RU2235684C2 - Method of preparing fine high-porous silica - Google Patents
Method of preparing fine high-porous silica Download PDFInfo
- Publication number
- RU2235684C2 RU2235684C2 RU2002131610/15A RU2002131610A RU2235684C2 RU 2235684 C2 RU2235684 C2 RU 2235684C2 RU 2002131610/15 A RU2002131610/15 A RU 2002131610/15A RU 2002131610 A RU2002131610 A RU 2002131610A RU 2235684 C2 RU2235684 C2 RU 2235684C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- sio
- solution
- silicate
- ammonium
- sodium silicate
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/28—Compounds of silicon
- C09C1/30—Silicic acid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/152—Preparation of hydrogels
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
- C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
- C01B33/193—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
Abstract
Description
Изобретение относится к производству высокодисперсного осажденного диоксида кремния с большим объемом пор, высокой влаго- и маслоемкостью, применяемого в качестве наполнителей для различных материалов - эластомеров, резин, зубных паст, лаков, красок, а также адсорбентов для колоночной хроматографии, удаления нефтяных пятен и т.д.The invention relates to the production of fine precipitated silica with a large pore volume, high moisture and oil absorption, used as fillers for various materials - elastomers, rubbers, toothpastes, varnishes, paints, as well as adsorbents for column chromatography, oil stain removal, and t .d.
В настоящее время при производстве резинотехнических изделий высокого качества и различных эластомеров широко используются армирующие наполнители на основе тонкодисперсного кремнезема (диоксид кремния). При этом качество материала определяется в основном свойствами кремнезема, который соответствует следующим параметрам:Currently, in the manufacture of high quality rubber products and various elastomers, reinforcing fillers based on finely divided silica (silicon dioxide) are widely used. Moreover, the quality of the material is determined mainly by the properties of silica, which corresponds to the following parameters:
- объемная (насыпная) плотность в пределах 0.05-0.3 г/см3;- bulk (bulk) density in the range of 0.05-0.3 g / cm 3 ;
- объем пор более 1,05 см3/г;- pore volume more than 1.05 cm 3 / g;
- влаго- и маслоемкость более 1,5 см3 масла на 1 г.- moisture and oil absorption of more than 1.5 cm 3 oil per 1 g.
Указанные свойства кремнезема обеспечивают хорошее диспергирование и распределение частиц наполнителя в массе основного материала, улучшая при этом пластические и тиксотропные свойства полуфабрикатов и потребительские свойства готовых изделий.The indicated properties of silica provide good dispersion and distribution of filler particles in the bulk of the base material, while improving the plastic and thixotropic properties of semi-finished products and consumer properties of finished products.
Известен пирогенный диоксид кремния (химическая формула - SiO2), получаемый пламенным гидролизом четыреххлористого кремния (SiCl4) высокой чистоты (см. Р.Айлер “Химия кремнезема”. М.: “Мир”, 1982 г., с.634.Known fumed silica (chemical formula - SiO 2 ) obtained by flame hydrolysis of silicon tetrachloride (SiCl 4 ) of high purity (see R. Euler “Silica Chemistry.” M .: “Mir”, 1982, p.634.
Пирогенный диоксид кремния, более известный как “аэросил”, представляет собой очень чистый аморфный непористый диоксид кремния с размером частиц от 5 до 40 мкм. Это чрезвычайно легкий белый порошок. Частицы материала образуют физические хлопьевидные агрегаты, поэтому их объем фактически на 98% заполнен воздухом: если истинная плотность SiO2 составляет 2,2 г/см3, то у пирогенного диоксида он составляет 0,04-0,06 г/см3.Pyrogenic silica, more commonly known as “Aerosil”, is a very pure amorphous non-porous silica with a particle size of 5 to 40 microns. It is an extremely light white powder. Particles of the material form physical flocculent aggregates, therefore their volume is actually 98% filled with air: if the true density of SiO 2 is 2.2 g / cm 3 , then for fumed dioxide it is 0.04-0.06 g / cm 3 .
