RU2346088C1 - Electrolyte for indium deposition - Google Patents

Electrolyte for indium deposition Download PDF

Info

Publication number
RU2346088C1
RU2346088C1 RU2007114725/02A RU2007114725A RU2346088C1 RU 2346088 C1 RU2346088 C1 RU 2346088C1 RU 2007114725/02 A RU2007114725/02 A RU 2007114725/02A RU 2007114725 A RU2007114725 A RU 2007114725A RU 2346088 C1 RU2346088 C1 RU 2346088C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
indium
electrolyte
coatings
trilon
thiourea
Prior art date
Application number
RU2007114725/02A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2007114725A (en
Inventor
Виктор Васильевич Поветкин (RU)
Виктор Васильевич Поветкин
Тать на Григорьевна Шиблева (RU)
Татьяна Григорьевна Шиблева
Наталь Александровна Кислицина (RU)
Наталья Александровна Кислицина
Original Assignee
Гоу Впо "Тюменский Государственный Университет"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Гоу Впо "Тюменский Государственный Университет" filed Critical Гоу Впо "Тюменский Государственный Университет"
Priority to RU2007114725/02A priority Critical patent/RU2346088C1/en
Publication of RU2007114725A publication Critical patent/RU2007114725A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2346088C1 publication Critical patent/RU2346088C1/en

Links

Abstract

FIELD: metallurgy, electrolysis.
SUBSTANCE: invention concerns field of galvanostegy and can be used at plating made of indium. Electrolyte contains, g/l: sulfuric indium 20-40, acetous ammonium 30-40, trilon B 40-50, sodium dodecyl sulfate 0.1-0.3, thiourea 0.3-0.5.
EFFECT: hardening and increasing of corrosion stability of coatings.
1 tbl

Description

Изобретение относится к области гальваностегии, в частности, к электролитическому осаждению индия.The invention relates to the field of electroplating, in particular, to electrolytic deposition of indium.

Известен электролит для осаждения индия, содержащий сернокислый индий и аммоний, трилон Б (этилендиаминтетрауксусная кислота) [1]. Однако из указанного электролита осаждаются шероховатые матовые темно-серые покрытия с крупнокристаллической структурой микротвердостью до 120 МПа и скоростью коррозии в 0,1 н. растворе серной кислоты 0,30-0,36 г/(м2·ч).Known electrolyte for precipitation of indium containing indium sulfate and ammonium, Trilon B (ethylenediaminetetraacetic acid) [1]. However, rough matte dark gray coatings with a coarse-grained structure with a microhardness of up to 120 MPa and a corrosion rate of 0.1 N are deposited from the indicated electrolyte. a solution of sulfuric acid 0.30-0.36 g / (m 2 · h).

Задачей изобретения является разработка электролита индирования для получения покрытий с повышенными значениями твердости и коррозионной стойкости.The objective of the invention is the development of an index electrolyte for coatings with increased values of hardness and corrosion resistance.

Предлагаемый электролит отличается от известного тем, что кроме солей индия, аммония и трилона Б он дополнительно содержит поверхностно-активные добавки - додецилсульфат натрия и тиомочевину, в качестве соли аммония он содержит уксуснокислый аммоний при следующем соотношении компонентов, г/л:The proposed electrolyte differs from the known one in that, in addition to indium, ammonium and trilon B salts, it additionally contains surface-active additives — sodium dodecyl sulfate and thiourea, as it contains ammonium acetate in the following ratio, g / l:

- сернокислый индий 20-40;- indium sulphate 20-40;

- трилон Б 40-50;- Trilon B 40-50;

- уксуснокислый аммоний 30-40;- ammonium acetate 30-40;

- додецилсульфат натрия 0,1-0,3;- sodium dodecyl sulfate 0.1-0.3;

- тиомочевина 0,3-0,5.- thiourea 0.3-0.5.

Введение уксуснокислого аммония вместо сернокислого улучшает стабильность электролита, увеличивая его электропроводность и буферные свойства. Поверхностно-активное вещество - додецилсульфат натрия, адсорбируясь на катоде, ингибирует процесс восстановления ионов металла, одновременно улучшая смачиваемость осадков, что приводит к повышению равномерности распределения металла на поверхности катода и улучшению качества покрытий. Добавление в электролит тиомочевины повышает поляризацию катода, измельчает структуру осадков и снижает их пористость.The introduction of ammonium acetate instead of sulfate improves the stability of the electrolyte, increasing its conductivity and buffering properties. A surfactant, sodium dodecyl sulfate, adsorbed on the cathode inhibits the recovery of metal ions, while improving the wettability of the precipitates, which leads to an increase in the uniformity of the distribution of metal on the surface of the cathode and to improve the quality of the coatings. The addition of thiourea to the electrolyte increases the polarization of the cathode, grinds the structure of sediments and reduces their porosity.

