RU2384915C1 - Силовой полупроводниковый прибор с полностью прижимными контактами - Google Patents

Силовой полупроводниковый прибор с полностью прижимными контактами Download PDF

Info

Publication number
RU2384915C1
RU2384915C1 RU2008138829/28A RU2008138829A RU2384915C1 RU 2384915 C1 RU2384915 C1 RU 2384915C1 RU 2008138829/28 A RU2008138829/28 A RU 2008138829/28A RU 2008138829 A RU2008138829 A RU 2008138829A RU 2384915 C1 RU2384915 C1 RU 2384915C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
compensators
thermal
insulating ring
semiconductor wafer
flanges
Prior art date
Application number
RU2008138829/28A
Other languages
English (en)
Inventor
Алексей Маратович Сурма (RU)
Алексей Маратович Сурма
Анна Ивановна Приходько (RU)
Анна Ивановна Приходько
Юрий Михайлович Локтаев (RU)
Юрий Михайлович Локтаев
Виталий Николаевич Губарев (RU)
Виталий Николаевич Губарев
Original Assignee
Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский Электротехнический институт им. В.И. Ленина" (ФГУП ВЭИ)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский Электротехнический институт им. В.И. Ленина" (ФГУП ВЭИ) filed Critical Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский Электротехнический институт им. В.И. Ленина" (ФГУП ВЭИ)
Priority to RU2008138829/28A priority Critical patent/RU2384915C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2384915C1 publication Critical patent/RU2384915C1/ru

Links

Landscapes

  • Thyristors (AREA)

Abstract

Изобретение относится к области конструирования полупроводниковых приборов и может быть использовано в производстве силовых диодов, тиристоров, IGBT и других приборов полностью прижимной конструкции с уменьшенными и стабильными значениями падения напряжения во включенном состоянии (Von) и теплового сопротивления (Rth). Техническим результатом изобретения является уменьшение и стабильность значений падения напряжения во включенном состоянии Von и теплового сопротивления прибора Rth путем обеспечения фиксированного положения полупроводниковой пластины относительно верхнего и нижнего термокомпенсаторов. Сущность изобретения: в силовом полупроводниковом приборе с полностью прижимными контактами, содержащем полупроводниковую пластину со слоями n- и р-типа проводимости, расположенную между катодным и анодным термокомпенсаторами с фланцами с диаметром большим, чем диаметр полупроводниковой пластины, размещенными внутри изолирующего кольца, края изолирующего кольца охватывают фланцы термокомпенсаторов, заходя на наружные поверхности катодного и анодного термокомпенсаторов не менее чем на 1 мм, при этом изолирующее кольцо выполнено из упругого материала. 1 ил., 1 табл.