Основным недостатком у пирогенного диоксида кремния является дорогостоящий способ его получения, что не позволяет его использовать при создании недорогих качественных материалов.The main disadvantage of pyrogenic silicon dioxide is an expensive method for its preparation, which does not allow it to be used when creating inexpensive high-quality materials.
Для применения в качестве наполнителя в менее дорогих материалах и полуфабрикатах используется более дешевый диоксид кремния, получаемый методом осаждения из растворов силикатов щелочных металлов и минеральных или органических солей и/или соответствующим им кислот, например, по патенту РФ №2042620, МКИ С 01 В 33/152, 1995 г., взятый в качестве прототипа, включающий смешивание растворов силиката натрия или калия с концентрацией 3-35 мас.% по SiO2 с раствором сульфата, или карбоната, или бикарбоната, или хлорида, или нитрата аммония, или муравьинокислого, или уксуснокислого аммония концентрации 5-40 мас.%, при отношении общего количества SiO2, добавляемого с силикатом, к количеству аммонийной соли не более 2, с осаждением суспензии гидрогеля при температуре 35-95° С, обеспечивая скорость осаждения 100-270 г SiO2/л в 1 час, после чего осажденный гидрогель диоксида кремния подвергают дополнительной обработке раствором сульфата, или карбоната, или бикарбоната, или хлорида, или нитрата аммония, или муравьинокислого, или уксуснокислого аммония концентрации 5-15 мас.%.For use as a filler in less expensive materials and semi-finished products, cheaper silicon dioxide is used, obtained by precipitation from solutions of alkali metal silicates and mineral or organic salts and / or their corresponding acids, for example, according to RF patent No. 2042620, MKI C 01 V 33 / 152, 1995, taken as a prototype, comprising mixing solutions of sodium silicate or potassium with a concentration of 3-35 wt.% SiO 2 with a solution of sulfate, or carbonate, or bicarbonate, or chloride, or ammonium nitrate, or formic acid or ammonium acetate concentration of 5-40 wt.%, with the ratio of the total amount of SiO 2 added with silicate to the amount of ammonium salt not more than 2, with the deposition of a suspension of hydrogel at a temperature of 35-95 ° C, providing a deposition rate of 100-270 g SiO 2 / L for 1 hour, after which the precipitated silica hydrogel is subjected to an additional treatment with a solution of sulfate, or carbonate, or bicarbonate, or chloride, or ammonium nitrate, or formic acid, or ammonium acetate, at a concentration of 5-15 wt.%.
Основным недостатком известного способа является наличие зон локальных перенасыщений реакционной смеси при скорости осаждения больше 270 г SiO2/л в 1 час, происходящих в результате некорректной подачи силиката натрия в зону реакции. В результате этого получаемый диоксид кремния имеет высокую насыпную плотность (в пределах 0,15-0,25 г/см3) и отличается низкими показателями по влагоемкости (в пределах 2,8-4,4 см3/г) и маслоемкости (в пределах 2,8-4,3 см3/г).The main disadvantage of this method is the presence of zones of local supersaturation of the reaction mixture at a deposition rate of more than 270 g of SiO 2 / L per 1 hour, resulting from an incorrect supply of sodium silicate in the reaction zone. As a result, the resulting silicon dioxide has a high bulk density (in the range of 0.15-0.25 g / cm 3 ) and is characterized by low rates of moisture capacity (in the range of 2.8-4.4 cm 3 / g) and oil absorption (in within 2.8-4.3 cm 3 / g).
Технической задачей, решаемой настоящим изобретением, является устранение указанных недостатков, а именно понижение насыпной плотности с одновременным увеличением показателей по влагоемкости и маслоемкости.The technical problem solved by the present invention is the elimination of these disadvantages, namely lowering the bulk density with a simultaneous increase in moisture absorption and oil absorption.
