RU2410474C2 - Electrolyte for deposition of bismuth-gallium alloy - Google Patents

Electrolyte for deposition of bismuth-gallium alloy Download PDF

Info

Publication number
RU2410474C2
RU2410474C2 RU2009100299/02A RU2009100299A RU2410474C2 RU 2410474 C2 RU2410474 C2 RU 2410474C2 RU 2009100299/02 A RU2009100299/02 A RU 2009100299/02A RU 2009100299 A RU2009100299 A RU 2009100299A RU 2410474 C2 RU2410474 C2 RU 2410474C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
bismuth
electrolyte
gallium
chloride
deposition
Prior art date
Application number
RU2009100299/02A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2009100299A (en
Inventor
Татьяна Григорьевна Шиблева (RU)
Татьяна Григорьевна Шиблева
Виктор Владимирович Поветкин (RU)
Виктор Владимирович Поветкин
Олег Валерьевич Андреев (RU)
Олег Валерьевич Андреев
Original Assignee
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тюменский государственный университет"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тюменский государственный университет" filed Critical Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Тюменский государственный университет"
Priority to RU2009100299/02A priority Critical patent/RU2410474C2/en
Publication of RU2009100299A publication Critical patent/RU2009100299A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2410474C2 publication Critical patent/RU2410474C2/en

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

FIELD: metallurgy.
SUBSTANCE: invention relates to electroplating, in particular, to electrolytic deposition of bismuth-gallium alloy. Proposed electrolyte comprises, in g/l: bismuth chloride - 30-40, gallium chloride - 1-5, ammonium chloride - 20-30, trilon B 35-45, equaliser A 1.5-2.5.
EFFECT: uniform and smooth coats with high micro hardness and corrosion resistance.
1 tbl, 3 ex

Description

Изобретение относится к области гальваностегии, в частности, к электролитическому осаждению сплава висмут-галлий.The invention relates to the field of electroplating, in particular, to electrolytic deposition of a bismuth-gallium alloy.

Известен электролит для осаждения сплава висмут-галлий, содержащий соли висмута и галлия, винную кислоту, хлористый аммоний и желатину [1]. Однако из указанного электролита осаждаются рыхлые, тонкие покрытия с невысокой микротвердостью (30-35 МПа) и низкой коррозионной стойкостью (2,5-2,9 г/м2·ч) в 0,1 н. растворе серной кислоты.Known electrolyte for the deposition of a bismuth-gallium alloy containing bismuth and gallium salts, tartaric acid, ammonium chloride and gelatin [1]. However, loose, thin coatings with low microhardness (30-35 MPa) and low corrosion resistance (2.5-2.9 g / m 2 · h) of 0.1 N are deposited from the indicated electrolyte. sulfuric acid solution.

Задачей заявленного изобретения является повышение микротвердости и коррозионной стойкости получаемых покрытий.The objective of the claimed invention is to increase the microhardness and corrosion resistance of the resulting coatings.

Предлагаемый электролит отличается от известного тем, что кроме хлористых солей висмута, галлия и аммония, содержит трилон Б (динатриевая соль этилендиаминтетрауксусной кислоты), а в качестве добавки ПАВ - выравниватель А (бензолсульфатметилдиэтиламинометил полигликолевого эфира алкилфенола) при следующем соотношении компонентов, г/л:The proposed electrolyte differs from the known one in that, in addition to the chloride salts of bismuth, gallium and ammonium, it contains Trilon B (disodium salt of ethylenediaminetetraacetic acid), and as an additive to surfactants, it is equalizer A (benzenesulfatemethyldiethylaminomethyl polyglycol ether of alkylphenol) in the following ratio of components, g / l

- хлористый висмут - 30-40;- bismuth chloride - 30-40;

- хлористый галлий - 1-5- gallium chloride - 1-5

- хлористый аммоний - 20-30;- ammonium chloride - 20-30;

- трилон Б - 35-45- Trilon B - 35-45

- выравниватель А - 1,5-2,5.- equalizer A - 1.5-2.5.

Трилон Б связывает ионы висмута и галлия в очень прочные трилонатные комплексы (lgβBi-ЭДТА=27,9 и lgβGa-ЭДТА=20,27), что препятствует гидролизу солей и улучшает стабильность электролита.Trilon B binds bismuth and gallium ions into very strong trilonate complexes (logβ Bi-EDTA = 27.9 and logβ Ga-EDTA = 20.27), which prevents the hydrolysis of salts and improves the stability of the electrolyte.