Description

Изобретение относится к области конструирования полупроводниковых приборов и может быть использовано в производстве силовых диодов, тиристоров, IGBT и других приборов полностью прижимной конструкции с уменьшенными и стабильными значениями падения напряжения во включенном состоянии (Von) и теплового сопротивления (Rth).
Известна конструкция силового полупроводникового прибора, содержащая полупроводниковую пластину дискообразной формы, которая расположена между двумя дискообразными термокомпенсаторами, при этом контакт с термокомпенсатором с одной стороны сплавной, с другой стороны - прижимной (Ю.А.Евсеев и П.Г.Дерменжи. Силовые полупроводниковые приборы. - М: Энергоиздат, 1981. - с.80-82, 320 [1]). Коэффициенты линейного температурного расширения материала термокомпенсатора и полупроводника должны быть близки. В случае применения кремния обычно используются молибденовые (Mo) термокомпенсаторы.
В описанной конструкции обеспечивается механическая прочность полупроводниковой пластины, в том числе при термоциклах. Это решение широко применяется в промышленности с 1970-х годов.
Существенными недостатками указанной конструкции являются наличие прогиба сплавленного с полупроводниковой пластиной термокомпенсатора и часто обнаруживаемые не проплавленные области, что приводит и к увеличению Von [В] и
Rth [°C/Вт], и к обломам фаски, т.е. снижению блокирующей способности.
К 1990-м годам повышение качества кремния привело к созданию высоковольтных приборов (до 6 кВ), соответственно, на пластинах с толщиной свыше 0,8 мм. Возросло также и качество механической обработки как полупроводниковых пластин, так и Мо термокомпенсаторов. Это позволило перейти к созданию полностью прижимных конструкций приборов, где кремниевая (Si) пластина свободно помещена и зажимается между двумя термокомпенсаторами (Free Floating Silicon Technology, FFST по терминологии фирмы ABB).
В конструкции силового полупроводникового прибора (заявка ЕР №0254910, кл. H01L 29/744, публ. 1988-02-03 [2]) полупроводниковая пластина с двусторонней металлизацией свободно помещена между двумя Мо термокомпенсаторами. В промышленности данная конструкция появилась и используется до настоящего времени на фирмах Mitsubishi и ABB. Mo термокомпенсаторы свободно вкладываются в мягкое защитное кольцо, надетое на края Si пластины.
Недостатком данного решения является то, что при первом сжатии прибора (обычно для испытаний) контактирующие поверхности взаимно «впечатываются», т.е. отпечатываются края, проявляются отклонения от плоскостности и плоскопараллельности деталей. Помимо этого часто требуется, чтобы приборы допускали хранение и транспортировку в разжатом состоянии, и неоднократное приложение и снятие усилия сжатия. Для свободно расположенных деталей это приводит к их некоторому смещению и потере первоначального контакта, наиболее низкоомного и с наименьшим Rth.
Наиболее близким к предлагаемому решению является решение, описанное в докладе (Prikhodko A.I. and Surma A.M. Proton irradiated 6kV GTO with full pressure contacts, - Conf.Proc. on EPE - 97, Trondheim, 1997, pp.1.507 - 1.512 [3]), где силовой полупроводниковый прибор с полностью прижимными контактами содержит полупроводниковую пластину со слоями n- и p-типа проводимости, расположенную между катодным и анодным термокомпенсаторами с фланцами с диаметром бóльшим, чем диаметр полупроводниковой пластины, размещенными внутри изолирующего кольца.
Однако в описанной конструкции [3] не может быть создано достаточное усилие сжатия, фиксирующее взаимное положение полупроводниковой пластины и термокомпенсаторов, т.к. изолирующее кольцо контактирует только с боковой поверхностью фланцев термокомпенсаторов, а сама возможность достижения взаимной фиксации элементов не указана.
Техническим результатом предлагаемого решения является уменьшение и стабильность значений падения напряжения во включенном состоянии Von и теплового сопротивления прибора Rth путем обеспечения фиксированного положения полупроводниковой пластины относительно верхнего и нижнего термокомпенсаторов.