Указанная техническая задача в способе получения мелкодисперсного высокопористого диоксида кремния, включающем добавление раствора, силиката натрия или калия с концентрацией 3-35 по SiO2 к раствору сульфата, или карбоната, или бикарбоната, или хлорида, или нитрата аммония, или муравьинокислого, или уксуснокислого аммония концентрации 5-40 мас.%, при отношении общего количества SiО2, добавляемого с силикатом, к количеству аммонийной соли не более 2, с последующим осаждением суспензии гидрогеля при температуре 35-95° С, и дополнительной обработке осажденного гидрогеля диоксида кремния раствором сульфата, или карбоната, или бикарбоната, или хлорида, или нитрата аммония, или муравьинокислого, или уксуснокислого аммония в концентрации 5-15 мас.%, достигается тем, что скорость осаждения устанавливают выше 300 г SiO2/л суспензии в 1 час, при исключении зон локальных перенасыщений реакционной смеси при подаче силиката натрия в зону реакции.The specified technical problem in the method of producing finely dispersed highly porous silicon dioxide, comprising adding a solution of sodium silicate or potassium silicate with a concentration of 3-35 by SiO 2 to a solution of sulfate, or carbonate, or bicarbonate, or chloride, or ammonium nitrate, or formic acid, or ammonium acetate concentration of 5-40 wt.%, with the ratio of the total amount of SiO 2 added with silicate to the amount of ammonium salt not more than 2, followed by precipitation of the hydrogel suspension at a temperature of 35-95 ° C, and additional processing precipitated hydrogel of silica with a solution of sulfate, or carbonate, or bicarbonate, or chloride, or ammonium nitrate, or formic acid, or ammonium acetate in a concentration of 5-15 wt.%, is achieved by the fact that the deposition rate is set above 300 g SiO 2 / l suspension at 1 hour, with the exclusion of zones of local oversaturation of the reaction mixture when sodium silicate is fed into the reaction zone.
Указанное получение диоксида кремния методом осаждения из растворов силикатов позволяет существенно повысить показатели по насыпной плотности получаемого материала и увеличить его влаго- и маслоемкость за счет обеспечения равномерности распределения компонентов реакционной смеси по объему реактора, осуществляемое путем мелкодиперсного ввода раствора силиката натрия к раствору аммонийных солей при высокой скорости осаждения.The indicated production of silicon dioxide by precipitation from silicate solutions can significantly increase the bulk density of the resulting material and increase its moisture and oil absorption due to the uniform distribution of the components of the reaction mixture throughout the reactor volume, carried out by finely dispersed sodium silicate solution to a solution of ammonium salts at high deposition rate.
Мелкодисперсный ввод раствора силиката натрия осуществляют при помощи форсунок, расположенных в верхней зоне реактора и обеспечивающих покрытие зоны реакции в пределах 90-120%. При выполнении указанных режимов удается исключить зоны локальных перенасыщений реакционной смеси и обеспечить равномерное распределение компонентов по всему реакционному объему.The finely dispersed input of the sodium silicate solution is carried out using nozzles located in the upper zone of the reactor and providing coverage of the reaction zone in the range of 90-120%. When performing these modes, it is possible to exclude zones of local oversaturation of the reaction mixture and to ensure uniform distribution of components throughout the reaction volume.
Указанное выполнение способа не имеет аналогов среди методов получения диоксида кремния, получаемого методом осаждения из растворов силикатов, что подтверждается параметрами получаемого материала, а следовательно, соответствует критерию “изобретательский уровень”.The specified implementation of the method has no analogues among the methods for producing silicon dioxide obtained by precipitation from solutions of silicates, which is confirmed by the parameters of the obtained material, and therefore meets the criterion of "inventive step".
Заявляемый способ осуществляют следующим образом.The inventive method is as follows.