Поверхностно-активное вещество - выравниватель А, адсорбируясь на катоде, ингибирует процесс восстановления ионов металлов, одновременно улучшая смачиваемость осадков.Surfactant - equalizer A, adsorbed on the cathode, inhibits the recovery of metal ions, while improving the wettability of precipitation.

Электролит готовят растворением в отдельных порциях воды соли висмута, соли галлия и трилона Б. Часть раствора трилона Б добавляют при перемешивании в раствор соли висмута, а вторую половину комплексона - в раствор соли галлия. Смеси растворов оставляют на 10-15 минут для полного комплексообразования, а затем медленно (при интенсивном перемешивании) к раствору комплексоната висмута добавляют раствор комплексоната галлия. К полученной смеси добавляют хлористый аммоний и выравниватель А и доводят объем электролита до рабочего водой.The electrolyte is prepared by dissolving bismuth salt, gallium salt and trilon B in separate portions of water. A portion of the trilon B solution is added with stirring to the bismuth salt solution, and the second half of the complexon is added to the gallium salt solution. The mixture of solutions is left for 10-15 minutes for complete complexation, and then slowly (with vigorous stirring), a solution of gallium complexonate is added to the bismuth complexonate solution. Ammonium chloride and equalizer A are added to the resulting mixture and the electrolyte volume is adjusted to working water.

Электроосаждение покрытий ведут при катодной плотности тока 1-3 А/дм2, при температуре 20-25°C, рН 1,5-2,5, при перемешивании с использованием висмутового анода.The electrodeposition of the coatings is carried out at a cathodic current density of 1-3 A / dm 2 , at a temperature of 20-25 ° C, pH 1.5-2.5, with stirring using a bismuth anode.

Конкретные примеры использования электролита и некоторые свойства получаемых покрытий представлены в таблице 1.Specific examples of the use of electrolyte and some properties of the resulting coatings are presented in table 1.

Таблица 1Table 1 Составы электролита и свойства получаемых покрытийThe electrolyte compositions and properties of the resulting coatings Компоненты электролита (г/л) и результаты исследованийElectrolyte components (g / l) and research results Состав по примерамThe composition of the examples 1one 22 33 Хлористый висмутBismuth chloride 30thirty 3535 4040 Хлористый галлийGallium chloride 1one 33 55 Хлористый аммонийAmmonium chloride 20twenty 2525 30thirty Трилон БTrilon B 3535 4040 4545 Выравниватель АLeveler A 1,51,5 2,02.0 2,52.5 Плотность тока, А/дм2 The current density, A / DM 2 1one 22 33 Температура, °CTemperature ° C 20,020,0 22,522.5 25,025.0 Перемешивание, об/мин.Mixing, rpm 6060 6060 6060 рНpH 1,51,5 2,02.0 2,52.5 Выход по току, %Current output,% 9898 9797 9595 Содержание галлия в сплаве, %The gallium content in the alloy,% 0,60.6 1,11,1 2,12.1 Микротвердость, МПаMicrohardness, MPa 4141 4545 4848 Скорость коррозии, г/(м2·ч)The corrosion rate, g / (m 2 · h) 2,02.0 1,81.8 1,61,6 Внешний вид покрытийAppearance of coatings Серые, матовыеGray matte Светло-серые, полублестящиеLight gray, semi-shiny Светлые, гладкие, блестящиеLight, smooth, shiny

Скорость коррозии покрытий, полученных из предлагаемого электролита, в 1,2-1,7 раза меньше, чем покрытий из известного электролита. Кроме того, использование предлагаемого электролита на 15-20% упрочняет получаемые покрытия по сравнению с покрытиями, осаждаемыми из известного раствора.The corrosion rate of coatings obtained from the proposed electrolyte is 1.2-1.7 times less than coatings from a known electrolyte. In addition, the use of the proposed electrolyte by 15-20% strengthens the resulting coatings compared with coatings deposited from a known solution.

Использование предлагаемого электролита позволяет осаждать светлые, блестящие, беспористые покрытия при более высоких плотностях тока. Осадки имеют хорошее сцепление с медной основой и не отслаиваются от основы после нагрева при 250°С в течение одного часа и последующего резкого охлаждения.Using the proposed electrolyte allows you to precipitate light, shiny, non-porous coatings at higher current densities. Precipitation has good adhesion to the copper base and does not exfoliate from the base after heating at 250 ° C for one hour and subsequent sudden cooling.