Для этого в силовом полупроводниковом приборе с полностью прижимными контактами, содержащем полупроводниковую пластину со слоями n- и р-типа проводимости, расположенную между катодным и анодным термокомпенсаторами с фланцами с диаметром бóльшим, чем диаметр полупроводниковой пластины, размещенными внутри изолирующего кольца, новым является то, что края изолирующего кольца охватывают фланцы термокомпенсаторов, заходя на наружные поверхности катодного и анодного термокомпенсаторов не менее чем на 1 мм, при этом изолирующее кольцо выполнено из упругого материала.
В предлагаемом решении за счет захода краев упругого изолирующего кольца на поверхность катодного и анодного термокомпенсаторов и растягивающей деформации кольца при его установке создается предварительное усилие сжатия (стягивающее усилие) со значениями в диапазоне от 1,5 до 150 кг/см2, в результате чего возрастает надежность конструкции.
Известных технических решений с такими признаками не обнаружено.
На чертеже показана конструкция прибора по предлагаемому решению.
Силовой полупроводниковый прибор с полностью прижимными контактами содержит полупроводниковую пластину (1) со слоями n- и p -типа проводимости, расположенную между катодным (2) и анодным (3) термокомпенсаторами с фланцами с диаметром бóльшим, чем диаметр полупроводниковой пластины, которые размещены внутри изолирующего кольца (4). Изолирующее кольцо выполнено из упругого материала, например, капролона. Края (5) изолирующего кольца заходят на наружные поверхности фланцев не менее чем на 1 мм, что создает предварительное усилие сжатия.
При заходе края изолирующего кольца на поверхности фланцев менее чем на 1 мм при пересборках приборов с охладителем возможно смещение изолирующего кольца с края фланца термокомпенсатора, что приводит к потере требуемого предварительного усилия сжатия.
В нашем случае за счет наличия предварительного усилия сжатия полученные значения Von и Rth сохраняются в процессе работы как после хранения и транспортировки прибора в разжатом состоянии, так и после неоднократной пересборки прибора с охладителем.
Пример выполнения
По предлагаемому решению были изготовлены приборы - силовые запираемые тиристоры на кремниевых пластинах с исходным удельным сопротивлением 350 Ом·см, с диаметром 52 мм и толщиной 1 мм. Молибденовые термокомпенсаторы вместе с фланцами имели диаметры 56 мм. Диаметры контактных поверхностей кремниевой пластины со слоями n-и p - типа проводимости и термокомпенсаторов составляли 47 мм.
Первая группа приборов (по предлагаемому решению) была собрана в корпус с применением упругих изолирующих колец, края которых заходили на наружную поверхность фланцев термокомпенсаторов примерно на 2 мм.
Вторая группа приборов (по прототипу) была собрана с изолирующими кольцами меньшей высоты, не заходящими на фланцы термокомпенсаторов.
В обоих случаях манжеты крышки и корпуса приборов при герметизации соединялись с одинаковым натягом.
Для эксперимента были отобраны по 3 прибора из каждой группы.
В таблице приведены значения Von и Rth приборов при приложении первого усилия (для испытаний), а также после 3-х пересборок приборов с охладителями.
№ прибора Первоначальные значения Значения после трех пересборок с охладителями
Von (при I=1000 А) [В] Rth[°C/Вт] Von(при 1=1000 А) [В] Rth [°C/Вт]
Первая группа 1 2,8 0,015 2,8 0,015
2 3,0 0,018 3,0 0,018
3 3,1 0,02 3,1 0,02
Вторая группа 1 3,15 0,025 Не включается
2 2,75 0,02 2,9 0,028
3 2,9 0,022 3,1 0,032
Из таблицы видно, что значения Von и Rth в приборах первой группы после пересборок с охладителями не изменились, а в приборах второй группы - повысились, и один прибор не включился из-за смещения деталей и локального замыкания управляющий электрод-катод.
Предлагаемое решение может быть использовано в конструкциях силовых преобразовательных модулях, в том числе с оптоэлектронным управлением.