Раствор силиката натрия или калия с концентрацией 3-35 мас.% по SiO2 (предпочтительно 5-10 мас.% SiO2) добавляют к раствору сульфата, или карбоната, или бикарбоната, или хлорида, или нитрата аммония, или муравьинокислого, или уксуснокислого аммония концентрации 5-40 мас.% (предпочтительно 5-10 мас.%), при отношении общего количества SiO2, добавляемого с силикатом, к количеству аммонийной соли m=GSiO2/Gсоли не более 2 (предпочтительно 0,8), с осаждением суспензии гидрогеля при температуре 35-95° С (предпочтительно 65-75° С), обеспечивая скорость осаждения от 300 г SiO2/л в 1 час и выше (предпочтительно 400 г SiO2/л в 1 час), осажденный гидрогель диоксида кремния отфильтровывают и промывают водой, после чего подвергают дополнительной обработке раствором сульфата, или карбоната, или бикарбоната, или хлорида, или нитрата аммония, или муравьинокислого, или уксуснокислого аммония концентрации 5-15 мас.% (предпочтительно 4-5 мас.%) при температуре 70° С в течение 0,5-1 часа. По окончании катионного обмена гидрогель диоксида кремния отфильтровывают и промывают водой до нейтрального значения рН, после чего полученный гидрогель суспендируют в воде с концентрацией 4-10 мас.% SiO2 и сушат на распылительной сушилке.A solution of sodium or potassium silicate with a concentration of 3-35 wt.% SiO 2 (preferably 5-10 wt.% SiO 2 ) is added to the solution of sulfate, or carbonate, or bicarbonate, or chloride, or ammonium nitrate, or formic acid, or acetic acid ammonia concentration of 5-40 wt.% (preferably 5-10 wt.%), with the ratio of the total amount of SiO 2 added with silicate to the amount of ammonium salt m = G SiO2 / G salt not more than 2 (preferably 0.8), with the deposition of a suspension of hydrogel at a temperature of 35-95 ° C (preferably 65-75 ° C), providing a deposition rate of 300 g SiO 2 / l at 1 hour and above (preferably 400 g of SiO 2 / l at 1 hour), the precipitated silica hydrogel is filtered off and washed with water, after which it is further treated with a solution of sulfate or carbonate or bicarbonate or chloride or ammonium nitrate, or ammonium formate, or ammonium acetate, concentration of 5-15 wt.% (preferably 4-5 wt.%) at a temperature of 70 ° C for 0.5-1 hours. At the end of the cation exchange, the silica hydrogel is filtered off and washed with water to a neutral pH, after which the resulting hydrogel is suspended in water with a concentration of 4-10 wt.% SiO 2 and dried on a spray dryer.
Образцы диоксида кремния, полученные при разных исходных используемых компонентах и различных технологических режимах проведения реакции осаждения, приведены в таблице 1.Samples of silicon dioxide obtained with different initial components used and various technological modes of the deposition reaction are shown in table 1.
Ниже даны некоторые конкретные пояснения по поводу осуществления заявляемого способа.Below are some specific explanations regarding the implementation of the proposed method.
В реактор емкостью 16 м3, снабженный двумя мешалками, заливают 4 м3 сульфата аммония с концентрацией 9 мас.%, предварительно очистив его от механических примесей путем фильтрации, нагревают до 70° С и при интенсивном перемешивании добавляют 1,5 м3 раствора силиката натрия концентрацией 10 мас.% SiO2 (100 г SiO2/л), нагретого до температуры 50° С, с помощью форсунок, обеспечивая скорость подачи Woc=470 г SiO2/лсусп·ч, что соответствует скорости приливания раствора силиката натрия Wпр=25,7 м3/ч. По окончании осаждения суспензию фильтруют на рамном пресс-фильтре, промывают 4 м3 технической воды, промытый осадок помещают в реактор, содержащий 4 м3 сульфата аммония с концентрацией 5 мас.%, нагретого до 70° С, и выдерживают в течение 1 часа при интенсивном перемешивании. Затем суспензию фильтруют, промывают водой и сушат на распылительной сушилке. Полученный сухой силикагель имеет:4 m 3 of ammonium sulfate with a concentration of 9 wt.% Are poured into a reactor with a capacity of 16 m 3 equipped with two stirrers, after having previously purified it from mechanical impurities by filtration, it is heated to 70 ° C and 1.5 m 3 of silicate solution is added with vigorous stirring sodium concentration of 10 wt.% SiO 2 (100 g SiO 2 / L), heated to a temperature of 50 ° C, using nozzles, providing a feed rate of W oc = 470 g SiO 2 / L suspension · h, which corresponds to the rate of pouring of the silicate solution sodium W ol = 25.7 m 3 / h. At the end of the deposition, the suspension is filtered on a frame press filter, washed with 4 m 3 of industrial water, the washed precipitate is placed in a reactor containing 4 m 3 of ammonium sulfate with a concentration of 5 wt.%, Heated to 70 ° C, and incubated for 1 hour at vigorous stirring. Then the suspension is filtered, washed with water and dried on a spray dryer. The resulting dry silica gel has:
- размер частиц до 6 мкм 100%,- particle size up to 6 microns 100%,
- насыпную плотность Δ =0,09 г/см3,- bulk density Δ = 0.09 g / cm 3 ,
- влагоемкость В=5,0 см3 H2O/г SiO2,- moisture capacity B = 5.0 cm 3 H 2 O / g SiO 2 ,
- рН силикагеля 5,4.- pH of silica gel 5.4.