Источники информацииInformation sources

1. БОНДАРЬ В.В. и др. Итоги науки и техники. Электрохимия, т.16. - М.: ВИНИТИ, 1980, с.49.1. Cooper V.V. and others. Results of science and technology. Electrochemistry, v.16. - M.: VINITI, 1980, p. 49.

Claims (1)

Электролит для осаждения сплава висмут-галлий, содержащий хлористые соли висмута, галлия, аммония, комплексообразователь и добавку поверхностно-активного вещества (ПАВ), отличающийся тем, что в качестве комплексообразователя содержит трилон Б, а в качестве ПАВ - выравниватель А при следующем соотношении компонентов, г/л:
хлористый висмут 30-40 хлористый галлий 1-5 хлористый аммоний 20-30 трилон Б 35-45 выравниватель А 1,5-2,5
An electrolyte for the deposition of a bismuth-gallium alloy containing bismuth, gallium, ammonium chloride salts, a complexing agent and a surfactant additive, characterized in that it contains trilon B as a complexing agent and equalizer A as a surfactant in the following ratio of components g / l:
bismuth chloride 30-40 gallium chloride 1-5 ammonium chloride 20-30 Trilon B 35-45 equalizer A 1.5-2.5
RU2009100299/02A 2009-01-11 2009-01-11 Electrolyte for deposition of bismuth-gallium alloy RU2410474C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2009100299/02A RU2410474C2 (en) 2009-01-11 2009-01-11 Electrolyte for deposition of bismuth-gallium alloy

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2009100299/02A RU2410474C2 (en) 2009-01-11 2009-01-11 Electrolyte for deposition of bismuth-gallium alloy

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2009100299A RU2009100299A (en) 2010-07-20
RU2410474C2 true RU2410474C2 (en) 2011-01-27

Family

ID=42685438

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2009100299/02A RU2410474C2 (en) 2009-01-11 2009-01-11 Electrolyte for deposition of bismuth-gallium alloy

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2410474C2 (en)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
БОНДАРЬ В.В. и др. Итоги науки и техники. Электрохимия, т.16. - М. - ВИНИТИ, 1980, с.49. *

Also Published As

Publication number Publication date
RU2009100299A (en) 2010-07-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101502804B1 (en) Pd and Pd-Ni electrolyte baths
CN103757672B (en) A kind of Zinc-tin alloy electro-plating method
JP6370380B2 (en) Electrolyte for electrodeposition of silver-palladium alloy and deposition method thereof
CN113463148A (en) Method for electroplating gold on surface of titanium or titanium alloy substrate
RU2410474C2 (en) Electrolyte for deposition of bismuth-gallium alloy
CN110785516A (en) Nickel electroplating bath for depositing decorative nickel coatings on substrates
RU2386731C1 (en) Electrolyte for deposition of silver-indium alloy
RU2487967C1 (en) Oxalate electrolyte for depositing copper-tin alloy
FR2519656A1 (en) PROCESS FOR THE ELECTROLYTIC COATING OF TRIVALENT CHROMIUM WITHOUT HEXAVALENT CHROMIUM ION FORMATION, USING A FERRITE ANODE
RU2343233C1 (en) Electrolyte for deposition of alloy lead-indium
RU2392358C1 (en) Electrolyte for precipitating copper-silver alloy
RU2346088C1 (en) Electrolyte for indium deposition
RU2334833C1 (en) Electrolyte for sedimentation of coatings out of cadmium-cobalt alloy
JP5299994B2 (en) Copper-zinc alloy electroplating bath and steel cord wire with copper-zinc alloy plating
RU2291230C1 (en) Lead plating electrolyte
RU2457287C1 (en) Electrolyte for deposition of nickel-bismuth alloy
US3772170A (en) Electrodeposition of chromium
RU2256010C1 (en) Aqueous electrolyte for depositing iron-manganese alloy
RU2459017C1 (en) Electrolyte for depositing silver-rhenium alloy
WO2010101212A1 (en) Copper-zinc alloy electroplating bath and method of plating using same
RU2101395C1 (en) Electrolyte for depositing copper-cobalt alloy
RU2457289C1 (en) Electrolyte for deposition of copper-germanium alloy
RU2333297C1 (en) Electrolyte for precipitating nickel-cobalt alloy
JP2013189715A (en) Pd ELECTROLYTE BATH AND Pd-Ni ELECTROLYTE BATH
JP2009127097A (en) Copper-zinc alloy electroplating bath, and plating method using the same

Legal Events

Date Code Title Description
PD4A Correction of name of patent owner
QB4A Licence on use of patent

Free format text: LICENCE

Effective date: 20170306

MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20190112