Claims (1)

  1. Силовой полупроводниковый прибор с полностью прижимными контактами, содержащий полупроводниковую пластину со слоями n- и p-типа проводимости, расположенную между катодным и анодным термокомпенсаторами с фланцами с диаметром большим, чем диаметр полупроводниковой пластины, размещенными внутри изолирующего кольца, отличающийся тем, что края изолирующего кольца охватывают фланцы термокомпенсаторов, заходя на наружные поверхности катодного и анодного термокомпенсаторов не менее чем на 1 мм, при этом изолирующее кольцо выполнено из упругого материала.
RU2008138829/28A 2008-10-01 2008-10-01 Силовой полупроводниковый прибор с полностью прижимными контактами RU2384915C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2008138829/28A RU2384915C1 (ru) 2008-10-01 2008-10-01 Силовой полупроводниковый прибор с полностью прижимными контактами

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2008138829/28A RU2384915C1 (ru) 2008-10-01 2008-10-01 Силовой полупроводниковый прибор с полностью прижимными контактами

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2384915C1 true RU2384915C1 (ru) 2010-03-20

Family

ID=42137523

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008138829/28A RU2384915C1 (ru) 2008-10-01 2008-10-01 Силовой полупроводниковый прибор с полностью прижимными контактами

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2384915C1 (ru)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2642117C1 (ru) * 2014-02-26 2018-01-24 Инфинеон Текнолоджиз Биполар Гмбх Унд Ко. Кг Улучшенная дисковая ячейка для нескольких контактирующих посредством зажатия полупроводниковых элементов
RU178672U1 (ru) * 2017-09-14 2018-04-17 Открытое акционерное общество "Электровыпрямитель" Мощный полупроводниковый прибор с прижимными контактами
CN109188232A (zh) * 2018-09-06 2019-01-11 河北工业大学 一种igbt模块状态评估与剩余寿命预测模型的构建方法
RU224482U1 (ru) * 2023-12-28 2024-03-26 Российская Федерация, От Имени Которой Выступает Министерство Промышленности И Торговли Российской Федерации Силовой высоковольтный транзистор с изолированным затвором

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Prikhodko A.I. and Surma A.M. Proton irradiated 6kV GTO with full pressure contacts, Conf.Proc. on EPE - 97, Trondheim, 1997, pp.1.507-1.512. *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2642117C1 (ru) * 2014-02-26 2018-01-24 Инфинеон Текнолоджиз Биполар Гмбх Унд Ко. Кг Улучшенная дисковая ячейка для нескольких контактирующих посредством зажатия полупроводниковых элементов
RU178672U1 (ru) * 2017-09-14 2018-04-17 Открытое акционерное общество "Электровыпрямитель" Мощный полупроводниковый прибор с прижимными контактами
CN109188232A (zh) * 2018-09-06 2019-01-11 河北工业大学 一种igbt模块状态评估与剩余寿命预测模型的构建方法
CN109188232B (zh) * 2018-09-06 2021-04-27 河北工业大学 一种igbt模块状态评估与剩余寿命预测模型的构建方法
RU224482U1 (ru) * 2023-12-28 2024-03-26 Российская Федерация, От Имени Которой Выступает Министерство Промышленности И Торговли Российской Федерации Силовой высоковольтный транзистор с изолированным затвором

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Sung et al. Monolithically integrated 4H-SiC MOSFET and JBS diode (JBSFET) using a single ohmic/Schottky process scheme
Fu et al. High performance vertical GaN-on-GaN pn power diodes with hydrogen-plasma-based edge termination
JP6846687B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
US20150060765A1 (en) Semiconductor device
US10804182B2 (en) Semiconductor power module comprising graphene
US10461045B2 (en) Power semiconductor device
JP2013038409A (ja) 集積されたダイオードを備える複合半導体装置
US10217690B2 (en) Semiconductor module that have multiple paths for heat dissipation
US20170229427A1 (en) Semiconductor module and stack arrangement of semiconductor modules
RU2384915C1 (ru) Силовой полупроводниковый прибор с полностью прижимными контактами
CN103579165A (zh) 一种全压接式功率器件
US11862629B2 (en) Semiconductor device
JPWO2018150861A1 (ja) 炭化ケイ素積層基板およびその製造方法
JP5543866B2 (ja) Iii族窒化物エピタキシャル基板
JP2011082331A (ja) 半導体素子
WO2018061711A1 (ja) 半導体装置および製造方法
JP2017054960A (ja) 半導体装置
JP5682102B2 (ja) 逆耐圧を有する縦型窒化ガリウム半導体装置
KR101377165B1 (ko) 직렬 접속식 고전자 이동도 트랜지스터 디바이스 및 그 제조 방법
JP2016171231A (ja) 半導体装置および半導体パッケージ
JP2012227419A (ja) ワイドギャップ半導体装置
US8969959B2 (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
Wakeman et al. Pressure contact IGBT, the ideal switch for high power applications
CN111816623A (zh) 封装半导体器件及其封装方法
JP2022505219A (ja) 浮動性実装を有する電力半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20131002