Скорость осаждения силикагеля в предлагаемом изобретении рассчитывают по формуле как количество силикагеля, подаваемого в единицу реакционного объема в единицу времениThe deposition rate of silica gel in the present invention is calculated by the formula as the amount of silica gel supplied per unit of reaction volume per unit time
где 
τ - время приливания раствора силиката, ч;τ is the silica solution pouring time, h;
Vсусп - общий объем суспензии, получаемый при добавлении силиката к раствору аммонийной соли, л.V suspension - the total volume of the suspension obtained by adding silicate to a solution of ammonium salt, L.
Влагоемкость В, см3 H2О/г SiO2 определяли известным методом, измеряя объем воды, поглощаемого навеской порошкообразного силикагеля до момента появления на поверхности образующейся пасты тонкой пленки воды.The moisture capacity of V, cm 3 H 2 O / g SiO 2 was determined by a known method, measuring the amount of water absorbed by a sample of powdered silica gel until a thin film of water appears on the surface of the resulting paste.
Насыпную плотность определяли по общепринятой методике, измеряя объем, занимаемый навеской порошка силикагеля при свободной засыпке в мерный цилиндр при условии Dцилиндра≥8Dчастиц SiO2.Bulk density was determined by a conventional method, measuring the volume occupied by a suspension of silica gel powder with free filling in a graduated cylinder under the condition of a cylinder D of ≥8D SiO 2 particles .
Из приведенных данных в таблице видно, что образцы, полученные согласно предлагаемому изобретению, обладают высокой пористостью, что является свидетельством низкой насыпной плотности 0,09-0,12 г/см3, имеют большие показатели по влагоемкости 4,6-5,0 см3 H2O/г SiO2 и малый размер частиц до 9 мкм. Причем пределы приведенных параметров могут изменяться в лучшую сторону за счет увеличения Wос при сохранении мелкодисперсной подачи раствора силиката натрия или калия в реакционную смесь.From the above data in the table it is seen that the samples obtained according to the invention have high porosity, which is evidence of a low bulk density of 0.09-0.12 g / cm 3 , have large moisture capacity of 4.6-5.0 cm 3 H 2 O / g SiO 2 and a small particle size of up to 9 μm. Moreover, the limits of the above parameters can be changed for the better by increasing W OS while maintaining a finely dispersed supply of a solution of sodium silicate or potassium in the reaction mixture.
Таким образом, заявляемый способ позволяет получать диоксид кремния с меньшей насыпной плотностью (0,09 до 0,12 г/см3) и лучшими показателями по влаго- и маслоемкости по сравнению с прототипом.Thus, the claimed method allows to obtain silicon dioxide with a lower bulk density (0.09 to 0.12 g / cm 3 ) and better moisture and oil absorption compared to the prototype.
