头超声显示器技术有限公司 | 一种用于制作氧化铝薄膜的溅射靶材及其制作方法 |
| RU178867U1 (ru) * | 2016-05-04 | 2018-04-20 | Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственное предприятие "НОК" | Вакуумная микроразмерная кристаллизационная ячейка |
| WO2018123042A1 (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | 住友電気工業株式会社 | 被膜 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1595280A (en) * | 1978-05-26 | 1981-08-12 | Hepworth & Grandage Ltd | Composite materials and methods for their production |
| JPS58501079A (ja) * | 1981-07-01 | 1983-07-07 | モルテック・アンヴァン・ソシエテ・アノニム | アルミニウムの電解製造 |
| US4828008A (en) * | 1987-05-13 | 1989-05-09 | Lanxide Technology Company, Lp | Metal matrix composites |
| US5518597A (en) * | 1995-03-28 | 1996-05-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Cathodic arc coating apparatus and method |
| DE19547305A1 (de) * | 1995-12-18 | 1997-06-19 | Univ Sheffield | Verfahren zum Beschichten von metallischen Substraten |
| RU2108212C1 (ru) * | 1996-02-19 | 1998-04-10 | Юрий Львович Чистяков | Способ электроискрового нанесения покрытий |
| US20020139662A1 (en) * | 2001-02-21 | 2002-10-03 | Lee Brent W. | Thin-film deposition of low conductivity targets using cathodic ARC plasma process |
| DE102005021927A1 (de) * | 2005-05-12 | 2006-11-16 | Fette Gmbh | Legierter Körper als Target für das PVD-Verfahren, Verfahren zur Herstellung des legierten Körpers und PVD-Verfahren mit dem legierten Körper |
| JP4846519B2 (ja) * | 2006-10-23 | 2011-12-28 | 日立ツール株式会社 | 窒化物含有ターゲット材 |
-
2009
- 2009-08-10 WO PCT/EP2009/005803 patent/WO2010020362A1/de active Application Filing
- 2009-08-10 US US13/059,257 patent/US8828499B2/en active Active
- 2009-08-10 JP JP2011522423A patent/JP5562336B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-08-10 EP EP09777791.6A patent/EP2326742B8/de not_active Not-in-force
- 2009-08-10 KR KR1020117002931A patent/KR20110047191A/ko not_active Application Discontinuation
- 2009-08-10 RU RU2011110043/02A patent/RU2501885C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2009-08-10 CN CN2009801320288A patent/CN102124138A/zh active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2326742A1 (de) | 2011-06-01 |
| JP5562336B2 (ja) | 2014-07-30 |
| US8828499B2 (en) | 2014-09-09 |
| CN102124138A (zh) | 2011-07-13 |
| RU2501885C2 (ru) | 2013-12-20 |
| EP2326742B8 (de) | 2018-12-26 |
| EP2326742B1 (de) | 2018-11-07 |
| WO2010020362A1 (de) | 2010-02-25 |
| KR20110047191A (ko) | 2011-05-06 |
| US20110143054A1 (en) | 2011-06-16 |
| JP2012500331A (ja) | 2012-01-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2011110043A (ru) | Применение мишени для искрового напыления и способ получения подходящей для этого применения мишени | |
| WO2011038406A3 (en) | Highly electrically conductive surfaces for electrochemical applications and methods to produce same | |
| WO2014009927A3 (en) | Composition for forming a seed layer | |
| SG170059A1 (en) | Process for the repair and restoration of dynamically stressed components comprising aluminium alloys for aircraft applications | |
| CL2009002064A1 (es) | Procedimiento para recubrir sin corrientes superficies metalicas con particulas presentes en una composicion acuosa que se mantienen por fuerzas electrostaticas, donde la superficie a recubrir se activa formandose una capa de activacion con carga contraria a las cargas de las particulas de la composicion que se aplicará a continuacion, obteniendose un espesor de capa de 400 nm a 1 µm. | |
| WO2015012910A3 (en) | Coatings, coating compositions, and methods for delaying ice formation | |
| EA201690433A1 (ru) | Способ получения подложки, снабженной покрытием, содержащим несплошной тонкий металлический слой | |
| EP2727658A3 (en) | A method of coating a surface with a water and oil repellant polymer layer | |
| BRPI0907264A2 (pt) | método para a produção de camadas, especificamente de camadas estáveis em altas temperaturas, alvo de liga consistindo de aluminío e de um componente metálico ou semimetálico e camada em estrutura coríndon contendo essencialmente óxido de alumínio. | |
| RU2010152447A (ru) | Способ формирования металлического покрытия и элемент конструкции летательного аппарата | |
| IN2014DN05820A (ru) | ||
| ATE477061T1 (de) | Ultrahydrophobische oberflächen und herstellungsverfahren dafür | |
| JP2017520684A5 (ru) | ||
| CN102534467A (zh) | 一种铝合金表面制备高硅涂层的方法 | |
| TW200712226A (en) | Method of improving surface properties of the metal and metal with coating layer prepared by the same | |
| AR067094A1 (es) | Composicion de recubrimiento que exhibe propiedades de resistencia a la corrosion, sustrato y metodo para producir la composicion. | |
| Koshuro et al. | Composition and structure of coatings formed on a VT16 titanium alloy by electro-plasma spraying combined with microarc oxidation | |
| JP2022191217A (ja) | 表面を予め活性化しないシリンダボアのコーティング | |
| JP2010229484A (ja) | 鋳鉄管の表面処理方法 | |
| CN104087154B (zh) | 一种铜基二硫化钼纳米复合涂料及其制备方法与涂覆工艺 | |
| WO2013079803A3 (en) | Cooling element and method for manufacturing a cooling element | |
| RU2013132038A (ru) | Способ получения многослойного градиентного покрытия методом магнетронного напыления | |
| CN104354366A (zh) | 一种耐磨金属涂层 | |
| CN108047931A (zh) | 一种密封处理剂 | |
| RU2009106353A (ru) | Способ формирования композитивных твердосмазочных покрытий на рабочих поверхностях узлов трения |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20190811 |