Электролит готовят растворением в отдельных порциях воды соли индия и трилона Б. Раствор трилона Б вводят при перемешивании в полученный раствор соли металла, оставляют на 10-15 минут до полного образования комплексов. К полученной смеси добавляют уксуснокислый аммоний, додецилсульфат натрия и тиомочевину, а затем объем электролита доводят до рабочего дистиллированной водой.The electrolyte is prepared by dissolving the indium salt and trilon B in separate portions of water. The trilon B solution is introduced with stirring into the resulting metal salt solution, left for 10-15 minutes until complete formation of the complexes. Ammonium acetate, sodium dodecyl sulfate and thiourea are added to the resulting mixture, and then the volume of the electrolyte is adjusted to the working medium with distilled water.

Электроосаждение покрытий (толщина) ведут при катодной плотности тока 1-3 А/дм2, температуре 20-25°С, рН 8-10 с использованием свинцового анода.The electrodeposition of coatings (thickness) is carried out at a cathodic current density of 1-3 A / dm 2 , a temperature of 20-25 ° C, pH 8-10 using a lead anode.

Конкретные примеры использования электролита и некоторые свойства получаемых покрытий представлены в таблице 1.Specific examples of the use of electrolyte and some properties of the resulting coatings are presented in table 1.

За счет введения поверхностно-активных добавок в электролит резко улучшается качество покрытий: они становятся светлыми, мелкокристаллическими, плотными и блестящими. Микротвердость покрытий, полученных из предлагаемого электролита, на 25-35% выше, чем покрытий, осажденных из известного электролита. Скорость коррозии на 15-20% меньше, чем у покрытий, осажденных из известного электролита.Due to the introduction of surface-active additives in the electrolyte, the quality of the coatings sharply improves: they become light, fine-crystalline, dense and shiny. The microhardness of coatings obtained from the proposed electrolyte is 25-35% higher than coatings deposited from a known electrolyte. The corrosion rate is 15-20% less than that of coatings deposited from a known electrolyte.

Использование предлагаемого электролита позволяет получать светлые, блестящие, прочно сцепленные со стальной основой покрытия, которые выдерживают изгиб под углом 45° без излома и не отслаиваются от основы после нагрева до 250°С в течение 1 часа и последующего резкого охлаждения.Using the proposed electrolyte allows you to get bright, shiny, firmly adhered to the steel base coatings that withstand bending at an angle of 45 ° without kink and do not exfoliate from the base after heating to 250 ° C for 1 hour and subsequent sudden cooling.

ЛИТЕРАТУРАLITERATURE

1. Ажогин Ф.Ф., Беленький М.А. и др. Гальванотехника. Справочное издание. - М.: Металлургия, 1987. 736 с.1. Azhogin F.F., Belenky M.A. and others. Electroplating. Reference Edition. - M.: Metallurgy, 1987.736 p.

Компоненты электролита и их составElectrolyte components and their composition Компоненты электролита (г/л) и результаты исследованийElectrolyte components (g / l) and research results Состав по примерамThe composition of the examples 1one 22 33 Сернокислый индийSulphate Indium 20twenty 30thirty 4040 Трилон БTrilon B 4040 4545 50fifty Уксуснокислый аммонийAmmonium Acetate 30thirty 3535 4040 Додецилсульфат натрияSodium dodecyl sulfate 0,10.1 0,20.2 0,30.3 ТиомочевинаThiourea 0,30.3 0,40.4 0,50.5 Плотность тока, А/дм2 The current density, A / DM 2 1one 33 55 Температура, °СTemperature ° C 20,020,0 22,522.5 25,025.0 Перемешивание, об/минStirring rpm 6060 6060 6060 рНpH 88 99 1010 Выход по току, %Current output,% 9898 9797 9696 Микротвердость, МПаMicrohardness, MPa 150150 165165 175175 Скорость коррозии, г/(м2·ч)The corrosion rate, g / (m 2 · h) 0,280.28 0,240.24 0,250.25 Внешний вид покрытийAppearance of coatings Светлые, плотныеLight, dense Светлые, блестящиеBright, shiny Светло-серые, полублестящиеLight gray, semi-shiny

Claims (1)