Claims (3)
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2002131610/15A RU2235684C2 (en) | 2002-11-25 | 2002-11-25 | Method of preparing fine high-porous silica |
| PCT/RU2003/000580 WO2004047723A2 (en) | 2002-11-25 | 2003-11-21 | Method for producing fine highly porous silicium dioxide |
| AU2003298977A AU2003298977A1 (en) | 2002-11-25 | 2003-11-21 | Method for producing fine highly porous silicium dioxide |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2002131610/15A RU2235684C2 (en) | 2002-11-25 | 2002-11-25 | Method of preparing fine high-porous silica |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2002131610A RU2002131610A (en) | 2004-05-27 |
| RU2235684C2 true RU2235684C2 (en) | 2004-09-10 |
Family
ID=32390764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2002131610/15A RU2235684C2 (en) | 2002-11-25 | 2002-11-25 | Method of preparing fine high-porous silica |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| AU (1) | AU2003298977A1 (en) |
| RU (1) | RU2235684C2 (en) |
| WO (1) | WO2004047723A2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2445261C2 (en) * | 2006-10-13 | 2012-03-20 | Эвоник Дегусса Гмбх | Silicon dioxides with modified surface |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB800694A (en) * | 1954-11-05 | 1958-09-03 | Columbia Southern Chem Corp | Improvements in or relating to silicas |
| SU345763A1 (en) * | 1970-04-29 | 1978-01-30 | Ленинский Горнохимический Завод | Method of preparing white reinforcing agent |
| RU2042620C1 (en) * | 1993-08-02 | 1995-08-27 | Институт катализа им.Г.К.Борескова СО РАН | Method of silicon dioxide producing |
-
2002
- 2002-11-25 RU RU2002131610/15A patent/RU2235684C2/en active IP Right Revival
-
2003
- 2003-11-21 WO PCT/RU2003/000580 patent/WO2004047723A2/en not_active Application Discontinuation
- 2003-11-21 AU AU2003298977A patent/AU2003298977A1/en not_active Abandoned
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2445261C2 (en) * | 2006-10-13 | 2012-03-20 | Эвоник Дегусса Гмбх | Silicon dioxides with modified surface |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2004047723A3 (en) | 2004-08-26 |
| AU2003298977A8 (en) | 2004-06-18 |
| WO2004047723A2 (en) | 2004-06-10 |
| AU2003298977A1 (en) | 2004-06-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FI93823B (en) | Silica in the form of spheres, its method of preparation and its use for the reinforcement of elastomers | |
| AU2008246949B2 (en) | A process for the preparation of finely divided precipitated silica | |
| JPS6374911A (en) | Production of fine spherical silica | |
| RU94035656A (en) | Precipitated silicic acid, process for preparation thereof, and vulcanizable rubber mix | |
| JPH05338B2 (en) | ||
| JP2012504102A (en) | Method for producing high purity SiO2 from silicate solution | |
| CN1421388A (en) | Silica and producing method thereof | |
| RU2012103381A (en) | HYDROPHILIC DIOXIDE AS A FILLER FOR SILICONE RUBBER COMPOSITIONS | |
| JPS6217968B2 (en) | ||
| CN1608032A (en) | Inorganic oxide | |
| JPS61158810A (en) | Production of high-purity silica sol | |
| JP2000247625A (en) | High purity silica sol and its production | |
| CN103466644A (en) | Method for preparing hydrophobic white carbon black | |
| JP5019556B2 (en) | Porous particles and method for producing the same | |
| KR100440996B1 (en) | Composition comprising a liquid absorbed on a support based on precipitate silica | |
| RU2235684C2 (en) | Method of preparing fine high-porous silica | |
| KR20020011820A (en) | The manufacturing method of silica sol | |
| JP3338720B2 (en) | Method for producing composite oxide sol | |
| JP3442120B2 (en) | Method for washing silica hydrogel | |
| JP4421003B2 (en) | Method for producing lithium silicate | |
| JP2021134098A (en) | Silica fine particle fluid dispersion and method for producing the same | |
| RU2042620C1 (en) | Method of silicon dioxide producing | |
| JPH0457606B2 (en) | ||
| CA2592518C (en) | Process for preparing amorphous silica from kimberlite tailing | |
| JP3442119B2 (en) | Method for cleaning silica hydrogel |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PC4A | Invention patent assignment |
Effective date: 20050627 |
|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20061126 |
|
| NF4A | Reinstatement of patent |
Effective date: 20080310 |
|
| PC41 | Official registration of the transfer of exclusive right |
Effective date: 20171016 |