Электролит для осаждения индия, включающий соли индия и аммония, трилон Б и воду, отличающийся тем, что он дополнительно содержит додецилсульфат натрия и тиомочевину, а в качестве солей индия и аммония серно-кислый индий и уксусно-кислый аммоний при следующем соотношении компонентов, г/л:
серно-кислый индий 20-40 уксусно-кислый аммоний 30-40 трилон Б 40-50 додецилсульфат натрия 0,1-0,3 тиомочевина 0,3-0,5
An electrolyte for precipitation of indium, including indium and ammonium salts, trilon B and water, characterized in that it additionally contains sodium dodecyl sulfate and thiourea, and as indium and ammonium salts, sulfuric acid indium and acetic acid ammonium in the following ratio of components, g / l:
sulfuric acid indium 20-40 acetic acid ammonium 30-40 Trilon B 40-50 sodium dodecyl sulfate 0.1-0.3 thiourea 0.3-0.5
RU2007114725/02A 2007-04-18 2007-04-18 Electrolyte for indium deposition RU2346088C1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2007114725/02A RU2346088C1 (en) 2007-04-18 2007-04-18 Electrolyte for indium deposition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2007114725/02A RU2346088C1 (en) 2007-04-18 2007-04-18 Electrolyte for indium deposition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2007114725A RU2007114725A (en) 2008-10-27
RU2346088C1 true RU2346088C1 (en) 2009-02-10

Family

ID=40546732

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2007114725/02A RU2346088C1 (en) 2007-04-18 2007-04-18 Electrolyte for indium deposition

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2346088C1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107630238A (en) * 2016-07-18 2018-01-26 罗门哈斯电子材料有限责任公司 Indium electroplating compositions and the method for indium plating
RU2809766C1 (en) * 2023-03-31 2023-12-18 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования ФГБОУ ВО "Пензенский государственный университет" Method for obtaining electroplated coating with indium

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
АЖОГИН Ф.Ф. Гальванотехника. - М.: Металлургия, 1987, с.301-304. *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107630238A (en) * 2016-07-18 2018-01-26 罗门哈斯电子材料有限责任公司 Indium electroplating compositions and the method for indium plating
RU2809766C1 (en) * 2023-03-31 2023-12-18 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования ФГБОУ ВО "Пензенский государственный университет" Method for obtaining electroplated coating with indium

Also Published As

Publication number Publication date
RU2007114725A (en) 2008-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101838830B (en) Electrolyte of electroplating palladium-nickel alloy
CN104911645A (en) Alkaline cyanide-free zinc plating agent and application method thereof
RU2346088C1 (en) Electrolyte for indium deposition
RU2437967C1 (en) Procedure for sedimentation of composite coating nickel-vanadium-phosphorus-boron nitride
RU2313621C1 (en) Low-concentration electrolyte for applying semi-bright coating of tin-zinc alloy
RU2334833C1 (en) Electrolyte for sedimentation of coatings out of cadmium-cobalt alloy
RU2392358C1 (en) Electrolyte for precipitating copper-silver alloy
RU2378419C1 (en) Electrolyte for sedimentation of alloy zinc-manganese
RU2350696C1 (en) Electrolyte for coating deposition from cadmium and manganese melt
RU2291230C1 (en) Lead plating electrolyte
RU2343233C1 (en) Electrolyte for deposition of alloy lead-indium
RU2459017C1 (en) Electrolyte for depositing silver-rhenium alloy
RU2333297C1 (en) Electrolyte for precipitating nickel-cobalt alloy
RU2459016C1 (en) Electrolyte for depositing zinc-gallium alloy
RU2814771C1 (en) Method of electroplating chromium coatings from electrolyte based on hexahydrate of chromium (iii) sulphate and sodium formate
RU2205901C1 (en) Method of electrodeposition of zinc
RU2334832C1 (en) Electrolyte for sedimentation of coatings out of cadmium-iron alloy
RU2303662C1 (en) Electrolyte for depositing silver-lead alloy
RU2486294C1 (en) Method for electrolytic deposition of iron-aluminium alloy
RU2350697C1 (en) Cadmium-zinc plating deposition electrolyte
RU2333296C1 (en) Electrolyte for precipitating cadmium-chrome alloy coatings
RU2386731C1 (en) Electrolyte for deposition of silver-indium alloy
RU2291917C1 (en) Electrolyte for deposition of bismuth-thallium alloy
RU2291231C1 (en) Electrolyte for depositing iron-vanadium-phosphorus alloy
RU2720269C1 (en) Method of producing corrosion-resistant electrochemical zinc-nickel-cobalt coating

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20090419